[實用新型]可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃有效
| 申請號： | 202020356546.1 | 申請日： | 2020-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN212713273U | 公開（公告）日： | 2021-03-16 |
| 發明（設計）人： | 曾小綿;白振中 | 申請（專利權）人： | 湖南旗濱節能玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/36 | 分類號： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人： | 謝閱 |
| 地址： | 412200 湖南省*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 可鋼化不 膜雙銀低 輻射 玻璃 | ||
1.一種可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃包括依次設置的玻璃、底層電介質組合層、中間電介質組合層、頂層電介質組合層，其中，中間電介質組合層和底層電介質組合層之間以及中間電介質組合層和頂層電介質組合層之間分別設置有阻擋結構，所述阻擋結構包括依次設置的第一阻擋層、細晶銀層、第二阻擋層，所述第一阻擋層和所述第二阻擋層分別與所述細晶銀層形成銀鎳合金層。
2.如權利要求1所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃還包括氧化物耐磨層，所述氧化物耐磨層設于所述頂層電介質組合層的上部。
3.如權利要求1所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述底層電介質組合層的數量至少為一層，所述底層電介質組合層的膜層結構包括依次設置的低折射率透明電介質材料層和高折射率透明電介質材料層；和/或，
所述中間電介質組合層數量至少為一層，所述中間電介質組合的膜層結構包括依次設置的低折射率透明電介質材料層、高折射率透明電介質材料層、低折射率透明電介質材料層及高折射率透明電介質材料層；和/或，
所述頂層電介質組合層數量至少為一層，所述頂層電介質組合層的膜層結構包括依次設置的高折射率透明電介質材料層和低折射率透明電介質材料層。
4.如權利要求3所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述低折射率透明電介質材料層的材料為SiNx、SiBNx、SiBOx中的一種。
5.如權利要求4所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述高折射率透明電介質材料層的材料為SiZrNx、ZrOx中的一種。
6.如權利要求5所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述底層電介質組合層、所述中間電介質組合層及所述頂層電介質組合層的材料為SiNx、SiZrNx、SiBNx中的一種。
7.如權利要求5所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述底層電介質組合層、所述中間電介質組合層及所述頂層電介質組合層的材料為ZrOx、SiBOx中的一種。
8.如權利要求3至7任一項所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述低折射率透明電介質材料的折射率范圍為1.0～1.9；和/或，
所述高折射率透明電介質材料的折射率范圍為2.0～2.5。
9.如權利要求3至7任一項所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述底層電介質組合層的厚度為28～45nm；和/或，
所述中間電介質組合層的厚度為67～85nm；和/或，
所述頂層電介質組合層的厚度為30～45nm；和/或，
所述細晶銀層的厚度大于6nm；和/或，
所述第一阻擋層及所述第二阻擋層的厚度大于1nm。
10.如權利要求3至7任一項所述的可鋼化不除膜雙銀低輻射玻璃，其特征在于，所述第一阻擋層和所述第二阻擋層的材料為NiCr、NiCrOx、NiCrNx中的一種。
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