[發(fā)明專利]管改模藥用玻璃模制瓶配方及其制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011641123.5
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112592054A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳剛;袁恒新;杜少君
• 申請（專利權(quán)）人: 山東省藥用玻璃股份有限公司
• 主分類號: C03C3/095
• 分類號: C03C3/095;C03B19/02;C03B25/00;C03B5/03
• 代理公司: 淄博川誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 37275
• 代理人: 高鵬飛

本發(fā)明公開了管改模藥用玻璃模制瓶配方，包括以下組分：二氧化硅68?75％，氧化鋁0?3％，氧化鈣4?6％，氧化鎂2?3％，氧化鈉6?14％，氧化鈰0.1?0.5％，氧化硼3?13％，氧化鋇0?1％；本發(fā)明通過科學(xué)合理的配比，將二氧化硅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鎂、氧化鈉、氧化鈰、氧化硼和氧化鋇混合、熔化制成玻璃原液，然后制備成該要用玻璃瓶，制備方法簡單，并且采用氧化法對玻璃原液進(jìn)行澄清，在一定程度上保證了藥用玻璃瓶質(zhì)量穩(wěn)定，沒有有害物質(zhì)的析出，不會對藥品產(chǎn)生污染，更有利于藥品的儲存，同時(shí)該藥用玻璃瓶具有瓶重輕、壁厚均勻、光潔度高、藥品存儲期長等特點(diǎn)，具有良好的熱膨脹系數(shù)、熱穩(wěn)定性好，抗酸、抗堿、抗水及耐侵蝕能力強(qiáng)等一列優(yōu)良的理化性能。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及玻璃瓶技術(shù)領(lǐng)域，具體為管改模藥用玻璃模制瓶配方及其制備方法。

背景技術(shù)

藥用玻璃模制瓶系列產(chǎn)品，從材質(zhì)上可以分為鈉鈣玻璃和中性硼硅玻璃兩大系列，從產(chǎn)品類別可以分為鈉鈣玻璃模制注射劑瓶、高檔輕量棕色藥用玻璃瓶、紫外線截止玻璃瓶、中性硼硅玻璃模制瓶、藍(lán)綠色功能玻璃瓶。產(chǎn)品具有瓶重輕、壁厚均勻、光潔度高、藥品存儲期長等特點(diǎn)，特別是具有很好的耐水性，耐酸、耐堿、抗化學(xué)腐蝕等一系列優(yōu)良的理化性能。

但是現(xiàn)有的中性硼硅玻璃瓶熱膨脹系數(shù)較大，熱穩(wěn)定性較差，化學(xué)穩(wěn)定性也不好，抗酸、抗堿、抗水及耐侵蝕性較差，因此需要一種化學(xué)穩(wěn)定性較好的，具有很好的化學(xué)穩(wěn)定性的中性硼硅玻璃瓶。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供管改模藥用玻璃模制瓶配方及其制備方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：管改模藥用玻璃模制瓶配方，包括以下組分：二氧化硅68-75％，氧化鋁0-3％，氧化鈣4-6％，氧化鎂2-3％，氧化鈉6-14％，氧化鈰0.1-0.5％，氧化硼3-13％，氧化鋇0-1％。

其中，管改模藥用玻璃模制瓶配方的制備方法，包括以下步驟：

S1、原料：選取足量的二氧化硅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鎂、氧化鈉、氧化鈰、氧化硼和氧化鋇，按比例分別稱取二氧化硅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鎂、氧化鈉、氧化鈰、氧化硼和氧化鋇，備用；

S2、配料：將稱取后的二氧化硅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鎂、氧化鈉、氧化鈰、氧化硼和氧化鋇依次加入到粉碎機(jī)中，通過粉碎機(jī)進(jìn)行粉碎處理，并使得粉碎后的二氧化硅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鎂、氧化鈉、氧化鈰、氧化硼和氧化鋇均勻混合待一起，得到粉末狀原料，然后將粉末狀原料加入到干燥機(jī)中進(jìn)行干燥處理，接著使用球磨機(jī)對干燥后的原料進(jìn)行球磨處理，得到球磨粉；

S3、熔化：將球磨粉加入到熔爐中，高溫加熱，得到均勻無氣泡的玻璃原液；

S4、制瓶：將玻璃原液裝入玻璃模具中進(jìn)行成型處理，冷卻后脫模硬化，得到成型的玻璃模制瓶；

S5、退火：將成型的玻璃模制瓶送入到退火爐內(nèi)進(jìn)行退火處理；

S6、檢驗(yàn)包裝：依次通過瓶口檢驗(yàn)機(jī)和瓶身照相檢驗(yàn)機(jī)對玻璃模制瓶進(jìn)行檢驗(yàn)，然后通過玻璃瓶自動包裝機(jī)將玻璃模制瓶進(jìn)行自動碼垛包裝，最后將包裝后的玻璃模制瓶入庫儲存。

其中，在步驟S2中，所述粉碎機(jī)的粉碎和混合時(shí)間為210秒，所述二氧化硅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鎂、氧化鈉、氧化鈰、氧化硼和氧化鋇的混合均勻度≥98％。

其中，在步驟S2中，所述粉末狀原料干燥后，測量原料的含水量，所述粉末狀原料的含水量≤2％。

其中，在步驟S3中，所述熔爐采用全電熔窯，所述熔爐的熔化溫度為1540℃-1580℃。