[實用新型]一種蒸鍍坩堝及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020071029.X
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN211522306U
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 喬小平
• 申請（專利權(quán)）人: 福建華佳彩有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35219
• 代理人: 徐劍兵;張忠波

1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括：坩堝本體、坩堝上蓋；所述坩堝本體為具有開口的中空結(jié)構(gòu)，且所述坩堝上蓋設(shè)置于所述坩堝本體上；

所述坩堝上蓋還包括有出料口，出料口中空且與坩堝本體內(nèi)部連通，所述出料口可活動的設(shè)置于所述坩堝上蓋上，出料口活動時使得出料口與坩堝上蓋的夾角發(fā)生變化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種蒸鍍坩堝，其特征在于，還包括：限位裝置；所述限位裝置設(shè)置于所述坩堝上蓋上，用于固定出料口保持出料口與坩堝上蓋的夾角不變。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述限位裝置通過磁吸方式設(shè)置于所述坩堝上蓋上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述出料口與坩堝上蓋通過球形可活動機(jī)構(gòu)相連接；

所述球形可活動機(jī)構(gòu)嵌設(shè)于所述坩堝上蓋上，且所述出料口貫穿設(shè)置于球形可活動機(jī)構(gòu)上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述球形可活動機(jī)構(gòu)半徑為R，所述球形可活動機(jī)構(gòu)超出坩堝上蓋的上、下兩部分高度分別為L1、L2，且0.2R≤L1≤0.6R，0.2R≤L2≤0.6R。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述坩堝上蓋朝一側(cè)傾斜。

7.一種蒸鍍坩堝裝置，其特征在于，包括多個權(quán)利要求1至6所述蒸鍍坩堝。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述一種蒸鍍坩堝裝置，其特征在于，所述一種蒸鍍坩堝裝置包括三個所述蒸鍍坩堝；

位于中間的蒸鍍坩堝的坩堝上蓋與水平方向平行，位于兩側(cè)的蒸鍍坩堝的坩堝上蓋朝中間傾斜。