[實用新型]一種薄膜真空等離子體處理設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020163288.5
• 申請日: 2020-02-12
• 公開（公告）號: CN210956594U
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發(fā)明（設計）人: 劉鑫培;沈文凱;王紅衛(wèi)
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司;蘇州德睿源等離子體研究院有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 蘇州科洲知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 32435
• 代理人: 王悅

本實用新型公開了一種薄膜真空等離子體處理設備，所述真空等離子體處理設備包括：多級抽真空單元、支撐單元及迂回部組合單元；所述迂回部組合單元位于真空等離子體處理設備的中部，用于對薄膜材料進行等離子體處理，所述多級抽真空單元位于真空等離子體處理設備的兩側(cè)，確保迂回部組合單元內(nèi)部保持真空環(huán)境，所述支撐單元位于多級抽真空單元和迂回部組合單元的外側(cè)，起支撐和保護作用。所述真空等離子體處理設備采取多級抽真空的方式實現(xiàn)迂回部組合單元內(nèi)部的真空狀態(tài)，以提供穩(wěn)定的輝光放電環(huán)境，薄膜可以穿過真空等離子體處理設備做連續(xù)運動，放電產(chǎn)生的等離子體對迂回部組合單元內(nèi)部的薄膜進行處理，既能兼顧薄膜處理的連續(xù)性，又能保證處理環(huán)境的密封性。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及等離子體處理的技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種薄膜真空等離子體處理設備。

背景技術(shù)

等離子體表面處理技術(shù)作為一種新興的工藝，逐漸在紡織、印染、粘接、清洗等行業(yè)中得到了推廣和應用。隨著我國科學技術(shù)的持續(xù)發(fā)展，紡織化纖品、高分子塑料、柔性電路板等產(chǎn)業(yè)對大面積薄膜材料表面處理提出了更高的要求。然而，從等離子體表面處理技術(shù)國內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀來看，目前該技術(shù)的應用主要停留在實驗室研究與小規(guī)模生產(chǎn)的范圍內(nèi)。而目前制約大規(guī)模生產(chǎn)的主要因素，就是無法實現(xiàn)大面積薄膜材料在真空環(huán)境下的連續(xù)處理。

中國專利(CN209697586U)公開了一種清洗卷料的等離子清洗機以及一種清洗流水線，包括依次設置的放料機構(gòu)、清洗機構(gòu)和收料機構(gòu)，所述放料機構(gòu)包括用于放置卷料的放料軸，所述收料機構(gòu)包括用于放置卷料的收料軸。通過加裝放料機構(gòu)和收料機構(gòu)，在不改變原有機臺的其他結(jié)構(gòu)的基礎上滿足等離子清洗機對卷料產(chǎn)品的加工需求，其中，所述放料軸和收料軸采用滑差式氣漲軸，能夠同時安裝多卷卷料，提高了加工的效率。該種設備雖然能夠運用所述清洗流水線對薄膜類材料進行在線式等離子體處理，保證了處理效率，但是所述等離子清洗機需要以圍繞目標材料轉(zhuǎn)動的方式對薄膜進行等離子體處理，薄膜的處理質(zhì)量難以得到保證。

中國專利(CN209508407U)公開了一種衰化卷對卷設備等離子強度的裝置，包括放卷艙、多孔石英錠、線圈、石英管、收卷艙、設備框架和射頻控制儀，所述放卷艙設置在所述設備框架上端面一端，且所述收卷艙設置在所述設備框架上端面另一端。上述實用新型的有益效果是：技術(shù)方案中采用多孔石英錠來保證反應、保護氣源的均勻進氣，從而有效地阻礙等離子體偏放卷艙粒子運動，較好的縮短了等離子體的行程，另外通過多孔石英錠上的微孔營造阻礙等離子體行程，大大地提高等離子體有效碰撞來降低等離子體強度，從而減少等離子體進入放卷艙，降低刻蝕銅箔卷的外表面和卷邊的端面的可能性，減弱等離子體對襯底表面的轟擊，降低膜與襯底的內(nèi)應力，提升處理質(zhì)量及效率。該種設備雖然確保了等離子體對材料處理的均勻性，但是所述放卷艙、收卷艙設置在所述設備框架內(nèi)部，一卷材料處理完成后需要打開所述設備框架更換材料，無法實現(xiàn)對大面積薄膜材料連續(xù)處理。

因此，如何提供一種在線式真空處理環(huán)境，以實現(xiàn)對大面積薄膜材料的等離子體表面處理，兼顧對薄膜材料處理的連續(xù)性的同時，保證處理環(huán)境的密封性，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。

實用新型內(nèi)容

有鑒于此，本申請的目的在于提供一種薄膜真空等離子體處理設備，采取多級抽真空的方式實現(xiàn)設備內(nèi)部的真空狀態(tài)，以提供穩(wěn)定的輝光放電環(huán)境，薄膜可以穿過真空等離子體處理設備做連續(xù)運動，放電產(chǎn)生的等離子體對設備內(nèi)部的薄膜進行處理，既能兼顧薄膜處理的連續(xù)性，又能保證處理環(huán)境的密封性。

為了達到上述目的，本申請?zhí)峁┤缦录夹g(shù)方案。

一種薄膜真空等離子體處理設備，包括多級抽真空單元、支撐單元及迂回部組合單元，所述迂回部組合單元位于真空等離子體處理設備的中部，用于對薄膜材料進行等離子體處理，所述多級抽真空單元位于真空等離子體處理設備的兩側(cè)，確保迂回部組合單元內(nèi)部保持真空環(huán)境，所述支撐單元位于多級抽真空單元和迂回部組合單元的外側(cè)，起支撐和保護作用；