[實用新型]一種用于鍍膜設備的電極組結構

有效

• 申請號: 202020158314.5
• 申請日: 2020-02-10
• 公開（公告）號: CN213739675U
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發明（設計）人: 龐愛鎖;林佳繼;劉群;林依婷
• 申請（專利權）人: 拉普拉斯（無錫）半導體科技有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50
• 代理公司: 杭州天昊專利代理事務所(特殊普通合伙) 33283
• 代理人: 董世博

1.一種用于鍍膜設備的電極組結構，其特征是，所述電極組結構設置在用于鍍膜的真空爐腔內，并能夠在所述真空爐腔內的一定范圍內移動；所述真空爐腔底部設有電極組平移導軌，所述電極組結構底部設有橫向滑塊，所述橫向滑塊能夠在所述電極組平移導軌上移動，從而帶動所述電極組結構在真空爐腔內移動；所述真空爐腔的一側設有電極組推送機構和電極組推送開孔，所述電極組推送機構包括電極組推送氣缸、電極組推送氣缸的輸出端通過氣缸連接軸連接電極組推送桿，所述電極組推送桿穿過所述電極組推送開孔能夠推送所述電極組結構；所述電極組結構的底部的一側設有助推板，所述電極組推送桿能夠伸入真空爐腔內，頂抵所述助推板，從而推送所述電極組結構。

2.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜設備的電極組結構，其特征是，包括電極組正極塊和電極組負極塊，電極組正極塊和電極組負極塊上分別設有石墨電極片的放置部位。

3.根據權利要求2所述的一種用于鍍膜設備的電極組結構，其特征是，所述電極組正極塊和電極組負極塊上的放置部位交錯設置。

4.根據權利要求2或3所述的一種用于鍍膜設備的電極組結構，其特征是，所述放置部位包括用于夾持石墨電極片的卡槽，卡槽的外端設有凸點，凸點能夠與卡槽所夾持的石墨片的上表面接觸。

5.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜設備的電極組結構，其特征是，所述電極組推送氣缸安裝在氣缸安裝法蘭上，所述電極組推送開孔的外側通過腔體焊接法蘭密封，所述氣缸安裝法蘭和所述腔體焊接法蘭密封之間設有動密封法蘭。

6.根據權利要求5所述的一種用于鍍膜設備的電極組結構，其特征是，所述動密封法蘭內設有動密封法蘭端蓋，所述動密封法蘭端蓋內設有至少兩道密封圈，密封圈之間通過密封圈壓環壓緊。

7.根據權利要求2所述的一種用于鍍膜設備的電極組結構，其特征是，所述真空爐腔的上部設有電極座結構，所述電極座結構包括電極支架和電極驅動氣缸，電極支架上設有正負兩極的電極柱和電極柱的滑動密封結構，所述電極柱能夠穿過所述真空爐腔的上表面伸入真空爐腔內，當所述電極組結構移動到鍍膜工位時，所述正負兩極的電極柱能夠在電極驅動氣缸的驅動下沿滑動結構下移，并在真空爐腔內分別觸碰所述電極組正極塊和電極組負極塊。