[實用新型]一種關于電子槍與坩堝和工件架的新結構設計的鍍膜裝置有效
| 申請號: | 202020297660.1 | 申請日: | 2020-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN211814629U | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發明(設計)人: | 郭錦龍;王殿儒;程云立;馬華;付久龍;武金魁 | 申請(專利權)人: | 長鈦工程技術研究院(北京)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30;C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京知匯林知識產權代理事務所(普通合伙) 11794 | 代理人: | 楊華 |
| 地址: | 100040 北京市石景山*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 關于 電子槍 坩堝 工件 結構設計 鍍膜 裝置 | ||
本實用新型涉及機械設備技術領域,尤其為一種關于電子槍與坩堝和工件架的新結構設計的鍍膜裝置,包括電子槍、坩堝、工件架以及鍍膜設備筒體,所述電子槍下端設有鍍膜設備筒體,所述鍍膜設備筒體由外筒體和內筒體組成,所述外筒體和內筒體之間設有冷卻水,所述電子槍和鍍膜設備筒體連接處設有接連法蘭,所述電子槍下端中間處設有電子束,所述鍍膜設備筒體內部下端設有坩堝支架,所述坩堝支架上端設有坩堝,所述鍍膜設備筒體內部靠近坩堝兩側設有工件架,所述工件架上設有工件,電子槍在蒸發坩堝的正上方,便于對電子束掃描區域的控制,避免蒸發坩堝和真空室的損壞,電子槍遠離蒸發坩堝減少了金屬蒸汽對電子槍的沉積,整體效果好。
技術領域
本實用新型涉及機械設備技術領域,具體為一種關于電子槍與坩堝和工件架的新結構設計的鍍膜裝置。
背景技術
大功率電子槍蒸發鍍膜是通過電子槍產生的電子束轟擊到坩堝中蒸發材料使其蒸發,最后沉積在被鍍件表面上獲得蒸發物膜層。大功率電子槍在真空室的安裝位置一般是把電子槍傾斜一定角度安裝布置真空室壁上,電子束對蒸發坩堝中的金屬進行直線轟擊加熱使坩堝中的金屬融化蒸發附著在工件上,或者把電子槍安裝布置在真空室側壁上與坩堝呈90°角,通過真空室內的外加磁場對電子束進行偏轉后對坩堝內要蒸發的金屬進行轟擊加熱使金屬融化蒸發附著在工件上。兩種電子槍安裝方式都有一定的缺點:電子槍傾斜放置方法,由于蒸發坩堝與被鍍件之間的距離比較短,這就決定了電子槍與蒸發坩堝的夾角比較小,在調整掃描區域時很容易使電子束偏離目標轟擊到蒸發熔池以外的區域如坩堝的側壁或者真空室內壁,造成坩堝和真空室的損壞。而且在坩堝長度方向以坩堝中心為分界的左右兩個區域,電子束在掃描時的角度不同造成兩邊加熱功率不一致,如不修正則造成坩堝的蒸發量不均勻直接了影響產品的質量。電子槍水平安裝與坩堝呈90°夾角,電子槍產生的電子束用磁場偏轉再轟擊下方的坩堝中的蒸發材料,這需要在真空室內電子束偏轉區域內安裝兩個很大的偏轉電磁線圈用來產生磁場,而且真空室內坩堝附近的輻射溫度非常高,因此偏轉電磁線圈需要水冷,給真空室的加工和真空室內器件的布置帶來不便,因此需要一種關于電子槍與坩堝和工件架的新結構設計的鍍膜裝置對上述問題做出改善。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種關于電子槍與坩堝和工件架的新結構設計的鍍膜裝置,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
一種關于電子槍與坩堝和工件架的新結構設計的鍍膜裝置,包括電子槍、坩堝、工件架以及鍍膜設備筒體,所述電子槍下端設有鍍膜設備筒體,所述鍍膜設備筒體由外筒體和內筒體組成,所述外筒體和內筒體之間設有冷卻水,所述電子槍和鍍膜設備筒體連接處設有接連法蘭,所述電子槍下端中間處設有電子束,所述鍍膜設備筒體內部下端設有坩堝支架,所述坩堝支架上端設有坩堝,所述鍍膜設備筒體內部靠近坩堝兩側設有工件架,所述工件架上設有工件。
優選的,所述電子槍與坩堝垂直布置,所述電子槍與坩堝之間的距離大于工件與坩堝之間的距離。
優選的,所述電子槍與坩堝的數量均可大于等于一,且每一個所述電子槍對應一個坩堝。
優選的,所述電子槍通過接連法蘭螺栓連接在鍍膜設備筒體上。
優選的,所述工件架設有兩組,且兩個所述工件架之間設有電子束的掃描通道。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:
1、本實用新型中,通過設置的電子槍,電子槍與坩堝的數量均可大于等于一,且每一個電子槍對應一個坩堝,電子槍通過接連法蘭螺栓連接在鍍膜設備筒體上,電子槍在蒸發的坩堝的正上方,便于對電子束掃描區域的控制,避免蒸發的坩堝和真空室的損壞。
2、本實用新型中,通過設置的坩堝,電子槍與坩堝垂直布置,電子槍與坩堝之間的距離大于工件與坩堝之間的距離,電子槍遠離蒸發的坩堝減少了金屬蒸汽對電子槍的沉積。
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