[實(shí)用新型]化學(xué)沉積系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020111872.6 | 申請日: | 2020-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN211897111U | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭文鋒;許吉昌;孫尚培;連傳泰 | 申請(專利權(quán))人: | 先豐通訊股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/38 | 分類號: | C23C18/38;C23C18/16;H05K3/18 |
| 代理公司: | 北京申翔知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11214 | 代理人: | 趙夢雯;艾晶 |
| 地址: | 中國臺(tái)灣桃園市觀*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 沉積 系統(tǒng) | ||
1.一種化學(xué)沉積系統(tǒng),主要具有一槽體,該槽體內(nèi)容置有一化學(xué)鍍液,可供一加工物置入進(jìn)行化學(xué)沉積;其特征在于:
該槽體的內(nèi)壁為導(dǎo)電材料,具有一犧牲陰極以及一電源,該犧牲陰極浸置于該化學(xué)鍍液,而該電源的一正極連接于該內(nèi)壁,該電源的一負(fù)極則連接于該犧牲陰極。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)沉積系統(tǒng),其特征在于,該槽體以導(dǎo)電材料一體制成。
3.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)沉積系統(tǒng),其特征在于,該槽體于該內(nèi)壁固定至少一層導(dǎo)電層。
4.如權(quán)利要求1至3任一所述的化學(xué)沉積系統(tǒng),其特征在于,該電源為整流器。
5.如權(quán)利要求4所述的化學(xué)沉積系統(tǒng),其特征在于,該電源提供1伏特至2伏特的電壓。
6.如權(quán)利要求1至3任一所述的化學(xué)沉積系統(tǒng),其特征在于,該內(nèi)壁的導(dǎo)電材料包括不銹鋼,而該犧牲陰極的材料包括鈦、鐵或前述金屬的合金,該化學(xué)鍍液包括一銅離子水溶液。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理
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