[實用新型]一種高精度平面度檢測裝置有效
| 申請號: | 202020206817.5 | 申請日: | 2020-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN211291374U | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發明(設計)人: | 伍瑋;羅利娟;鐘海;張云飛 | 申請(專利權)人: | 成都威博恩科技有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/30 | 分類號: | G01B11/30 |
| 代理公司: | 成都中匯天健專利代理有限公司 51257 | 代理人: | 劉雨田 |
| 地址: | 61000*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高精度 平面 檢測 裝置 | ||
本實用新型公開了一種高精度平面度檢測裝置,包括檢測箱體、平面度計算模塊、勻光模塊和取像模塊,檢測箱體頂壁開有卡口,卡口處卡設有平面平晶,所述勻光模塊和取像模塊設于檢測箱體內,勻光模塊包括光源罩和設于光源罩中的三色干涉光源,光源罩頂壁為勻光板;取像模塊包括若干個CCD網絡相機,CCD網絡相機朝向平面平晶底部,對平面平晶底部取像;CCD網絡相機與平面度計算模塊連接。本實用新型檢測時平面平晶底部、勻光模塊和取像模塊均處于封閉的檢測箱體內,同時通過多個CCD網絡相機取像,能夠有效避免外界光環境對勻光和取像的干擾,使干涉條紋的呈現和取像更準確,增加平面度的檢測精度。
技術領域
本實用新型涉及平面度檢測領域,具體是一種高精度平面度檢測裝置。
背景技術
平晶干涉法是一種平面度檢測方法,用于測量高光潔表面的平面誤差。測量時,把被測表面放在平面平晶上,以光源照射平面平晶,光在平面平晶表面反射和被測表面反射回來的光線形成干涉現象,由于被測表面平面度的影響,干涉光線的光程差不同,因此形成干涉條紋。干涉條紋反映被測表面的平面度,通過干涉條紋能夠計算被測樣品的平面度。
中國專利文件201811427991.6公開了一種航空件超高精度端面平面度檢測成像裝置及檢測方法,包括實木主體盒、平晶托盤、平晶、干涉光源、CCD傳感器、萬向調節支架和計算機。實木主體盒的底座上設有平面鏡,后側板上設有毛玻璃,左側板、右側板和上板的內表面上設有黑色遮光層,上板上設有安裝平晶托盤的槽孔;平晶放置在平晶托盤上,干涉光源安裝在實木主體盒內,CCD傳感器連接萬向調節支架、拍攝并發送干涉條紋圖像至計算機。該發明通過CCD傳感器和萬向調節支架,使干涉條紋清晰的呈現在計算機上,彌補了平晶檢測平面度時測量結果難以高效準確讀取的缺陷,提高零件檢測效率和準確度;在實木主體盒內置黑色遮光層,提高光源聚攏性,將反射光對測量效果的影響降至最低,增加了測量結果的準確度。
該現有技術通過平面鏡來反射干涉條紋圖像,但實際平面鏡達不到理想狀態,反射成像存在一定像差,且外部光環境可能通過平面鏡反射照射平面平晶,對干涉條紋的呈現造成影響,同時外部光環境也可能干擾CCD傳感器,對干涉條紋的清晰取像造成影響。此外,現有技術均是通過單個CCD相機取像,而鏡頭成像存在像差,使得平面度檢測精度受到影響。
實用新型內容
本實用新型的目的在于解決現有技術的上述問題,提供了一種高精度平面度檢測裝置。
本實用新型的目的主要通過以下技術方案實現:
一種高精度平面度檢測裝置,包括檢測箱體、平面度計算模塊、勻光模塊和取像模塊,檢測箱體頂壁開有卡口,卡口處卡設有平面平晶,所述勻光模塊和取像模塊設于檢測箱體內,勻光模塊包括光源罩和設于光源罩中的三色干涉光源,光源罩頂壁為勻光板;取像模塊包括若干個CCD網絡相機,CCD網絡相機朝向平面平晶底面,對平面平晶底部取像;CCD網絡相機與平面度計算模塊連接。
優選地,所述檢測箱體右側壁作為光源罩右側壁,檢測箱體右側壁可下旋朝外打開,三色干涉光源設于檢測箱體右側壁朝內一面上。
優選地,所述平面度計算模塊為觸屏電腦,觸屏電腦安裝于檢測箱體前壁上。
優選地,所述檢測箱體前壁包括從內到外依次設置的隔板和卡框,觸屏電腦安裝于卡框中。
綜上所述,本實用新型具有以下有益效果:檢測時平面平晶底部、勻光模塊和取像模塊均處于封閉的檢測箱體內,能夠有效避免外界光環境對勻光和取像的干擾,使干涉條紋的呈現和取像更準確。此外通過CCD網絡相機對平面平晶直接取像,提高干涉條紋的取像準確度。同時通過多個CCD網絡相機取像,平面度計算模塊對多個CCD網絡相機的干涉條紋圖像進行處理,補償像差,組合得到更為準確的干涉條紋圖像并計算,從而提高平面度檢測精度。
附圖說明
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