[實(shí)用新型]一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020072096.3
• 申請(qǐng)日: 2020-01-14
• 公開（公告）號(hào): CN211639447U
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 戚定定
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州中欣晶圓半導(dǎo)體股份有限公司
• 主分類號(hào): B24B29/02
• 分類號(hào): B24B29/02;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 杭州融方專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33266
• 代理人: 沈相權(quán)

本實(shí)用新型涉及一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，所屬清洗拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括清洗拋光槽本體，所述的清洗拋光槽本體上端兩側(cè)邊設(shè)有呈對(duì)稱式分布的邊齒架，兩邊齒架間設(shè)有與清洗拋光槽本體呈一體化的底齒架，所述的底齒架與邊齒架間均設(shè)有過液槽，所述的底齒架下方設(shè)有與底齒架相平行且與延伸出清洗拋光槽本體外的定位螺栓孔。所述的邊齒架、底齒架均包括若干呈圓弧端面結(jié)構(gòu)的清洗拋光擱齒，兩相鄰的清洗拋光擱齒間設(shè)有排屑槽。具有去除顆粒率高、去除金屬效果佳和效率高的優(yōu)點(diǎn)。解決了硅片底部出現(xiàn)邊緣聚集現(xiàn)象的問題。提高吸附金屬離子的有效性，實(shí)現(xiàn)降低拋光片的金屬含量。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及清洗拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

目前使用的型號(hào)為SCCH-1331-4的去蠟洗凈機(jī)用于8英寸單晶硅片在鏡面拋光后的清洗，可一次同時(shí)投入兩盒拋光片（50枚），該清洗機(jī)作業(yè)主要包括以下步驟：

（1）經(jīng)過一個(gè)LD分離槽和一個(gè)LD 變換槽，單晶硅片和特氟龍片盒的分離，采用無片盒清洗硅片的方式清洗；

（2）經(jīng)過兩個(gè)表面活性劑槽進(jìn)行表面處理；

（3）用純水槽沖洗處理；

（4）進(jìn)入臭氧水槽處理；

（5）經(jīng)過3個(gè)SC-1清洗處理時(shí)間；

（6）經(jīng)過2個(gè)純水槽沖洗并溢流，然后將硅片慢提拉出水面瀝干硅片表面水；

（7）經(jīng)IR槽烘干。

存在如下缺陷：（1）拋光片底部易出現(xiàn)顆粒聚集現(xiàn)：LD分離槽的作用將硅片與特氟龍片盒分離，變換槽是將兩盒硅片推動(dòng)靠近，便于機(jī)械手夾取進(jìn)行后續(xù)加工作業(yè)，在此工藝過程中，經(jīng)鏡面拋光后的硅片表面含有大量顆粒，經(jīng)LD分離槽和變換槽，顆粒在槽底部溝槽中沉積，硅片底部易沾染附著，進(jìn)入NCW槽后，經(jīng)搖動(dòng)和超聲的處理作用，使得底部顆粒擴(kuò)散開，后續(xù)其他藥液槽和純水槽不能將硅片底部聚集顆粒去除，嚴(yán)重造成顆粒不良，大大影響產(chǎn)品的良率；（2）由于SC1不具備去除金屬的能力，該清洗工藝去除金屬效果不佳。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型主要解決現(xiàn)有技術(shù)中存在去除顆粒不良、去除金屬效果不佳和效率低的不足，提供了一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，其具有去除顆粒率高、去除金屬效果佳和效率高的優(yōu)點(diǎn)。解決了硅片底部出現(xiàn)邊緣聚集現(xiàn)象的問題。提高吸附金屬離子的有效性，實(shí)現(xiàn)降低拋光片的金屬含量。

本實(shí)用新型的上述技術(shù)問題主要是通過下述技術(shù)方案得以解決的：

一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，包括清洗拋光槽本體，所述的清洗拋光槽本體上端兩側(cè)邊設(shè)有呈對(duì)稱式分布的邊齒架，兩邊齒架間設(shè)有與清洗拋光槽本體呈一體化的底齒架，所述的底齒架與邊齒架間均設(shè)有過液槽，所述的底齒架下方設(shè)有與底齒架相平行且與延伸出清洗拋光槽本體外的定位螺栓孔。所述的邊齒架、底齒架均包括若干呈圓弧端面結(jié)構(gòu)的清洗拋光擱齒，兩相鄰的清洗拋光擱齒間設(shè)有排屑槽。

作為優(yōu)選，所述的排屑槽下端設(shè)有與排屑槽呈一體化的圓弧溝槽。

作為優(yōu)選，所述的過液槽呈1度～3度的傾斜角結(jié)構(gòu)。

作為優(yōu)選，所述的清洗拋光槽本體兩側(cè)邊均設(shè)有若干呈對(duì)稱式分布的側(cè)邊固定螺栓孔。

作為優(yōu)選，所述的側(cè)邊固定螺栓孔包括螺紋孔，所述的螺紋孔與清洗拋光槽本體側(cè)端面間設(shè)有與螺紋孔相同軸心式連通的彈簧墊圈沉孔槽。

本實(shí)用新型能夠達(dá)到如下效果：

本實(shí)用新型提供了一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，與現(xiàn)有技術(shù)相比較，具有去除顆粒率高、去除金屬效果佳和效率高的優(yōu)點(diǎn)。解決了硅片底部出現(xiàn)邊緣聚集現(xiàn)象的問題。提高吸附金屬離子的有效性，實(shí)現(xiàn)降低拋光片的金屬含量。

附圖說明