[發(fā)明專利]一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011640590.6 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN112779539A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 錢超;楊柯;牛恩眾;余強根 | 申請(專利權(quán))人: | 常州高光半導體材料有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/08 | 分類號: | C23F1/08;C25F7/00 |
| 代理公司: | 濟南鼎信專利商標代理事務所(普通合伙) 37245 | 代理人: | 梁國海 |
| 地址: | 213311 江蘇省常*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 穿戴 金屬 掩膜版用 蝕刻 設(shè)備 | ||
1.一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的頂部固定安裝有作業(yè)池(3),所述作業(yè)池(3)頂部的兩側(cè)均固定安裝有第一導軌(6),所述第一導軌(6)的外部活動套接有第一電動導軌(5),所述第一電動導軌(5)的相對側(cè)固定安裝有折板(4),所述折板(4)的另一端固定安裝有安裝板(12),所述第一導軌(6)的一側(cè)開設(shè)有插銷孔(13),所述插銷孔(13)的內(nèi)部活動安裝有銷軸(17),所述底板(1)頂部的兩側(cè)均開設(shè)有滑槽(14),所述滑槽(14)的內(nèi)部活動安裝有滑塊(16),所述滑塊(16)的頂部固定安裝有第一伸縮柱(15),所述第一伸縮柱(15)的頂部鉸接有第二導軌(11),所述第二導軌(11)的外側(cè)活動套接有第二電動導軌(8),所述第二電動導軌(8)的底部固定安裝有激光打印器(9),所述激光打印器(9)的底部活動安裝有激光發(fā)射頭(20),所述底板(1)的頂部固定安裝有第二伸縮柱(22),所述第二伸縮柱(22)的頂部鉸接有轉(zhuǎn)板(10),所述轉(zhuǎn)板(10)的一側(cè)固定安裝有拉伸彈簧(23),所述拉伸彈簧(23)的另一端固定安裝有吸盤(21)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述安裝板(12)的內(nèi)部開設(shè)有蝕刻板槽(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述安裝板(12)的頂部開設(shè)有凹槽(19)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述滑塊(16)的規(guī)格尺寸與滑槽(14)的規(guī)格尺寸相適配。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述銷軸(17)的規(guī)格尺寸與插銷孔(13)的規(guī)格尺寸相適配。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述作業(yè)池(3)的一側(cè)開設(shè)有排水口。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述作業(yè)池(3)底部活動安裝有第一通電柱(18)和第二通電柱(24),且第一通電柱(18)和第二通電柱(24)分別位于作業(yè)池(3)兩側(cè)的對角線位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種穿戴式金屬掩膜版用蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述底板(1)的頂部固定安裝有控制箱(7),所述控制箱(7)的一側(cè)設(shè)置有數(shù)據(jù)輸入口。
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