[實用新型]一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置

有效

• 申請號: 202020138768.6
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN211445887U
• 公開（公告）日: 2020-09-08
• 發明（設計）人: 魯聰達;丁杰;馬毅;黃先偉;俞越翎;張泰華
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 杭州浙科專利事務所(普通合伙) 33213
• 代理人: 吳秉中

本實用新型公開了一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置，包括磁控濺射靶、設置在磁控濺射靶頂部的擋板及設置在擋板上的擋板打開裝置，所述擋板打開裝置包括聯軸套筒、第一電機、第一鋼絲繩及第一轉軸，所述聯軸套筒固定設置在擋板上，所述第一轉軸設置在第一電機上，所述第一鋼絲繩一端與聯軸套筒固定連接，另一端與第一轉軸固定連接。本實用新型的有益效果：設計巧妙，結構合理，使用方便；應用本裝置輔助擋板打開，保證了擋板打開的充分性，提高了所鍍薄膜的均勻性和成品率，且整個裝置占用真空室內部空間較小，控制簡單，拆卸方便，對薄膜的研究領域具有重要意義。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜領域，具體涉及一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置。

背景技術

磁控濺射設備是一種利用物理氣相沉積法進行真空鍍膜的實驗儀器，通過電離出的離子轟擊靶材，濺射出的靶材原子沉積在基片上制成薄膜，可以制備金屬薄膜、半導體薄膜、高聚物薄膜等多種材料的薄膜。

在進行磁控濺射鍍膜過程中，需要在擋板關閉狀態下進行靶材的啟輝及預濺射，然后再打開擋板開始鍍膜。但是，在打開擋板的操作中往往會出現擋板打不開或打開不充分的情況，使得靶材被擋板部分遮住，靶材上的成分沉淀到擋板上，從而使得材料利用率和鍍膜效率降低，并對所鍍薄膜的均勻性產生影響。于此同時，由于內腔在實驗過程中處于真空狀態，無法從外部進行手動調整。這就對擋板打開的充分性提出了要求，以確保實驗的連續性、穩定性。

實用新型內容

針對現有技術中存在的上述問題，本實用新型的目的在于提供一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置，以實現在擋板無法完全打開的情況下，輔助擋板完全打開。

本實用新型采用以下技術方案：

一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置，其特征在于，包括磁控濺射靶、設置在磁控濺射靶頂部的擋板及設置在擋板上的擋板打開裝置，所述擋板打開裝置包括聯軸套筒、第一電機、第一鋼絲繩及第一轉軸，所述聯軸套筒固定設置在擋板上，所述第一轉軸設置在第一電機上，所述第一鋼絲繩一端與聯軸套筒固定連接，另一端與第一轉軸固定連接；所述擋板上還設有擋板輔助打開裝置，所述擋板輔助打開裝置包括第二電機、第二轉軸、第二鋼絲繩及收繩輪，所述第二轉軸與第二電機相連，所述收繩輪設置在第二轉軸上端位置處，所述第二鋼絲繩一端與擋板固定，另一端與收繩輪固定。

所述的一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置，其特征在于，所述第一轉軸的上端相對位置處設有第一固定銷及第二固定銷，所述第一鋼絲繩通過第一固定銷及第二固定銷夾緊在第一轉軸內。

所述的一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置，其特征在于，所述聯軸套筒上設有夾緊螺母，所述第一鋼絲繩通過夾緊螺母固定在聯軸套筒上。

所述的一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置，其特征在于，所述收繩輪上設有限位槽，所述第二鋼絲繩繞設在限位槽內。

所述的一種磁控濺射儀擋板輔助打開裝置，其特征在于，所述收繩輪上設有限位銷，所述第二鋼絲繩一端固定在限位銷上。

本實用新型的有益效果：設計巧妙，結構合理，使用方便；應用本裝置輔助擋板打開，保證了擋板打開的充分性，提高了所鍍薄膜的均勻性和成品率，且整個裝置占用真空室內部空間較小，控制簡單，拆卸方便，對薄膜的研究領域具有重要意義。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖中：1-磁控濺射靶，2-擋板，3-第一鋼絲繩，4-第二鋼絲繩，5-聯軸套筒，6-夾緊螺母，7-限位銷，8-第二轉軸，9-第一固定銷，10-第二固定銷，11-第一轉軸，12-第一電機，13-第二電機。

具體實施方式

以下結合說明書附圖對本實用新型的技術方案做進一步的描述：