[實(shí)用新型]一種用于鍍膜設(shè)備的電極組結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020158314.5
• 申請日: 2020-02-10
• 公開（公告）號: CN213739675U
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 龐愛鎖;林佳繼;劉群;林依婷
• 申請（專利權(quán)）人: 拉普拉斯（無錫）半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50
• 代理公司: 杭州天昊專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33283
• 代理人: 董世博

本實(shí)用新型提供一種用于鍍膜設(shè)備的電極組結(jié)構(gòu)，包括電極組正極塊和電極組負(fù)極塊，電極組正極塊和電極組負(fù)極塊上分別設(shè)有石墨電極片的放置部位。所述電極組結(jié)構(gòu)設(shè)置在用于鍍膜的真空爐腔內(nèi)，并能夠在所述真空爐腔內(nèi)的一定范圍內(nèi)移動。本實(shí)用新型的電極組結(jié)構(gòu)包括一個單獨(dú)的由石墨電極片組成的石墨電極組結(jié)構(gòu)，這個石墨電極組結(jié)構(gòu)本身不承載硅片，能夠?qū)⑹姌O和硅片載具分離對插，使鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)和工藝都更加合理。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及太陽能電池制造領(lǐng)域，尤其涉及太陽能制造領(lǐng)域用于硅片鍍膜反應(yīng)的電極組結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體或光伏材料加工方面，CVD技術(shù)是其中的一種處理方式， CVD技術(shù)目前已經(jīng)廣泛用于半導(dǎo)體或光伏材料加工，常見的加工設(shè)備有PECVD、LPCVD、APCVD等，除了CVD設(shè)備之外還有擴(kuò)散設(shè)備，例如磷擴(kuò)散、硼擴(kuò)散等采用氣體擴(kuò)散的方式來對原材料進(jìn)行加工，目前行業(yè)內(nèi)已有不少相關(guān)的設(shè)備，可以針對具體的加工需求來選擇相應(yīng)的設(shè)備進(jìn)行加工，半導(dǎo)體或光伏材料的加工，通常是將片狀材料送入爐中在一定溫度和壓力的條件下進(jìn)行反應(yīng)來實(shí)現(xiàn)，在對半導(dǎo)體或者光伏材料加工的過程中，通常采用一些裝置來裝載或移動待加工的、加工中的或者加工后的材料，行業(yè)內(nèi)通常把這種裝載或者移動的裝置稱為舟、石墨舟、小舟或者花籃。

在加工反應(yīng)的過程中，為了進(jìn)行硅片的表面薄膜生長，需要讓硅片處于一定條件的氛圍中，例如等離子態(tài)，在這種情況下才能夠滿足薄膜生長的工藝條件，通常來說在石墨舟上會設(shè)置電極結(jié)構(gòu)，例如，硅片載具本身帶有電極結(jié)構(gòu)，在生產(chǎn)的時候可以通電使得硅片載具附近氣體處于等離子化的狀態(tài)，但是由于石墨舟和硅片結(jié)構(gòu)需要間隔設(shè)置，硅片需要卡在石墨舟片上的卡槽里，當(dāng)向石墨舟片卡槽中進(jìn)行插片時，容易損傷硅片或者電極片。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種用于鍍膜設(shè)備的電極組結(jié)構(gòu)，能夠?qū)⑹姌O和硅片載具分離對插，解決背景技術(shù)中的問題。

本實(shí)用新型解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：

一種用于鍍膜設(shè)備的電極組結(jié)構(gòu)，所述電極組結(jié)構(gòu)設(shè)置在用于鍍膜的真空爐腔內(nèi)，并能夠在所述真空爐腔內(nèi)的一定范圍內(nèi)移動；所述真空爐腔底部設(shè)有電極組平移導(dǎo)軌，所述電極組結(jié)構(gòu)底部設(shè)有橫向滑塊，所述橫向滑塊能夠在所述電極組平移導(dǎo)軌上移動，從而帶動所述電極組結(jié)構(gòu)在真空爐腔內(nèi)移動；所述真空爐腔的一側(cè)設(shè)有電極組推送機(jī)構(gòu)和電極組推送開孔，所述電極組推送機(jī)構(gòu)包括電極組推送氣缸、電極組推送氣缸的輸出端通過氣缸連接軸連接電極組推送桿，所述電極組推送桿穿過所述電極組推送開孔能夠推送所述電極組結(jié)構(gòu)；所述電極組結(jié)構(gòu)的底部的一側(cè)設(shè)有助推板，所述電極組推送桿能夠伸入真空爐腔內(nèi)，頂?shù)炙鲋瓢澹瑥亩扑退鲭姌O組結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步地，包括電極組正極塊和電極組負(fù)極塊，電極組正極塊和電極組負(fù)極塊上分別設(shè)有石墨電極片的放置部位。

進(jìn)一步地，所述電極組正極塊和電極組負(fù)極塊上的放置部位交錯設(shè)置。

進(jìn)一步地，所述放置部位包括用于夾持石墨電極片的卡槽，卡槽的外端設(shè)有凸點(diǎn)，凸點(diǎn)能夠與卡槽所夾持的石墨片的上表面接觸。

進(jìn)一步地，所述真空爐腔底部設(shè)有電極組平移導(dǎo)軌，所述電極組結(jié)構(gòu)底部設(shè)有橫向滑塊，所述橫向滑塊能夠在所述橫向滑軌上移動，從而帶動所述電極組結(jié)構(gòu)在真空爐腔內(nèi)移動。

進(jìn)一步地，所述真空爐腔的一側(cè)設(shè)有電極組推送機(jī)構(gòu)和電極組推送開孔，所述電極組推送機(jī)構(gòu)包括電極組推送氣缸、電極組推送氣缸的輸出端通過氣缸連接軸連接電極組推送桿，所述電極組推送桿穿過所述電極組推送開孔能夠推送所述電極組結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步地，所述電極組結(jié)構(gòu)的底部的一側(cè)設(shè)有助推板，所述電極組推送桿能夠伸入真空爐腔內(nèi)，頂?shù)炙鲋瓢澹瑥亩扑退鲭姌O組結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步地，所述電極組推送氣缸安裝在氣缸安裝法蘭上，所述電極組推送開孔的外側(cè)通過腔體焊接法蘭密封，所述氣缸安裝法蘭和所述腔體焊接法蘭密封之間設(shè)有動密封法蘭。