[實(shí)用新型]一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020072096.3 | 申請日： | 2020-01-14 |
| 公開（公告）號： | CN211639447U | 公開（公告）日： | 2020-10-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 戚定定 | 申請（專利權(quán)）人： | 杭州中欣晶圓半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B29/02 | 分類號： | B24B29/02;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00 |
| 代理公司： | 杭州融方專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33266 | 代理人： | 沈相權(quán) |
| 地址： | 311201 浙江省杭州市蕭山區(qū)杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 提高 清洗 拋光 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括清洗拋光槽本體（5），所述的清洗拋光槽本體（5）上端兩側(cè)邊設(shè)有呈對稱式分布的邊齒架（1），兩邊齒架（1）間設(shè)有與清洗拋光槽本體（5）呈一體化的底齒架（3），所述的底齒架（3）與邊齒架（1）間均設(shè)有過液槽（2），所述的底齒架（3）下方設(shè)有與底齒架（3）相平行且與延伸出清洗拋光槽本體（5）外的定位螺栓孔（4）；所述的邊齒架（1）、底齒架（3）均包括若干呈圓弧端面結(jié)構(gòu)的清洗拋光擱齒（9），兩相鄰的清洗拋光擱齒（9）間設(shè)有排屑槽（10）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的排屑槽（10）下端設(shè)有與排屑槽（10）呈一體化的圓弧溝槽（11）。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的過液槽（2）呈1度～3度的傾斜角結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的清洗拋光槽本體（5）兩側(cè)邊均設(shè)有若干呈對稱式分布的側(cè)邊固定螺栓孔（6）。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于提高去蠟清洗拋光的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的側(cè)邊固定螺栓孔（6）包括螺紋孔（7），所述的螺紋孔（7）與清洗拋光槽本體（5）側(cè)端面間設(shè)有與螺紋孔（7）相同軸心式連通的彈簧墊圈沉孔槽（8）。
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