[發(fā)明專利]一種自動(dòng)化激光直寫裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011628694.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112631084A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐海東;俞慶平;陳宏;鄭國(guó)亮;趙強(qiáng);陸宗健;李文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安徽地勢(shì)坤光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;B65G49/06 |
| 代理公司: | 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 高微微 |
| 地址: | 236158 安*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 自動(dòng)化 激光 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種自動(dòng)化激光直寫裝置,涉及激光直寫技術(shù)領(lǐng)域,包括進(jìn)板輸送機(jī)構(gòu)、用于對(duì)平面基板進(jìn)行氣浮傳送的氣浮送板機(jī)構(gòu)、用于對(duì)平面基板進(jìn)行曝光的曝光機(jī)構(gòu)和用于對(duì)已曝光的平面基板進(jìn)行輸出的出板輸送機(jī)構(gòu);輸送機(jī)構(gòu)的輸出端與氣浮送板機(jī)構(gòu)的輸入端連接,氣浮送板機(jī)構(gòu)的輸出端與曝光機(jī)構(gòu)的曝光臺(tái)面機(jī)構(gòu)的輸入端連接,曝光臺(tái)面機(jī)構(gòu)的輸出端與出板輸送機(jī)構(gòu)的輸入端連接,平面基板依次經(jīng)過進(jìn)板輸送機(jī)構(gòu)、氣浮送板機(jī)構(gòu)進(jìn)入曝光機(jī)構(gòu)的曝光臺(tái)面機(jī)構(gòu),曝光后經(jīng)出板輸送機(jī)構(gòu)輸出;本激光直寫設(shè)備對(duì)平面基板進(jìn)行氣浮輸送,在基本不損傷平面基板的情況下,實(shí)現(xiàn)了平面基板的全自動(dòng)上下板。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光直寫技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種自動(dòng)化激光直寫裝置。
背景技術(shù)
光刻技術(shù)是用于在基板表面上印刷具有特征構(gòu)圖的技術(shù)。這樣的基板可用于制造半導(dǎo)體器件、多種集成電路、平面顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、生物芯片、微機(jī)械電子芯片、光電子線路芯片等。
激光直寫技術(shù)是利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光,顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓。以其工藝流程簡(jiǎn)單、生產(chǎn)效率高、制造成本低等特點(diǎn),很快取代了傳統(tǒng)的掩膜板式的光刻技術(shù),成為在平面基板、半導(dǎo)體等生產(chǎn)領(lǐng)域最重要和最普遍的技術(shù)。其中平面基板的輸送是激光直寫設(shè)備中重要的工序。
但是現(xiàn)有技術(shù)的激光直寫設(shè)備多數(shù)存在以下問題:平面基板在向曝光機(jī)構(gòu)輸送以進(jìn)行曝光的過程中往往由于滾動(dòng)、滑動(dòng)等摩擦,造成平面基板表面出現(xiàn)損傷,從而影響了平面基板后續(xù)曝光后的質(zhì)量,造成平面基板成品的合格率較低,從而增加了企業(yè)的經(jīng)營(yíng)成本。
發(fā)明內(nèi)容
基于背景技術(shù)存在的技術(shù)問題,本發(fā)明提出了一種自動(dòng)化激光直寫裝置,流水線的平面基板能依次實(shí)現(xiàn)居中對(duì)正和曝光的獨(dú)立進(jìn)行,極大程度的提高了平面基板的生產(chǎn)效率。
本發(fā)明提出的一種自動(dòng)化激光直寫裝置,包括進(jìn)板輸送機(jī)構(gòu)、用于對(duì)平面基板進(jìn)行氣浮傳送的氣浮送板機(jī)構(gòu)、用于對(duì)平面基板進(jìn)行曝光的曝光機(jī)構(gòu)和用于對(duì)已曝光的平面基板進(jìn)行輸出的出板輸送機(jī)構(gòu);輸送機(jī)構(gòu)的輸出端與氣浮送板機(jī)構(gòu)的輸入端連接,氣浮送板機(jī)構(gòu)的輸出端與曝光機(jī)構(gòu)的曝光臺(tái)面機(jī)構(gòu)的輸入端連接,曝光臺(tái)面機(jī)構(gòu)的輸出端與出板輸送機(jī)構(gòu)的輸入端連接,平面基板依次經(jīng)過進(jìn)板輸送機(jī)構(gòu)、氣浮送板機(jī)構(gòu)進(jìn)入曝光機(jī)構(gòu)的曝光臺(tái)面機(jī)構(gòu),曝光后經(jīng)出板輸送機(jī)構(gòu)輸出。
進(jìn)一步地,平面基板的運(yùn)動(dòng)輸送方向與曝光機(jī)構(gòu)上激光成像組件的運(yùn)動(dòng)方向垂直。
進(jìn)一步地,所述氣浮送板機(jī)構(gòu)包括用于對(duì)平面基板進(jìn)行氣浮的曝光前氣浮平臺(tái)和用于將曝光前氣浮平臺(tái)上的平面基板夾持輸送到曝光臺(tái)面機(jī)構(gòu)上的夾持機(jī)構(gòu),夾持機(jī)構(gòu)和曝光前氣浮平臺(tái)均固定于整體機(jī)架上。
進(jìn)一步地,所述夾持機(jī)構(gòu)包括框體骨架、夾持組件和用于驅(qū)動(dòng)夾持組件對(duì)平面基板進(jìn)行夾持輸送的電機(jī)組件,夾持組件可滑動(dòng)設(shè)置于框體骨架上,電機(jī)組件固定設(shè)置于框體骨架上,框體骨架可滑動(dòng)設(shè)置于整體機(jī)架上;所述框體骨架設(shè)置于曝光前氣浮平臺(tái)的上方、并可滑動(dòng)固定于整體機(jī)架上。
進(jìn)一步地,所述夾持組件包括橫向夾持塊和縱向夾持塊,至少兩個(gè)橫向夾持塊在框體骨架上相對(duì)設(shè)置,至少兩個(gè)縱向夾持塊在框體骨架上相對(duì)設(shè)置,橫向夾持塊和縱向夾持塊形成的空間用于夾持平面基板;所述夾持組件還包括用于固定橫向夾持塊的橫向滑動(dòng)塊和用于固定縱向夾持塊的縱向滑動(dòng)塊,橫向滑動(dòng)塊和縱向滑動(dòng)塊均與框體骨架滑動(dòng)連接,橫向滑動(dòng)塊上固定設(shè)置有第一升降氣缸,縱向滑動(dòng)塊上固定設(shè)置有第二升降氣缸,第一升降氣缸的升降端與橫向夾持塊固定連接,第二升降氣缸的升降端與縱向夾持塊固定連接。
進(jìn)一步地,所述電機(jī)組件包括橫向電機(jī)和縱向電機(jī),所述在框體骨架同側(cè)面的橫向夾持塊固定于框體骨架上,在框體骨架同側(cè)面的橫向夾持塊通過橫向電機(jī)驅(qū)動(dòng)橫向運(yùn)動(dòng),在框體骨架同側(cè)面的縱向夾持塊通過其中一縱向電機(jī)驅(qū)動(dòng)縱向運(yùn)動(dòng),在框體骨架另一同側(cè)面的縱向夾持塊通過另一縱向電機(jī)驅(qū)動(dòng)縱向運(yùn)動(dòng)。
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- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 自動(dòng)化設(shè)備和自動(dòng)化系統(tǒng)
- 一種基于流程驅(qū)動(dòng)的測(cè)試自動(dòng)化方法以及測(cè)試自動(dòng)化系統(tǒng)
- 用于工業(yè)自動(dòng)化設(shè)備認(rèn)識(shí)的系統(tǒng)和方法
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