[實用新型]一種晶圓片全自動清洗機

有效

• 申請號: 202020538022.4
• 申請日: 2020-04-13
• 公開（公告）號: CN212018712U
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發明（設計）人: 周鵬程;戚孝峰
• 申請（專利權）人: 爭豐半導體科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司 11508
• 代理人: 俞光明

1.一種晶圓片全自動清洗機，包括機架(1)，其特征在于：所述機架(1)上設置有上料工作區(2)，所述機架(1)上在所述上料工作區(2)的一側設置有送料工作區(3)，所述送料工作區(3)的正下方設置有清洗工作區(5)；所述上料工作區(2)中設置有上料臺(21)，所述上料工作區(2)在所述上料臺(21)的正下方設置有驅動上料臺(21)豎直移動的第一傳動裝置(22)，所述上料臺(21)上方還固定設置有用于水平疊放晶圓片的上料架(23)；所述送料工作區(3)中設置有抓取晶圓片的第一取料裝置(31)，所述送料工作區(3)中還設置有驅動第一取料裝置(31)沿所述機架(1)長度方向上水平移動的第二傳動裝置(32)；所述送料工作區(3)中在所述第一取料裝置(31)的上方還設置有第二取料裝置(33)，所述送料工作區(3)中還設置有驅動第二取料裝置(33)豎直移動的第三傳動裝置(34)；所述清洗工作區(5)中在所述第二取料裝置(33)的正下方水平設置有清洗臺(52)，所述清洗臺(52)一側還設置有清洗組件(51)。

2.根據權利要求1所述的一種晶圓片全自動清洗機，其特征在于：所述上料架(23)包括兩塊豎直設置的上料板(231)，在所述機架(1)寬度方向上，兩塊所述上料板(231)關于上料臺(21)的中心對稱設置，在兩塊所述上料板(231)之間相對的側面上均水平設置有若干層上料槽(232)，位于同一水平面上的兩個上料槽(232)之間插入有一個晶圓片。

3.根據權利要求2所述的一種晶圓片全自動清洗機，其特征在于：所述送料工作區(3)中在所述第一取料裝置(31)的下方還水平設置有兩條滑軌(4)，兩條所述滑軌(4)沿所述機架(1)長度方向設置，且在所述機架(1)寬度方向上，兩條所述滑軌(4)分別設置在所述送料工作區(3)的兩側，兩條所述滑軌(4)的一端還連接有驅動兩條滑軌(4)相對移動的第四傳動裝置。

4.根據權利要求3所述的一種晶圓片全自動清洗機，其特征在于：所述第二取料裝置(33)包括水平設置的取料盤(331)，所述取料盤(331)底部四周對稱設置有若干吸嘴(332)。

5.根據權利要求4所述的一種晶圓片全自動清洗機，其特征在于：所述清洗臺(52)呈圓盤狀，且底部設置有驅動清洗臺(52)繞其圓心轉動的第一驅動電機，所述清洗臺(52)四周對稱設置有若干限位機構(53)。

6.根據權利要求5所述的一種晶圓片全自動清洗機，其特征在于：所述限位機構(53)包括水平設置的連接板(531)，所述連接板(531)的一端與清洗臺(52)固定連接，所述連接板(531)遠離清洗臺(52)的一端鉸接有卡爪(532)，所述卡爪(532)位于所述連接板(531)下方的長度大于其位于所述連接板(531)上方的長度。

7.根據權利要求6所述的一種晶圓片全自動清洗機，其特征在于：所述清洗組件(51)包括豎直設置的第二驅動電機(511)，所述第二驅動電機(511)的轉軸上連接有水平設置的清洗臂(512)，所述清洗臂(512)設置在所述清洗臺(52)的上方，所述清洗臂(512)上還設置有噴淋頭(513)。

8.根據權利要求7所述的一種晶圓片全自動清洗機，其特征在于：所述送料工作區(3)靠近所述上料工作區(2)的一側，在所述第一取料裝置(31)的上方還設置有靜電消除器(6)。