[實用新型]可容置晶舟盒的下沉式感應耦合電漿潔凈機有效
| 申請號: | 202020579909.8 | 申請日: | 2020-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN211376582U | 公開(公告)日: | 2020-08-28 |
| 發明(設計)人: | 王輝 | 申請(專利權)人: | 京隆科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/20 | 分類號: | H01J37/20;H01J37/16;H01J37/32;H01L21/673;H01L21/67;B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京華夏博通專利事務所(普通合伙) 11264 | 代理人: | 劉俊 |
| 地址: | 215123 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 可容置晶舟盒 下沉 感應 耦合 潔凈 | ||
一種可容置晶舟盒的下沉式感應耦合電漿潔凈機,包括:腔體、晶舟盒、抽真空設備、氣密門組件及電漿發射源,腔體內形成一腔室,腔體具有朝上的進入口,晶舟盒內承載著多片晶圓,由進入口下沉進入腔室內,氣密門組件安裝于腔體上且位于進入口處,用以開閉且維持腔室的密封,電漿發射源與抽真空設備分別連通腔室,抽真空設備使腔室內產生真空并維持腔室所需的真空度,電漿發射源對腔室內的晶舟盒發射感應耦合電漿,以轟擊去除晶舟盒及晶圓表面的污染物。
技術領域
本實用新型為一種感應耦合電漿潔凈機的技術領域,尤其指一種利用感應耦合電漿進行轟擊的潔凈機。
背景技術
如圖1所示,為目前使用的等離子清潔機(plasma cleaner)的立體圖,等離子清洗機1是利用電漿來達到常規清洗方法無法達到的效果。電漿是利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態,通過這些活性離子來處理產品表面,從而實現清潔的目的。如圖2所示,為等離子清潔機的內部結構示意圖。等離子清洗機1具有一腔體11,腔體11內有多層間隔載臺12,兩兩面對面配置的的間隔載臺12用以供8英寸(或12英寸)晶圓放置,常見的實施例一次僅供6片放置,每次只能單片進行取放作業,主要是利用電容耦合電漿(CCP,Capacitively Coupled Plasma)放電,由電極負極放電(正極輸出),以清潔正、負極范圍內的晶圓。
在上述等離子清潔機1中,腔體11內每次只能放入6片晶圓,作業效果低,且單片單層放置,除了取放效率差,另外在抽放也具有易刮傷晶圓的風險。另外此類等離子清潔機1是采用電容耦合電漿(CCP)放電方式,對腔體11內清潔區域范圍受限。
實用新型內容
為解決上述的問題,本實用新型的主要目的是提供一種可容置晶舟盒的下沉式感應耦合電漿潔凈機,主要采用現行的晶舟盒來承載晶圓,增加一次清潔晶圓的數目,另外采用感應耦合電漿(Inductively coupled plasma,ICP)的放電方式,對腔室內的清潔區域范圍達到全覆蓋,提升清潔效果及避免刮壞晶圓的風險。
為了實現上述目的,本實用新型一實施例提供的技術方案如下:
一實施例中,提供一種可容置晶舟盒的下沉式感應耦合電漿潔凈機,包括:腔體、晶舟盒、電漿發射源、抽真空設備及氣密門組件,腔體內形成一腔室,腔體具有朝上的進入口,晶舟盒內承載著多片晶圓,并能由進入口下沉進入腔室內,氣密門組件安裝于腔體上且位于進入口處,用以開閉且維持腔室的密封,電漿發射源與抽真空設備分別連通著腔室,抽真空設備使腔室內產生真空并維持腔室所需的真空度,電漿發射源對腔室內發射感應耦合電漿,以轟擊去除晶舟盒及晶圓表面的污染物。
作為較佳優選實施方案之一,晶舟盒相對兩側各具有開口,開口對應著電漿發射源。
作為較佳優選實施方案之一,腔室相對的兩邊分別連通著電漿發射源與抽真空設備。
作為較佳優選實施方案之一,腔室內放置多個并排的晶舟盒,每個晶舟盒的其中一個開口皆對應著電漿發射源。
件為較佳優選實施方案之一,氣密門組件包括兩滑軌、兩滑塊、一門板及一驅動裝置,兩滑軌安裝于腔體上于進入口兩側位置,兩滑塊可在相對應的滑軌上滑行且安裝于門板兩側,驅動裝置負責帶動門板產生線性往復移動,借此利用移動門板在閉合時密封腔室。
與現有技術相比,本實用新型有益效果包括:
1.本實用新型采用晶舟盒一次能承載更多的晶圓進行清潔作業,讓清潔效率提高。
2.由于是整個晶舟盒進出腔室,能避免單片抽取所產生的刮傷,減少產品損壞的風險。
3.本實用新型是采用感應耦合電漿放電,覆蓋范圍達腔室內全區域,因此晶舟盒與晶圓透過電漿轟擊皆能去除表面污染物,除了晶圓獲得良好清潔,后續晶舟盒也無須進行額外的清潔作業。
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