[發明專利]一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法

在審

• 申請號: 202011636476.6
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112698752A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 白云
• 申請（專利權）人: 深圳市中光電發展集團有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1：選取基板，為觸摸屏選取適宜材質的基板；

S2：基板加工處理，使用CNC加工機床對基板進行裁切加工，并進行清潔；

S3：金屬網面制作，在基板的一面涂上含碳溶液，靜置后獲得含碳層，再對含碳層按照預定圖形進行曝光顯影，然后對含碳層進行鍍銅處理，獲得金屬網面；

S4：金屬網面加工，通過蝕刻技術對金屬網面進行加工，成型導電線路，并在基板一端形成電路接口端；

S5：電鍍覆膜，電鍍單層ITO導電薄膜直基板表面；

S6：單層膜加工，在ITO導電薄膜上制作電極圖案；

S7：基板二次處理，先利用CNC加工機床對基板進行磨邊加工，并對廢料進行清潔，然后利用氫氟酸工藝對基板進行蝕刻減薄處理；

S8；粘接柔性電路板，將柔性電路板粘接至基板的的電路接口端；

S9；觸摸屏組裝，將該單層膜結構觸摸屏組裝至終端產品模組內。

2.根據權利要求1所述的一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，其特征在于：所述S1步驟中，選取的基板采用聚甲基丙烯酸甲酯材料制成。

3.根據權利要求1所述的一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，其特征在于：所述S2步驟中，在裁切加工完成后，使用超聲波清洗設備對基板表面進行清潔，去除碎屑。

4.根據權利要求1所述的一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，其特征在于：所述S3步驟中，含碳溶液涂抹后，靜置時間為30分鐘，在對含碳層進行電鍍處理時，應將基本置于含有銅離子的溶液中進行電鍍銅，從而制取金屬網面。

5.根據權利要求1所述的一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，其特征在于：所述S7步驟中，磨邊加工后的基板，需再次利用超聲波清洗設備對碎屑進行清洗，在氫氟酸工藝的處理中，選用氫氟酸、硫酸、氯化鈉的混合液體進行蝕刻處理，其中氫氟酸、硫酸、氯化鈉以及水的配比為6∶1∶2∶10，蝕刻減薄處理的時間控制在3至8分鐘。

6.根據權利要求1所述的一種單層膜結構的高穩定性觸摸屏制作方法，其特征在于：所述S8步驟中，在柔性電路板粘接完成后，需經過電測和質檢等步驟來完成制程。