[實用新型]一種晶圓片全自動清洗機有效
| 申請號: | 202020538022.4 | 申請日: | 2020-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN212018712U | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發明(設計)人: | 周鵬程;戚孝峰 | 申請(專利權)人: | 爭豐半導體科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 俞光明 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市相城區相城*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶圓片 全自動 清洗 | ||
本實用新型涉及一種晶圓片全自動清洗機,包括機架,機架上設置上料工作區,機架上在上料工作區的一側設置有送料工作區,送料工作區的正下方設置有清洗工作區;上料工作區中設置有上料臺,上料工作區在上料臺的正下方設置有驅動上料臺豎直移動的第一傳動裝置,上料臺上方還設置有上料架;送料工作區中設置有抓取晶圓片的第一取料裝置,送料工作區中還設置有驅動第一取料裝置水平移動的第二傳動裝置;送料工作區中在第一取料裝置的上方還設置有第二取料裝置,送料工作區中還設置有驅動第二取料裝置豎直移動的第三傳動裝置;清洗工作區中在第二取料裝置的正下方水平設置有清洗臺,清洗臺一側還設置有清洗組件,本實用新型具有自動清洗晶圓片的效果。
技術領域
本實用新型涉及晶圓片清洗設備的技術領域,尤其是涉及一種晶圓片全自動清洗機。
背景技術
晶圓片作為LED的主要原材料,其表面潔凈度要求很高,如果殘留的臟物顆粒過多,會嚴重影響到芯片制作的合格率,所以在晶圓片進行拋光工藝之前,首先必須保證晶圓片表面保持一定的清潔度,不至于有過多的垃圾物;所以必須事前對晶圓片進行清洗,傳統的方法是人工利用毛刷對晶圓片表面進行清刷,這種方法效率低,很浪費勞動力,而且一次只能刷洗一片晶圓片,所以需要制造一種能夠提高效率的自動清洗晶圓片的設備。
實用新型內容
針對現有技術存在的不足,本實用新型的目的是提供一種能夠自動清洗晶圓片的全自動清洗機。
本實用新型的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的:一種晶圓片全自動清洗機,包括機架,所述機架上設置有上料工作區,所述機架上在所述上料工作區的一側設置有送料工作區,所述送料工作區的正下方設置有清洗工作區;所述上料工作區中設置有上料臺,所述上料工作區在所述上料臺的正下方設置有驅動上料臺豎直移動的第一傳動裝置,所述上料臺上方還固定設置有用于疊放晶圓片的上料架;所述送料工作區中設置有抓取晶圓片的第一取料裝置,所述送料工作區中還設置有驅動第一取料裝置沿所述機架長度方向上水平移動的第二傳動裝置;所述送料工作區中在所述第一取料裝置的上方還設置有第二取料裝置,所述送料工作區中還設置有驅動第二取料裝置豎直移動的第三傳動裝置;所述清洗工作區中在所述第二取料裝置的正下方水平設置有清洗臺,所述清洗臺一側還設置有清洗組件。
通過采用上述技術方案,工作人員將若干晶圓片水平疊放在上料架上,第一傳動裝置驅動上料架豎直移動并在到達指定位置處時停止,此時,送料工作區的第一取料裝置抓取一片晶圓片并由第二傳動裝置驅動其水平移動,當該被抓取的晶圓片移動至第二取料裝置的正下方時,第二取料裝置抓取該晶圓片,第三傳動裝置驅動第二取料裝置向下移動,第二取料裝置將該晶圓片放置到清洗工作區的清洗臺上,設置在清洗臺一側的清洗組件對該晶圓片進行清洗,清洗結束后晶圓片再次被放置在上料架中,然后第一傳動裝置驅動上料架移動,使下一片晶圓片到達指定位置處,重復上述過程即可完成對晶圓片的自動清洗。
本實用新型在一較佳示例中可以進一步配置為:所述上料架包括兩塊豎直設置的上料板,在所述機架寬度方向上,兩塊所述上料板關于上料臺的中心對稱設置,在兩塊所述上料板之間相對的側面上均水平設置有若干層上料槽,位于同一水平面上的兩個上料槽之間插入有一個晶圓片。
通過采用上述技術方案,工作人員可以將若干待清洗的晶圓片水平疊放在上料架上,便于第一取料裝置進行抓取。
本實用新型在一較佳示例中可以進一步配置為:所述送料工作區中在所述第一取料裝置的下方還水平設置有兩條滑軌,兩條所述滑軌沿所述機架長度方向設置,且在所述機架寬度方向上,兩條所述滑軌分別設置在所述送料工作區的兩側,兩條所述滑軌的一端還連接有驅動兩條滑軌相對移動的第四傳動裝置。
通過采用上述技術方案,當第一取料裝置抓取晶圓片進行移動時,晶圓片可以在兩條滑軌上進行移動,滑軌起到承重的作用,防止晶圓片在移動過程中損壞,第四傳動裝置驅動兩條滑軌相向或相反運動,防止滑軌在第二取料裝置向下移動時對其造成干涉。
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