[實用新型]硅片輸運(yùn)裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020286883.8 | 申請日: | 2020-03-10 |
| 公開(公告)號: | CN211529927U | 公開(公告)日: | 2020-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 夏世偉;陳炯;洪俊華;杰夫·貝克;張長勇;王占柱 | 申請(專利權(quán))人: | 上海臨港凱世通半導(dǎo)體有限公司;上海凱世通半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人: | 薛琦;張冉 |
| 地址: | 201306 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅片 輸運(yùn) 裝置 | ||
本實用新型公開了一種硅片輸運(yùn)裝置,包括兩個預(yù)抽真空裝置和真空輸運(yùn)裝置,真空輸運(yùn)裝置用于在真空狀態(tài)下在預(yù)抽真空裝置和工藝處理裝置之間傳輸硅片,真空輸運(yùn)裝置包括:真空輸運(yùn)腔室、兩個搬運(yùn)機(jī)器人和中轉(zhuǎn)臺。兩個搬運(yùn)機(jī)器人中均有兩個可獨(dú)立動作的機(jī)械手,通過兩個機(jī)械手的有序配合,使用一個機(jī)器人可對同一工位執(zhí)行硅片交換。當(dāng)一個搬運(yùn)機(jī)器人在預(yù)抽真空裝置和過渡中轉(zhuǎn)臺之間傳輸硅片時,另一個搬運(yùn)機(jī)器人在中轉(zhuǎn)臺和工藝處理裝置之間傳輸硅片。由于使用了具有兩個可以獨(dú)立動作的機(jī)械手的機(jī)器人對同一個工位進(jìn)行硅片交換的技術(shù),結(jié)合以具有多自由度的兩個機(jī)械手,使得硅片傳輸可以高速進(jìn)行,提高整體的產(chǎn)能。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種輸運(yùn)裝置,特別涉及一種用于需要在大氣側(cè)和真空側(cè)之間對硅片進(jìn)行輸運(yùn)的真空設(shè)備的硅片輸運(yùn)裝置。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,需要使用各種類型的工藝設(shè)備,幾乎所有工藝設(shè)備都需要配置硅片傳輸裝置。隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展及其規(guī)模的不斷擴(kuò)大,對工藝設(shè)備的產(chǎn)能要求不斷提高。鑒于工藝設(shè)備技術(shù)的進(jìn)步,工藝處理能力得到了很大提升,從而使硅片輸運(yùn)過程日漸成為產(chǎn)能提升的瓶頸。為了滿足半導(dǎo)體設(shè)備對產(chǎn)能提升的需求,開發(fā)高效率的硅片傳輸系統(tǒng)已迫在眉睫。由于在很多半導(dǎo)體加工設(shè)備中,被加工的硅片在加工過程(例如離子注入)中處于真空狀態(tài),而在一些其他過程(例如不同加工設(shè)備之間的搬運(yùn)過程)中處于大氣狀態(tài),因而抽真空和破真空的工序?qū)φ麄€制程的加工效率有著一定的影響。
傳統(tǒng)的硅片傳輸系統(tǒng),硅片輸運(yùn)循環(huán)時間較長,設(shè)備產(chǎn)能受到硅片輸運(yùn)效率的限制。US5486080中公開了幾種真空處理中工件的高速移動方式(參見其圖2和圖3),一種方式為:采用一種硅片輸運(yùn)裝置,該裝置主要由兩個預(yù)抽真空裝置(Loadlock)和兩個機(jī)械手構(gòu)成。該裝置的兩個預(yù)抽真空裝置同時作業(yè):在兩個預(yù)抽真空裝置都被充氣至大氣壓后,將待處理的硅片放入其中,然后對兩個預(yù)抽真空裝置同時抽真空,達(dá)到設(shè)定的真空度后,由兩個機(jī)械手輪流將兩個預(yù)抽真空裝置中的硅片逐個取出傳送至工藝平臺進(jìn)行工藝處理,完成工藝處理后的硅片再傳回預(yù)抽真空裝置。兩個機(jī)械手分別對應(yīng)于兩個預(yù)抽真空裝置。在硅片進(jìn)行工藝處理的周期內(nèi),一個機(jī)械手將上次處理完成的硅片傳回至對應(yīng)的預(yù)抽真空裝置,再從該預(yù)抽真空裝置中取出下一片向工藝裝置運(yùn)動;同時,另一個機(jī)械手在工藝裝置附近等待,準(zhǔn)備接受當(dāng)前正在進(jìn)行工藝處理的硅片。兩個機(jī)械手按照這樣的運(yùn)行時序,輪流作業(yè),直至兩個預(yù)抽真空裝置中的所有硅片全部處理完成。這樣一種硅片輸運(yùn)裝置,在兩個預(yù)抽真空裝置進(jìn)行充氣(破真空)和抽真空的時候,工藝處理裝置完全處于等待狀態(tài),浪費(fèi)了寶貴的工藝處理時間。由于預(yù)抽真空裝置進(jìn)行充氣/抽真空的過程需要很長時間,導(dǎo)致無法提高硅片輸送效率,因而這種硅片輸運(yùn)裝置產(chǎn)能很低。
通過改進(jìn),US5486080提出一種設(shè)有過渡承片機(jī)構(gòu)的硅片輸運(yùn)裝置,主要由兩個預(yù)抽真空裝置,兩個搬運(yùn)機(jī)器人,一個中轉(zhuǎn)臺構(gòu)成。不同于上述裝置之處在于:兩個預(yù)抽真空裝置并非同時工作而是輪流工作,當(dāng)對其中一個預(yù)抽真空裝置中的硅片進(jìn)行工藝處理的過程中,另一個預(yù)抽真空裝置進(jìn)行充氣-硅片卸載和重新裝載-抽真空的操作。這樣,對預(yù)抽真空裝置進(jìn)行充氣-硅片卸載和重新裝載-抽真空的操作時間與工藝處理時間重疊,在很大程度上提高了硅片傳輸效率。在真空側(cè),兩個搬運(yùn)機(jī)器人聯(lián)合作業(yè),執(zhí)行將硅片從預(yù)抽真空裝置取出-放到中轉(zhuǎn)臺進(jìn)行對準(zhǔn)操作-傳送到工藝處理腔室(process chamber)中的承片臺-工藝處理完成后取回到預(yù)抽真空裝置中。該系統(tǒng)中,每個搬運(yùn)機(jī)器人配置一個終端執(zhí)行器,每次操作只能完成一個取片或放片的功能,每次取片或放片的過程都要執(zhí)行終端執(zhí)行器伸出-抬起或放下-縮回-回旋等一系列操作到下一個目標(biāo)位置的步驟。終端執(zhí)行器上一般不配置機(jī)械卡扣或靜電吸盤固定硅片,僅僅依靠摩擦力保持硅片。為了防止硅片滑移,機(jī)械手的運(yùn)動加速度不能過大,每次取片或放片的過程都需要耗費(fèi)較長時間。因此,這種傳送機(jī)構(gòu)的產(chǎn)能在一定程度上也受到了限制。
實用新型內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中半導(dǎo)體加工設(shè)備中的硅片輸運(yùn)過程由于搬運(yùn)機(jī)器人執(zhí)行取片或放片的時間過長、使得產(chǎn)能難以提高的缺陷,提供一種硅片傳輸效率較高的硅片輸運(yùn)裝置。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





