[實用新型]一種等離子體增強化學氣相沉積裝置有效
| 申請號: | 202020553872.1 | 申請日: | 2020-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN212051640U | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發明(設計)人: | 姜興輝;紀海瑞;曲紅杰;白曉磊;林延春 | 申請(專利權)人: | 大連諾豪聯恒電子科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/511 | 分類號: | C23C16/511;C23C16/458 |
| 代理公司: | 沈陽天贏專利代理有限公司 21251 | 代理人: | 陳貞 |
| 地址: | 116000 遼寧省大連市自由貿易試驗*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子體 增強 化學 沉積 裝置 | ||
1.一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,包括用于氣相沉積的反應腔,所述反應腔上方的微波源反應器,所述反應腔中部設置有樣品臺,所述樣品臺設置在升降裝置上,其特征在于,所述升降裝置底端固定在密封板上,所述反應腔底端設置有樣品臺出入口,所述密封板設置在樣品臺出入口處,所述密封板底端固定在驅動板上,所述驅動板的左、右兩側設置有液壓驅動裝置,所述液壓驅動裝置包括伸縮桿,所述兩側的伸縮桿底端分別固定在驅動板側面,所述驅動板下方設置有取樣室,所述取樣室的左右兩側分別設置有吹掃裝置和吸附網,所述吸附網可拆卸的設置在取樣室的側壁上。
2.根據權利要求1所述的一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述升降裝置包括升降液壓桿和升降液壓缸,所述升降液壓桿的頂端固定在樣品臺底端中部,所述升降液壓桿的底端設置在升降液壓缸的輸出端,所述升降液壓缸底座固定在密封板的上表面。
3.根據權利要求1所述的一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述伸縮桿的頂端設置在伸縮液壓缸的輸出端,所述伸縮液壓缸底座固定在樣品臺出入口兩側的反應腔的底部。
4.根據權利要求1所述的一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述吹掃裝置包括吹掃風機和吹掃管,所述吹掃管與吹掃風機相連通,所述吹掃風機固定在吹掃箱外部,所述吹掃管的出氣孔對中樣品臺一側。
5.根據權利要求1所述的一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述驅動板左右兩側設置有導向桿,所述導向桿穿過驅動板豎直且平行設置。
6.根據權利要求5所述的一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述導向桿頂端固定在反應腔底部,底部固定設置有限位塊。
7.根據權利要求1所述的一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述樣品臺出入口的一側設置有擋板,所述擋板的一側設置有推拉桿,所述推拉桿水平設置,所述推拉桿的外端固定在擋板側面,所述推拉桿設置在推拉液壓缸的輸出端,所述推拉液壓缸固定在反應腔側面。
8.根據權利要求1所述的一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述密封板的周圍設置有密封條,所述密封板與樣品臺出入口可密封安裝。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





