[發(fā)明專利]蒸鍍裝置及蒸鍍方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011619121.6 | 申請日: | 2020-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN112813383A | 公開(公告)日: | 2021-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙文炎;王彥青 | 申請(專利權(quán))人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/54;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 065500 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 方法 | ||
本申請實施例公開一種蒸鍍裝置及蒸鍍方法。本申請實施例第一方面提供一種蒸鍍裝置,包括,掩膜板、蒸鍍源以及監(jiān)測設(shè)備,蒸鍍源通過掩膜板對待蒸鍍基板進(jìn)行蒸鍍,監(jiān)測設(shè)備用于監(jiān)測待蒸鍍基板靠近掩膜板一側(cè)表面的殘留物。采用本申請第一方面的蒸鍍方法得到的顯示面板,顯示面完整性高,整體顯示效果優(yōu)異,避免了顯示面出現(xiàn)黑斑的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種蒸鍍裝置及蒸鍍方法。
背景技術(shù)
具有有機發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)顯示面板的顯示模組因具有高畫質(zhì)、省電、機身薄及應(yīng)用范圍廣等優(yōu)點,而被廣泛的應(yīng)用于手機、電視、個人數(shù)字助理、數(shù)字相機、筆記本電腦、臺式計算機等各種消費性電子產(chǎn)品,成為顯示領(lǐng)域中的主流顯示模組。
然而,一般的顯示面板顯示過程中在顯示面上會出現(xiàn)黑斑,使得顯示面板顯示時出現(xiàn)整體的顯示內(nèi)容缺失,顯示面完整性差的問題。
因此,急需一種新的蒸鍍裝置及蒸鍍方法。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例提供一種蒸鍍裝置及蒸鍍方法。采用本申請實施例提供的蒸鍍裝置得到的顯示面板顯示面完整性高,整體顯示質(zhì)量好,避免顯示面出現(xiàn)黑斑的問題。
本申請實施例第一方面提供一種蒸鍍裝置,包括:
掩膜板、蒸鍍源以及監(jiān)測設(shè)備,蒸鍍源通過掩膜板對待蒸鍍基板進(jìn)行蒸鍍,監(jiān)測設(shè)備用于監(jiān)測待蒸鍍基板靠近掩膜板一側(cè)表面的殘留物。
在本申請實施例第一方面一種可能的實施方式中,監(jiān)測設(shè)備包括至少一組發(fā)射器和接收器;
發(fā)射器用于向掩膜板和待蒸鍍基板之間的間隙發(fā)射檢測波,接收器用于接收檢測波以判斷殘留物的高度是否超過預(yù)設(shè)值。
在本申請實施例第一方面一種可能的實施方式中,接收器接收殘留物反射的檢測波。
在本申請實施例第一方面一種可能的實施方式中,檢測波與待蒸鍍基板之間最短距離為L,掩膜板和待蒸鍍基板之間的間隙距離為H,最短距離L和間隙距離H之間滿足以下關(guān)系式(1):
L/H=K 式(1)
其中,距離比值K的取值范圍是0.05至0.5;
優(yōu)選的,距離比值K的取值范圍是0.05至0.2;
優(yōu)選的,間隙距離H的取值范圍是10微米至100微米;
優(yōu)選的,所述最短距離L的取值范圍是5微米至10微米。
在本申請實施例第一方面一種可能的實施方式中,發(fā)射器發(fā)射紅外線或超聲波。
在本申請實施例第一方面一種可能的實施方式中,監(jiān)測設(shè)備還包括信息處理裝置,用于根據(jù)接收器接收的檢測波判斷殘留物的高度是否超過預(yù)設(shè)值,當(dāng)判斷殘留物的高度超過預(yù)設(shè)值,信息處理裝置發(fā)出報警指令;
報警器,用于接收報警指令并發(fā)出警報。
在本申請實施例第一方面一種可能的實施方式中,監(jiān)測設(shè)備還包括控制模塊,控制模塊用于接收報警指令并控制蒸鍍裝置停止工作。
本申請第二方面提供一種蒸鍍方法,蒸鍍方法包括:
固定待蒸鍍基板、并提供掩膜板與待蒸鍍基板進(jìn)行對位放置;
在待蒸鍍基板與掩膜板之間保持預(yù)設(shè)間隙的工藝條件下,利用蒸鍍源使蒸鍍材料通過掩膜板蒸鍍到待蒸鍍基板;
利用監(jiān)測設(shè)備對待蒸鍍基板靠近掩膜板一側(cè)表面的殘留物進(jìn)行監(jiān)測;
根據(jù)殘留物的監(jiān)測數(shù)據(jù)確定是否停止使用當(dāng)前掩膜板持續(xù)蒸鍍作業(yè)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





