[實用新型]多功能納米真空蒸發源

有效

• 申請號: 202020211269.5
• 申請日: 2020-02-25
• 公開（公告）號: CN211689207U
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 王寧
• 申請（專利權）人: 蘇州泓沵達儀器科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260
• 代理人: 許云峰

本實用新型公開了一種多功能納米真空蒸發源，其包括坩堝、加熱單元和冷卻套。加熱單元包括套設于坩堝外側面的加熱套體、電加熱管、限位塊和限位彈簧。本實用新型的坩堝采用熱解氮化硼材質制備。在加熱套體內壁的外表面設置有多個向加熱套體的中軸線凹陷的容納槽，在每個容納槽中分別設置有一個電加熱管。冷卻套體設置在加熱套體的外部，在冷卻套體的上端設置有冷媒入口，在冷卻套體的下端設置有冷媒出口。本實用新型多功能納米真空蒸發源能夠同時滿足對金屬材料和有機材料的蒸鍍需求，其具有更高的加熱效率，并能在需要的時候對蒸發源進行降溫，確保其正常工作。

技術領域

本實用新型涉及一種多功能納米真空蒸發源。

背景技術

真空鍍膜因其具有高效和良好的鍍膜效果而取得廣泛的應用。真空鍍膜是在真空環境下，對源材料進行加熱，使其形成蒸汽流并從蒸發源中逸出，隨后在預設于基板上的物體表面凝結成膜。蒸發源是真空鍍膜裝置中最關鍵的部件，通常的蒸發源中的坩堝大多采用石英玻璃材質，因而造成蒸發源的加熱溫度不能過高，僅適用于有機材料的蒸發，而對于一些熔點較高的金屬(如金、銀、銅、鉻、鈦等)的蒸鍍則無法順利完成。而且，隨著加熱溫度的升高，在對源材料進行加熱的過程，熱量損失比較大，因而嚴重影響了蒸鍍效率。此外，現有的用于金屬蒸鍍的納米真空蒸發源缺乏降溫功能，因而會造成蒸發源的溫度過高而影響蒸發源的正常工作。

發明內容

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種多功能納米真空蒸發源，其效率高，能夠滿足較高溫度的蒸鍍需求，并具有降溫組件，確保蒸發源的正常工作過程不會受到影響。

本實用新型的多功能納米真空蒸發源包括坩堝和加熱單元，所述加熱單元包括套設于所述坩堝外側面的加熱套體，所述加熱套體在靠近所述坩堝一側的側壁為加熱套體內壁，所述加熱套體的遠離所述加熱套體內壁的側壁為加熱套體外壁，在所述加熱套體內壁與所述加熱套體外壁之間具有加熱套體空腔，在所述加熱套體內壁的外表面設置有多個向所述加熱套體的中軸線凹陷的容納槽，在每個所述容納槽內分別設置有至少一個加熱元件，所述坩堝為熱解氮化硼材質的坩堝。本實用新型的多功能納米真空蒸發源的能耐受超過2000℃的加熱溫度，同時滿足對多種金屬以及有機材料的真空蒸鍍需求，通過將加熱元件設置于容納槽中，使得加熱元件產生的熱量更快更有效的傳遞至坩堝中，具有更高的加熱效率。

進一步的，在所述加熱套體的外部還設置有冷卻套體，在所述冷卻套體內設置有供冷媒流動的空腔，所述冷卻套體的上端設置有冷媒入口，在所述冷卻套體的下端設置有冷媒出口，在所述冷媒入口與所述冷媒出口分別通過管路外接于冷媒儲存裝置。因而，在冷卻套體的作用下能夠實現對蒸發源進行快速降溫，確保其能正常工作。

更進一步的，在所述加熱套體內壁與所述加熱套體外壁之間還設置有至少一個導熱的金屬塊，所述金屬塊沿著所述坩堝的高度方向設置，所述金屬塊分別與所述加熱套體內壁和所述加熱套體外壁相抵觸。因而，在金屬塊的作用下能實現冷卻套體與坩堝間快速進行熱量傳遞，達到快速降溫的效果。

更進一步的，包括能與每個所述加熱元件相抵觸的限位塊，所述限位塊沿著所述加熱元件的長度方向設置。

更進一步的，在每個所述限位塊上設置有至少一根限位彈簧，所述限位彈簧的一端與所述限位塊固定，另一端與所述加熱套體外壁的內側面固定，在所述限位彈簧處于放松狀態時，所述限位塊與所述加熱元件相抵靠。因而，在限位彈簧的作用下，能夠使得限位塊與加熱元件緊密抵靠，并將加熱元件與加熱套體內壁相抵靠，從而確保電加熱管能將其發熱產生的熱量充分傳遞給坩堝，使得本實用新型的納米真空蒸發源具有更高的蒸發效率。

更進一步的，在所述限位塊的靠近所述加熱元件一側設置有與所述加熱元件的形狀相匹配的限位槽。

進一步的，還包括與所述加熱套體的下端連接的連接板，在所述連接板上與各個所述加熱元件相對應的設置有通孔，在所述通孔處設置有與所述加熱元件相連通的接口，所述接口與電源連通。