[實用新型]一種基于芬頓反應的廢水處理裝置

有效

• 申請號: 202020406633.3
• 申請日: 2020-03-26
• 公開（公告）號: CN212293089U
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 駱堅平;何曼妮;潘濤;郭行
• 申請（專利權）人: 江蘇瀧濤環境技術有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04
• 代理公司: 北京博訊知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11593
• 代理人: 劉馨月

1.一種基于芬頓反應的廢水處理裝置，包括主體反應區(100)與凈水分離區(200)，所述主體反應區(100)用于實現待處理水的芬頓氧化處理、加堿平衡pH值處理以及輸出包括絮狀Fe(OH)₃的中間水體，其特征在于，所述凈水分離區(200)包括絮凝槽(1)以及沉淀槽(2)，所述絮凝槽(1)設置在所述沉淀槽(2)內并靠上布置，所述絮凝槽(1)開設有絮凝劑投放口(11)，所述絮凝槽(1)的入水口與所述主體反應區(100)的絮狀Fe(OH)₃中間水體排水口連通，所述絮凝槽(1)的出水口與所述沉淀槽(2)的內腔連通，所述沉淀槽(2)側壁開設有凈水口(21)，所述沉淀槽(2)的底部設置有排泥口(22)。

2.如權利要求1所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述主體反應區(100)包括第一pH調節槽(3)和氧化反應槽(4)，所述第一pH調節槽(3)開設有進水口(31)、硫酸供給口(32)以及硫酸亞鐵供給口(33)，所述氧化反應槽(4)與所述第一pH調節槽(3)連通，所述氧化反應槽(4)開設有雙氧水供給口(41)。

3.如權利要求2所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述第一pH調節槽(3)的進水口(31)、硫酸供給口(32)以及硫酸亞鐵供給口(33)均靠近所述第一pH調節槽(3)的底部設置；所述第一pH調節槽(3)的出水口遠離第一pH調節槽(3)的底部設置。

4.如權利要求3所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述主體反應區(100)還包括第一布氣裝置(5)，所述第一布氣裝置(5)設于所述第一pH調節槽(3)的底部。

5.如權利要求2所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述第一pH調節槽(3)與氧化反應槽(4)共用一側壁，該側壁上開設有第一過流口(34)，所述第一過流口(34)遠離所述第一pH調節槽(3)的底部設置。

6.如權利要求5所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述主體反應區(100)還包括第一pH計(6a)，所述第一pH計(6a)伸入所述第一pH調節槽(3)并鄰近所述第一過流口(34)設置。

7.如權利要求5所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述雙氧水供給口(41)鄰近所述第一過流口(34)設置。

8.如權利要求2或7所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述主體反應區(100)還包括第二布氣裝置(7)，所述第二布氣裝置(7)設于所述氧化反應槽(4)的底部。

9.如權利要求2所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述主體反應區(100)還包括第二pH調節槽(8)，所述第二pH調節槽(8)開設有堿藥供給口(81)，所述第二pH調節槽(8)分別與所述氧化反應槽(4)及絮凝槽(1)連通。

10.如權利要求9所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述堿藥供給口(81)鄰近所述第二pH調節槽(8)的底部設置，所述主體反應區(100)還包括設置于第二pH調節槽(8)底部的第三布氣裝置(9)。

11.如權利要求9所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述第二pH調節槽(8)與所述氧化反應槽(4)共用一側壁，該側壁上開設有第二過流口(42)，所述第二過流口(42)遠離所述氧化反應槽(4)的底部設置。

12.如權利要求9或11所述的基于芬頓反應的廢水處理裝置，其特征在于，所述第二pH調節槽(8)與所述絮凝槽(1)共用一側壁，該側壁上開設有第三過流口(82)，所述第三過流口(82)遠離所述第二pH調節槽(8)的底部設置，所述絮凝劑投放口(11)鄰近所述第三過流口(82)設置。