[發明專利]發光器件及其制備方法在審
| 申請號: | 202011639297.8 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN114695737A | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發明(設計)人: | 王天鋒 | 申請(專利權)人: | TCL科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414 | 代理人: | 曹柳 |
| 地址: | 516006 廣東省惠州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種發光器件的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
制備包括依次疊層設置的陽極、空穴功能層、量子點發光層、電子功能層和陰極的發光器件;其中,所述電子功能層中包括金屬氧化物傳輸材料;
對所述發光器件進行紫外光照射處理。
2.如權利要求1所述的發光器件的制備方法,其特征在于,所述量子點發光層中包括核殼結構的量子點材料,所述量子點材料的外殼層含有鋅元素。
3.如權利要求1或2所述的發光器件的制備方法,其特征在于,所述紫外光照射處理的步驟包括:在紫外光波長為250~420nm,光波密度10~300mJ/cm2的條件下,對所述發光器件照射10~60min;
和/或,所述紫外光照射處理的條件還包括:在H2O含量小于1ppm,溫度為80~120℃的環境下進行。
4.如權利要求3所述的發光器件的制備方法,其特征在于,所述紫外光照射處理的步驟包括:采用波長為320~420nm,光波密度10~150mJ/cm2的紫外光波從所述陽極一側進行照射處理10~60min;
或者,所述紫外光照射處理的步驟包括:采用波長為250~320nm,光波密度100~300mJ/cm2的紫外光波從所述陰極一側進行照射處理10~60min。
5.如權利要求4所述的發光器件的制備方法,其特征在于,所述金屬氧化物傳輸材料選自:ZnO、TiO2、Fe2O3、SnO2、Ta2O3中的至少一種;
和/或,所述金屬氧化物傳輸材料選自:摻雜有金屬元素的ZnO、TiO2、Fe2O3、SnO2、Ta2O3中的至少一種,其中,所述金屬元素包括鋁、鎂、鋰、鑭、釔、錳、鎵、鐵、鉻、鈷中至少一種;
和/或,所述金屬傳輸材料的粒徑小于等于10nm。
6.如權利要求4所述的發光器件的制備方法,其特征在于,所述量子點材料的外殼層包括:ZnS、ZnSe、ZnTe、CdZnS、ZnCdSe中的至少一種,或者
所述量子點材料的外殼層包括:ZnS、ZnSe、ZnTe、CdZnS、ZnCdSe中的至少兩種形成的合金材料。
7.如權利要求4~6任一所述的發光器件的制備方法,其特征在于,所述電子傳輸層的厚度為10~200nm;
和/或,所述量子點發光層的厚度為8~100nm;
和/或,所述量子點材料的外殼層厚度為0.2~6.0nm。
8.如權利要求7所述的發光器件的制備方法,其特征在于,當紫外光波從所述陰極一側進行照射,且所述電子傳輸層的厚度低于80nm時,所述紫外光照射處理的時長為15分鐘~45分鐘;
或者,當紫外光波從所述陰極一側進行照射,且所述電子傳輸層的厚度高于80nm時,所述紫外光照射處理的時長為30分鐘~90分鐘。
9.如權利要求8所述的發光器件的制備方法,其特征在于,所述陰極包括Mg、Ag、Al、Ca中的至少一種金屬材料,或者
所述陰極包括Mg、Ag、Al、Ca中的至少兩種的合金材料。
10.一種發光器件,其特征在于,所述發光器件由如權利要求1~9任一所述的方法制得。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





