[實用新型]一種多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置

有效

• 申請號: 202020268360.0
• 申請日: 2020-03-06
• 公開（公告）號: CN212142093U
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 高志明;高承燕;鮑守珍;甘易武;王明強;鄭連基
• 申請（專利權）人: 亞洲硅業（青海）股份有限公司;青海省亞硅硅材料工程技術有限公司
• 主分類號: B01D53/78
• 分類號: B01D53/78;B01D53/68
• 代理公司: 成都華風專利事務所(普通合伙) 51223
• 代理人: 杜朗宇

1.一種多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，包括還原爐(1)、射流真空泵(2)、水封槽(3)和淋洗塔(4)，且淋洗塔(4)安裝在水封槽(3)內；所述還原爐(1)上安裝有尾氣輸送管(5)，且尾氣輸送管(5)的出口端與淋洗塔(4)的下端連接；所述射流真空泵(2)安裝在尾氣輸送管(5)上，且射流真空泵(2)上還安裝有進水管(6)。

2.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，所述進水管(6)的出口端還并聯有多個噴淋管(7)，多個噴淋管(7)的出口端均延伸至淋洗塔(4)內，且多個噴淋管(7)的出口端沿淋洗塔(4)的高度方向依次排布。

3.根據權利要求2所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，每個所述噴淋管(7)的出口端均安裝有霧化噴頭(8)。

4.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，還包括廢水循環槽(9)，廢水循環槽(9)與進水管(6)的出口端連接有傳輸管(10)，且廢水循環槽(9)上還連接有排空管(11)；所述淋洗塔(4)的頂部還安裝排放管(12)，且排放管(12)的出口端延伸至廢水循環槽(9)的槽底。

5.根據權利要求4所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，所述廢水循環槽(9)與水封槽(3)之間還連接有循環管道(13)。

6.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，所述水封槽(3)上還連接有排液管(14)，排液管(14)的出口端與進水管(6)的進口端連接，且排液管(14)的兩端均安裝有截止閥(20)。

7.根據權利要求6所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，所述排液管(14)上還安裝有循環泵(15)，且排液管(14)的出口端還并聯有廢水排除管(16)。

8.根據權利要求7所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，所述廢水排除管(16)上還安裝有第一開關閥(17)。

9.根據權利要求6所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，所述排液管(14)上還并聯有進液管(18)，且進液管(18)上還安裝有第二開關閥(19)。

10.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐廢氣抽真空淋洗裝置，其特征在于，所述尾氣輸送管(5)出口端的口徑小于進水管(6)的口徑。