[發明專利]鏡頭畸變補償方法、存儲介質以及直寫式光刻機

有效

• 申請號: 202011635539.6
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112748644B
• 公開（公告）日: 2022-09-23
• 發明（設計）人: 趙美云
• 申請（專利權）人: 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京景聞知識產權代理有限公司 11742
• 代理人: 朱鴻雁

本發明公開了一種鏡頭畸變補償方法、存儲介質以及直寫式光刻機，鏡頭畸變補償方法包括，獲取光刻版圖的版圖數據；根據預設曝光步進寬度將所述版圖數據劃分為多個曝光數據組；根據畸變趨勢方程對每個所述曝光數據組進行補償以獲得補償后的曝光數據，所述畸變趨勢方程為所述曝光數據組中數據點的相對位置與所述直寫式光刻機鏡頭的畸變誤差的關系方程；根據所述補償后的曝光數據進行曝光處理。該方法可以縮小物鏡畸變誤差，提升直寫式光刻機的位置精度和多層對準或套刻的能力，提高制程能力。

技術領域

本發明涉及光刻機技術領域，尤其是涉及一種鏡頭畸變補償方法、一種計算機存儲介質和一種直寫式光刻機。

背景技術

直寫式光刻技術是在感光材料的表面印刷具有特征的構圖的技術，其中無掩膜光刻技術使用數字微鏡系統生成構圖，通過光學投影元件，圖像以一定得倍率投影到光敏感的襯底上，產生特征的構圖。

直寫式光刻機將曝光光源照射至DMD(Digital Micro-mirror Device，數字微鏡)鏡面上，通過小鏡片反射以及物鏡縮放，投影至曝光載臺上的基底表面，并與基底上的感光介質發生反應，從而將需要曝光的光刻圖形轉移到基底上。其中，成像物鏡的倍率，通常為標定相機或其他可用標定設備，利用標定mark對鏡頭進行標定，但由于物鏡畸變的客觀存在，使得實際標定的倍率為平均倍率或以中心倍率，而對于物鏡視場內靠近邊緣區域，其倍率是無法準確測量的。由此，因物鏡畸變造成的誤差，對直寫式光刻機的位置精度和多層對準或套刻能力的提升也造成了一定的難度。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明的一個目的在于提出一種鏡頭畸變補償方法，該方法可以縮小物鏡畸變誤差，提升直寫式光刻機的位置精度和多層對準或套刻的能力，提高制程能力。

本發明的目的之二在于提出一種計算機存儲介質。

本發明的目的之三在于提出一種直寫式光刻機。

為了解決上述問題，本發明第一方面實施例的鏡頭畸變補償方法，用于直寫式光刻機，包括：獲取光刻版圖的版圖數據；根據預設曝光步進寬度將所述版圖數據劃分為多個曝光數據組；根據畸變趨勢方程對每個所述曝光數據組進行補償以獲得補償后的曝光數據，所述畸變趨勢方程為所述曝光數據組中數據點的相對位置與所述直寫式光刻機鏡頭的畸變誤差的關系方程；根據所述補償后的曝光數據進行曝光處理。

根據本發明實施例的鏡頭畸變補償方法，通過直寫式光刻機根據預設曝光步進寬度將獲取的版圖數據劃分為多個曝光數據組，進而根據畸變趨勢方程對每個曝光數據組進行補償以獲得補償后的曝光數據，即在曝光數據未曝光之前，根據畸變趨勢方程對每個曝光數據組中的數據點進行畸變矯正，可以縮小物鏡畸變誤差，提升直寫式光刻機的位置精度和多層對準或套刻的能力，提高光刻機的制程能力。

在一些實施例中，根據畸變趨勢方程對每個所述曝光數據組進行補償，包括：對于每個所述曝光數據組，確定所述曝光數據組的中心數據點；獲得所述曝光數據組中每個數據點與所述中心數據點的相對距離，以作為對應數據點的相對位置；將每個數據點與所述中心數據點的相對距離代入所述畸變趨勢方程以獲得每個數據點的畸變誤差；將所述畸變誤差補償給所述曝光數據組中對應的曝光數據。

在一些實施例中，所述畸變趨勢方程通過以下步驟獲得并保存：

獲得標準版圖的理論間距值，其中，所述標準版圖包括M*N的標記點陣列，所述理論間距值為所述標記點陣列中相鄰列標記點之間的第一間距值，M為大于0的自然數，N為大于1的自然數，0理論間距值條帶曝光寬度；

對所述標記點陣列進行曝光處理，獲得曝光處理后的標記點陣列；

獲得曝光處理后的標記點陣列中相鄰列標記點之間的第二間距值；

獲得間距差值陣列，其中，所述間距差值陣列包括i*j的間距差值，所述間距差值為第二間距值與對應的第一間距值的差值，0iM,0jN；