[發明專利]一種1064nm激光吸收染料及制備方法、光學-紅外-激光兼容隱身涂層在審
| 申請號: | 202011638882.6 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN112759946A | 公開(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發明(設計)人: | 陶益杰;張朝陽;丁心雄;孟曉明;周建偉;閆佳 | 申請(專利權)人: | 上海戎科特種裝備有限公司 |
| 主分類號: | C09B57/00 | 分類號: | C09B57/00;C09B67/22;C07D221/06;C09B67/20;C09D175/04;C09D5/32;C09D5/30 |
| 代理公司: | 長沙國科天河知識產權代理有限公司 43225 | 代理人: | 邱軼 |
| 地址: | 201414 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 1064 nm 激光 吸收 染料 制備 方法 光學 紅外 兼容 隱身 涂層 | ||
本發明公開了一種1064nm激光吸收染料及制備方法、光學?紅外?激光兼容隱身涂層,該激光吸收染料在1064nm處具有良好的選擇性吸收特性,摩爾消光系數為4.2×105M?1·cm?1,半峰寬為56nm。該制備方法包括N?烷基化季胺鹽、甲基取代的萘基吲哚型衍生物的合成以及耦聯合成最終產物等步驟,該制備方法工藝簡單,適用于大規模生產。基于該激光染料良好的激光吸收特性,本發明將所合成染料用于光學?紅外?激光兼容隱身涂層,通過將激光吸收染料與樹脂、光學顏料和低發射率填料等結合,提供了光學顏色滿足偽裝標準要求、1064nm低反射率、紅外低發射率的光學?紅外?激光兼容隱身涂層。
技術領域
本發明涉及激光吸收染料技術領域,尤其是一種1064nm激光吸收染料及制備方法、光學-紅外-激光兼容隱身涂層。
背景技術
隨著軍事科技的快速發展,光學、紅外、激光等探測和制導打擊手段得到了充分發展和廣泛應用。當前,軍事目標一旦被探測,就意味著被捕獲和摧毀。通常,軍事裝備由于采用金屬結構,而具有非常明顯的目標特性,導致其極易被探測打擊,因此,為提高軍事裝備的戰場生存能力,對其實施隱身防護,降低目標特性信息具有十分重要的意義。
紅外探測器主要是通過探測目標的紅外輻射強度,對目標進行識別,一般目標的紅外輻射強度越大,被發現的概率越高;而紅外輻射強度與溫度、發射率相關,在溫度難以自主設計的條件下,降低紅外發射率將有效減少目標的紅外輻射。另一方面,用于軍事探測和制導的激光波長主要是1.06μm,而實現激光隱身防護性能最簡單的方式是利用涂層或材料降低目標在1.06μm的反射率。除紅外與激光防護外,光學隱身防護已成為目標隱身防護的基本要求,其要求目標的光學顏色與背景融合。
對于裝備的隱身防護而言,針對單一波段如光學、紅外、激光的防護較容易實現,而多波段兼容則一直是隱身防護領域的難點,主要是激光波段的隱身防護要求在近紅外波段具有極低的反射率,易與光學、紅外防護的實現存在較大的沖突。
發明內容
本發明提供一種1064nm激光吸收染料及制備方法、光學-紅外-激光兼容隱身涂層,用于克服現有技術中單一涂層難以實現光學-紅外-激光兼容隱身的問題。
為實現上述目的,本發明提出一種1064nm激光吸收染料,所述激光吸收染料的結構式如下:
為實現上述目的,本發明還提出一種1064nm激光吸收染料的制備方法,包括如下步驟:
S1:以1,8-萘酚內酰胺為原料,加入季胺鹽催化劑、氫氧化鈉和苯,攪拌加熱,滴加硫酸二辛酯,反應4~6h,分離提純,獲得N-烷基化季胺鹽;
S2:向DMF、三氯氧磷和二氯甲烷的混合液中加入所述N-烷基化季胺鹽,滴加吡啶,加熱反應4~6h,萃取,干燥,獲得中間產物;
S3:將所述中間產物加入到無水DMF中,在氮氣保護條件下滴加溶有CH3MgBr的DMF混合溶液,加熱攪拌2~4h,冰浴、萃取,獲得甲基取代的萘基吲哚型衍生物;
S4:按摩爾比為1:1.05稱取2-氯-1-甲酰-3-羥基和N,N-二乙基-4-氨基苯酚,溶于無水DMF中,在氮氣保護下加熱反應3.0h,獲得2-氯-1-甲酰-3-羥基亞甲基環己烯;
S5:按照摩爾比2:1稱取所述甲基取代的萘基吲哚型衍生物和2-氯-1-甲酰-3-羥基亞甲基環己烯,加入體積比為7:3的正丁醇/甲苯的混合溶液100~200ml,在加熱條件下回流反應12h,獲得激光吸收染料。
為實現上述目的,本發明還提出一種光學-紅外-激光兼容隱身涂層,所述隱身涂層原料組成及組分重量份數如下:
上述所述的激光吸收染料或者上述所述制備方法制備的激光吸收染料:0.1~0.5;
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