[實(shí)用新型]晶圓清潔裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020326098.0
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN211605107U
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳國良;劉孟勇
• 申請（專利權(quán)）人: 長江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 北京成創(chuàng)同維知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11449
• 代理人: 蔡純;楊思雨

1.一種晶圓清潔裝置，包括：

清洗室，用于容納超聲波傳遞介質(zhì)；

超聲波發(fā)生器，用于提供超聲波，使得所述超聲波傳遞介質(zhì)在超聲波的作用下振動(dòng)；以及

晶圓放置機(jī)構(gòu)，位于所述清洗室內(nèi)，用于將晶圓定位于所述超聲波傳遞介質(zhì)內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清潔裝置，其中，所述晶圓放置機(jī)構(gòu)配置為至少能支撐一個(gè)晶圓的邊緣。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶圓清潔裝置，其中，所述晶圓放置機(jī)構(gòu)包括至少一個(gè)支撐部，所述至少一個(gè)支撐部在重力方向上依次固定相連，每個(gè)所述支撐部用于支撐相應(yīng)的一個(gè)所述晶圓的邊緣。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓清潔裝置，其中，每個(gè)所述支撐部包括至少2個(gè)支持件，每個(gè)所述支持件的支撐面用于支撐相應(yīng)的晶圓的邊緣，且每個(gè)所述支持件的支撐面整體上沿著與重力方向呈銳角的方向延伸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶圓清潔裝置，其中，所述支撐面為弧面、平面、階梯狀表面、波浪狀表面、鋸齒狀表面或不規(guī)則凹凸?fàn)畋砻妗?/p>

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶圓清潔裝置，還包括調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，與所述晶圓放置機(jī)構(gòu)連接，用于所述支撐部所圍成的圓周半徑。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓清潔裝置，其中，每個(gè)所述支撐部包括弧狀支持件，

所述弧狀支持件的支撐面用于支撐相應(yīng)的晶圓的邊緣，且每個(gè)所述弧狀支持件的支撐面整體上沿著與重力方向呈銳角的方向延伸。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶圓清潔裝置，其中，所述弧狀支持件的所述支撐面為弧面、平面、階梯狀表面、波浪狀表面、鋸齒狀表面或不規(guī)則凹凸?fàn)畋砻妗?/p>

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一所述的晶圓清潔裝置，其中，所述超聲波傳遞介質(zhì)包括去離子水或有機(jī)溶劑。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一所述的晶圓清潔裝置，還包括：

干燥室，用于容納惰性氣體；以及

晶圓承載機(jī)構(gòu)，位于所述干燥室內(nèi)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的晶圓清潔裝置，其中，所述晶圓承載機(jī)構(gòu)包括與用于和晶圓接觸的可旋轉(zhuǎn)部件，所述可旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)軸線與所述晶圓的表面垂直并經(jīng)過所述晶圓的中心/重心。