[實用新型]一種用于鍍膜設(shè)備的升降結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020158248.1 | 申請日: | 2020-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN212299942U | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張武;龐愛鎖;林佳繼;劉群;林依婷 | 申請(專利權(quán))人: | 拉普拉斯(無錫)半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號: | F27D1/18 | 分類號: | F27D1/18;C23C16/458 |
| 代理公司: | 杭州天昊專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
| 地址: | 214192 江蘇省無錫*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 鍍膜 設(shè)備 升降 結(jié)構(gòu) | ||
本實用新型提供一種用于鍍膜設(shè)備的升降結(jié)構(gòu),包括爐門,所述爐門能夠用于密封鍍膜設(shè)備的爐口,所述升降結(jié)構(gòu)包括載板升降組件和載板升降模組,所述載板升降組件安裝在爐門上,并能夠隨爐門升降,所述載板升降模組連接載板升降組件并通過載板升降組件驅(qū)動爐門的升降,所述爐門能夠裝載用于承載硅片的硅片載具,載板升降組件連接硅片載具,并能夠驅(qū)動硅片載具的升降。本實用新型采用二級升降驅(qū)動,其中一級升降驅(qū)動主要進行大范圍的整體升降,另外一級升降機構(gòu)主要用于在鍍膜過程中對硅片載具的進行微調(diào),改變鍍膜位置,實現(xiàn)雙面鍍膜。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及太陽能電池制造領(lǐng)域,尤其涉及半導(dǎo)體或光伏材料加工所采用的鍍膜設(shè)備中的升降結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體或光伏材料廣泛應(yīng)用于電子、新能源等行業(yè),半導(dǎo)體和光伏材料通常都需要經(jīng)過加工處理才能夠應(yīng)用到產(chǎn)品上,鍍膜工藝、擴散工藝、氧化工藝等是現(xiàn)有的一些處理方式。
真空爐作為半導(dǎo)體器件工藝設(shè)備的重要設(shè)備之一,廣泛應(yīng)用于集成電路、電力電子、太陽能電池的生產(chǎn)等行業(yè),在光伏行業(yè),高溫真空爐主要用于對單晶硅片、多晶硅片進行摻雜,形成PN結(jié)。隨著光伏行業(yè)的發(fā)展,人們一直在追求產(chǎn)能的提升。而在制作工藝過程中,會有許多熱處理的工序,如熱氧化、化學(xué)氣相沉積(CVD)、熱鍍膜、金屬合金化、雜質(zhì)激活、介質(zhì)膜致密化等。這些熱處理工藝對溫度非常敏感,尤其是在半導(dǎo)體器件的制備中,溫度是影響硅晶成膜均勻性及生長速度的關(guān)鍵參數(shù)。
在太陽能光伏產(chǎn)業(yè)中,常采用PECVD制備薄膜如氮化硅膜,碳化硅膜,氧化硅膜等;傳統(tǒng)的PECVD鍍膜,通常都是單面鍍膜,傳統(tǒng)的生產(chǎn)設(shè)備容易造成繞鍍,不能規(guī)避卡點印問題,對于膜的單面性要求很高時,傳統(tǒng)設(shè)備不再適應(yīng)。
現(xiàn)有技術(shù)中的CVD設(shè)備通常采用懸臂槳將舟放入爐管或者爐門帶動硅片載具移動,爐門由驅(qū)動設(shè)備繼續(xù)驅(qū)動,爐門密封到位后,硅片載具以及其上硅片的位置便不再有變化,在鍍膜的過程中也無法對硅片載具的位置進行調(diào)整,這就限制了鍍膜設(shè)備的應(yīng)用范圍。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題是,提供一種用于鍍膜設(shè)備的爐門升降結(jié)構(gòu),能夠?qū)杵d具的位置進行二次調(diào)節(jié),擴大了鍍膜設(shè)備的應(yīng)用范圍。
本實用新型解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
一種用于鍍膜設(shè)備的升降結(jié)構(gòu),包括爐門,所述爐門能夠用于密封鍍膜設(shè)備的爐口,所述升降結(jié)構(gòu)包括載板升降組件和載板升降模組,所述載板升降組件安裝在爐門上,并能夠隨爐門升降,所述載板升降模組連接載板升降組件并通過載板升降組件驅(qū)動爐門的升降,所述爐門能夠裝載用于承載硅片的硅片載具,載板升降組件連接硅片載具,并能夠驅(qū)動硅片載具的升降。
進一步地,載板升降組件包括第一載板升降驅(qū)動件,所述載板升降驅(qū)動件通過驅(qū)動件支架固定連接在爐門上表面。
進一步地,所述載板升降組件包括載板升降驅(qū)動桿,所述爐門上設(shè)有能夠允許載板升降驅(qū)動桿穿過的開孔,所述載板升降驅(qū)動桿能夠穿過所述驅(qū)動件支架伸入到爐門的另一側(cè),用于與鍍膜設(shè)備內(nèi)的硅片載具連接。
進一步地,所述開孔的外側(cè)設(shè)有腔體焊接法蘭,所述載板升降驅(qū)動件的輸出端通過一浮動接頭連接一動密封法蘭,所述腔體焊接法蘭和所述動密封法蘭之間通過焊接波紋管密封連接,使得當(dāng)爐門合上時,焊接波紋管的內(nèi)部與鍍膜設(shè)備的內(nèi)部形成密封的腔體。
進一步地,所述驅(qū)動件支架內(nèi)設(shè)有直線導(dǎo)軌,所述動密封法蘭的一側(cè)與所述直線導(dǎo)軌配合并能夠沿所述直線導(dǎo)軌移動。
進一步地,所述載板升降模組包括升降滑動桿,所述升降滑動桿上設(shè)有升降滑軌,所述升降滑軌上設(shè)有升降滑塊,所述升降滑塊能夠連接至所述載板升降組件。
進一步地,所述升降滑塊成對設(shè)置在所述升降滑動桿的兩側(cè),所述升降滑塊能夠分別通過連接塊連接至所述載板升降組件的驅(qū)動件支架上。
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