[實用新型]一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置

有效

• 申請號: 202020302213.0
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN212713729U
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 馮斌;王德苗;金浩
• 申請（專利權）人: 蘇州求是真空電子有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/50;C23C14/04
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，包括濺射靶源（100）、安裝在濺射靶源（100）上的靶（1）和載臺（200），其特征在于：所述濺射靶源（100）上的靶（1）與所述載臺（200）平行對置；所述濺射靶源（100）包括靶源座（4）和磁鋼，所述濺射靶源（100）的磁鋼和靶（1）在所述靶源座（4）上靠近所述載臺（200）的一側由近及遠地固定設置；

所述載臺（200）包括載臺座（10）、第一板狀磁鋼（11）和磁靴（12），所述載臺（200）的第一板狀磁鋼（11）和磁靴（12）在所述載臺座（10）上遠離所述濺射靶源（100）的一側由近及遠地固定設置。

2.根據權利要求1所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述靶源座（4）靠近所述載臺（200）的一側設有安裝槽I（4.1），所述濺射靶源（100）的磁鋼設于所述安裝槽I（4.1）中，所述靶（1）固設于所述安裝槽I（4.1）的槽口處。

3.根據權利要求2所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述濺射靶源（100）的磁鋼包括緊密貼合設置的第二板狀磁鋼（2）和小磁鋼（3），所述安裝槽I（4.1）的槽底設有安裝槽II（4.6），所述小磁鋼固設于所述安裝槽II（4.6）中。

4.根據權利要求3所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述小磁鋼（3）膠接固設于所述安裝槽II（4.6）中，所述第二板狀磁鋼（2）的兩側涂覆導熱涂層，其緊貼所述小磁鋼（3）的一側還與所述安裝槽I（4.1）的槽底緊密貼合，與該側相對的另一側與所述靶（1）緊密貼合。

5.根據權利要求1所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述載臺座（10）遠離所述濺射靶源（100）的一側設有安裝槽III（10.1），所述載臺（200）的第一板狀磁鋼（11）設于所述安裝槽III（10.1）中，所述磁靴（12）固設于所述安裝槽III（10.1）的槽口處。

6.根據權利要求1所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述靶源座（4）遠離所述載臺（200）的一側設有腔體（4.2）和密封所述腔體（4.2）的密封板（5）；所述腔體（4.2）中設有中心柱（4.4）和若干針狀結構（4.5），所述密封板（5）的中心孔（5.1）和所述中心柱（4.4）之間密封連接；所述密封板（5）設有進出、水管道（5.2、5.3）。

7.根據權利要求6所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述密封板（5）與所述靶源座（4）之間通過密封圈密封連接，所述密封板（5）的中心孔（5.1）和所述中心柱（4.4）之間通過軸封（6）密封連接。

8.根據權利要求6所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述濺射靶源（100）還包括安裝環（7），所述安裝環（7）、密封板（5）和靶源座（4）通過螺釘I（14）依次固連，所述靶（1）和所述靶源座（4）通過螺釘II（9）固連，所述磁靴（12）和所述載臺座（10）通過螺釘III（13）固連；所述安裝環（7）和所述密封板（5）之間通過絕緣組件（8）相互絕緣設置。

9.根據權利要求8所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述絕緣組件（8）包括絕緣套（8.1）和絕緣環（8.2），所述絕緣套（8.1）設于所述螺釘I（14）和所述安裝環（7）上供所述螺釘I（14）穿過的孔之間，所述絕緣環（8.2）設于所述安裝環（7）和所述密封板（5）之間。

10.根據權利要求1所述的一種能夠改善內壁鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其特征在于：所述靶（1）與所述載臺座（10）之間的距離為1～10cm，所述濺射靶源（100）中的磁鋼的磁極方向與所述載臺（200）中的第一板狀磁鋼（11）的磁極方向一致。