[發明專利]一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法

在審

• 申請號: 202011636476.6
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112698752A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 白云
• 申請（專利權）人: 深圳市中光電發展集團有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，包括以下步驟：選取基板、基板加工處理、金屬網面制作、金屬網面加工、電鍍覆膜、單層膜加工、基板二次處理、粘接柔性電路板以及觸摸屏組裝，先選取合適基板并進行加工處理，然后在基板表面涂抹含碳溶液獲得含碳層，將具有含碳層的基板進行鍍銅處理獲得金屬網面，再通過電鍍覆膜將ITO導電薄膜組裝到基板表面，并對基板進行二次處理，利用氫氟酸混合液對其進行減薄處理，獲得減薄后的基板，接著粘接柔性電路板并進行電測以及質檢，最后與終端產品模組組裝，利用含碳層鍍銅制取金屬網面，并配合單層ITO導電薄膜進行組裝，利用CNC機床對基板進行多次加工，使制得的觸摸屏具有更高的穩定性。

技術領域

本發明涉及觸摸屏領域，特別涉及一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法。

背景技術

觸摸屏是一種可接收觸頭等輸入訊號的感應式液晶顯示裝置，觸摸屏作為一種最新的電腦輸入設備，它是簡單、方便、自然的一種人機交互方式。它賦予了多媒體以嶄新的面貌，是極富吸引力的全新多媒體交互設備，主要應用于公共信息的查詢、工業控制、軍事指揮、電子游戲、多媒體教學等，常用的觸摸屏采用ITO導電薄膜直接制作電極圖案與導電線路，不僅加工難度大，且穩定性不足，不利于觸摸屏的長期使用。

發明內容

本發明的主要目的在于提供一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，可以有效解決背景技術中的問題。

為實現上述目的，本發明采取的技術方案為：

一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，包括以下步驟：

S1：選取基板，為觸摸屏選取適宜材質的基板；

S2：基板加工處理，使用CNC加工機床對基板進行裁切加工，并進行清潔；

S3：金屬網面制作，在基板的一面涂上含碳溶液，靜置后獲得含碳層，再對含碳層按照預定圖形進行曝光顯影，然后對含碳層進行鍍銅處理，獲得金屬網面；

S4：金屬網面加工，通過蝕刻技術對金屬網面進行加工，成型導電線路，并在基板一端形成電路接口端；

S5：電鍍覆膜，電鍍單層ITO導電薄膜直基板表面；

S6：單層膜加工，在ITO導電薄膜上制作電極圖案；

S7：基板二次處理，先利用CNC加工機床對基板進行磨邊加工，并對廢料進行清潔，然后利用氫氟酸工藝對基板進行蝕刻減薄處理；

S8；粘接柔性電路板，將柔性電路板粘接至基板的的電路接口端；

S9；觸摸屏組裝，將該單層膜結構觸摸屏組裝至終端產品模組內。

優選的，所述S1步驟中，選取的基板采用聚甲基丙烯酸甲酯材料制成。

優選的，所述S2步驟中，在裁切加工完成后，使用超聲波清洗設備對基板表面進行清潔，去除碎屑。

優選的，所述S3步驟中，含碳溶液涂抹后，靜置時間為30分鐘，在對含碳層進行電鍍處理時，應將基本置于含有銅離子的溶液中進行電鍍銅，從而制取金屬網面。

優選的，所述S7步驟中，磨邊加工后的基板，需再次利用超聲波清洗設備對碎屑進行清洗，在氫氟酸工藝的處理中，選用氫氟酸、硫酸、氯化鈉的混合液體進行蝕刻處理，其中氫氟酸、硫酸、氯化鈉以及水的配比為6∶1∶2∶10，蝕刻減薄處理的時間控制在3至8分鐘。

優選的，所述S8步驟中，在柔性電路板粘接完成后，需經過電測和質檢等步驟來完成制程。

與現有技術相比，本發明具有如下有益效果：