[實用新型]粉塵測量組件、極片粉塵含量測量裝置及極片生產(chǎn)設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020358056.5 | 申請日: | 2020-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN212722500U | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊立華;邵紫龍 | 申請(專利權(quán))人: | 山東宏勻納米科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N15/06 | 分類號: | G01N15/06 |
| 代理公司: | 深圳市深弘廣聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44449 | 代理人: | 易涵冰 |
| 地址: | 271600 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 粉塵 測量 組件 含量 裝置 生產(chǎn) 設(shè)備 | ||
1.一種極片粉塵含量測量裝置,其特征在于,所述裝置包括:
過輥安裝桿;
設(shè)置在所述過輥安裝桿上的過輥組;
與所述過輥組相鄰設(shè)置的至少一個粉塵測量組件;
所述粉塵測量組件包括面向所述過輥組設(shè)置的至少一個負壓吸塵罩,以及與所述負壓吸塵罩對應(yīng)設(shè)置的風刀組件,所述負壓吸塵罩的負壓管道上設(shè)置有粉塵濃度測量設(shè)備,所述粉塵濃度測量設(shè)備的一端插入所述負壓管道中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置包括兩個粉塵測量組件,分別設(shè)置在所述過輥組的兩側(cè)相鄰位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,所述風刀組件包括蓋板,安裝在所述蓋板上的風刀,所述風刀包括調(diào)整墊片,進風管,出風管,以及設(shè)置在所述進風管和所述出風管之間的穩(wěn)壓腔;其中,所述進風管一側(cè)進壓縮空氣,所述出風管出高速風。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述過輥組包括至少一個過輥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括安裝板,所述過輥安裝桿固定設(shè)置在所述安裝板上。
6.一種粉塵測量組件,所述組件設(shè)置在前述權(quán)利要求1所述的極片粉塵含量測量裝置中,所述組件用于測量極片粉塵含量,其特征在于,所述粉塵測量組件包括面向所述極片粉塵含量測量裝置中的過輥組兩側(cè)邊緣設(shè)置的負壓吸塵罩,以及與所述負壓吸塵罩對應(yīng)設(shè)置的風刀組件,所述負壓吸塵罩的負壓管道上設(shè)置有粉塵濃度測量設(shè)備,所述粉塵濃度測量設(shè)備的一端插入所述負壓管道中。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粉塵測量組件,其特征在于,所述風刀組件包括蓋板,安裝在所述蓋板上的風刀,所述風刀包括調(diào)整墊片,進風管,出風管,以及設(shè)置在所述進風管和所述出風管的穩(wěn)壓腔;其中,所述進風管一側(cè)進壓縮空氣,所述出風管出高速風。
8.一種極片生產(chǎn)設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括:
控制設(shè)備;
如權(quán)利要求1至權(quán)利要求5所述的極片粉塵含量測量裝置,或者如權(quán)利要求6至權(quán)利要求7所述的粉塵測量組件。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東宏勻納米科技有限公司,未經(jīng)山東宏勻納米科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202020358056.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:測繪機器人
- 下一篇:一種腫瘤護理用的碎藥裝置





