[實(shí)用新型]一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020205611.0
• 申請日: 2020-02-25
• 公開（公告）號: CN213266691U
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王天鄰;謝斌平;陳飛
• 申請（專利權(quán)）人: 費(fèi)勉儀器科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/24
• 代理公司: 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253
• 代理人: 姜杉

1.一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于，包括：爐源區(qū)(1)和樣品區(qū)(2)；

所述爐源區(qū)(1)包括爐源區(qū)腔體(3)、蒸發(fā)源(5)和爐源區(qū)真空泵(6)；所述蒸發(fā)源(5)設(shè)置在所述爐源區(qū)腔體(3)內(nèi)部并固定在所述爐源區(qū)腔體(3)的內(nèi)壁上；所述爐源區(qū)真空泵(6)連接所述爐源區(qū)腔體(3)；

所述樣品區(qū)(2)包括樣品區(qū)腔體(4)、襯底臺(7)和樣品區(qū)真空泵(8)；所述襯底臺(7)從所述樣品區(qū)腔體(4)的上方或者側(cè)面插入所述樣品區(qū)腔體(4)內(nèi)；所述樣品區(qū)真空泵(8)設(shè)置在所述樣品區(qū)腔體(4)內(nèi)部并固定在所述樣品區(qū)腔體(4)的內(nèi)壁上；

所述爐源區(qū)(1)與所述樣品區(qū)(2)的連接處設(shè)置有差分限流通道(9)；所述爐源區(qū)腔體(3)與所述樣品區(qū)腔體(4)之間通過所述差分限流通道(9)相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述爐源區(qū)腔體(3)可使用圓柱形、多邊形柱的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述爐源區(qū)腔體(3)包括蒸發(fā)源凸起和爐源區(qū)真空泵凸起；所述蒸發(fā)源(5)設(shè)置在所述蒸發(fā)源凸起內(nèi)；所述爐源區(qū)真空泵(6)通過所述爐源區(qū)真空泵凸起與所述爐源區(qū)腔體(3)內(nèi)部相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述樣品區(qū)腔體(4)可使用圓柱形、多邊形柱的一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述樣品區(qū)腔體(4)包括樣品區(qū)真空泵凸起；所述樣品區(qū)真空泵凸起設(shè)置在所述樣品區(qū)腔體(4)的一面上；所述樣品區(qū)真空泵(8)設(shè)置在所述樣品區(qū)真空泵凸起的內(nèi)部并固定在所述樣品區(qū)真空泵凸起上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述爐源區(qū)真空泵(6)選自牽引分子泵、渦輪分子泵和復(fù)合分子泵中的一種；所述樣品區(qū)真空泵(8)選自非蒸散型吸氣泵、離子泵和復(fù)合分子泵中的一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述蒸發(fā)源(5)的數(shù)量為一個或者多個；所述差分限流通道(9)為一個或者多個。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述蒸發(fā)源(5)選自基于電阻加熱、電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、電弧加熱和激光加熱的蒸發(fā)源的一種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的一種利用差分抽氣系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)超高真空蒸鍍的裝置，其特征在于：所述差分限流通道選自圓孔、方孔和V字形導(dǎo)管中的一種或者多種。