[發明專利]一種檢測近場物體的方法、裝置、介質和電子設備有效
| 申請號: | 202011619047.8 | 申請日: | 2020-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN112804447B | 公開(公告)日: | 2023-01-17 |
| 發明(設計)人: | 于煬;吳震 | 申請(專利權)人: | 北京石頭創新科技有限公司 |
| 主分類號: | H04N23/95 | 分類號: | H04N23/95;H04N23/74 |
| 代理公司: | 北京睿馳通程知識產權代理事務所(普通合伙) 11604 | 代理人: | 張文平;唐華 |
| 地址: | 102200 北京市昌平區中關村科*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 近場 物體 方法 裝置 介質 電子設備 | ||
1.一種檢測近場物體的方法,其特征在于,包括:
采集補光燈補光前的第一圖像,以及啟動所述補光燈補光時的第二圖像;
基于所述第一圖像和所述第二圖像,生成包括區域亮斑的第三圖像,所述區域亮斑通過啟動所述補光燈且補光燈處于過曝狀態產生;
基于預設像素閾值獲取所述第三圖像中區域亮斑連通域的區域大小值;
當所述區域大小值大于或等于預設區域大小閾值時,確定存在所述近場物體。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一圖像和所述第二圖像,生成包括區域亮斑的第三圖像,包括:
基于所述第一圖像中的像素值的均值,生成第一背景圖像;
根據所述第二圖像和所述第一背景圖像,生成第一差異圖像;
基于預設二值化閾值對所述第一差異圖像進行二值化處理,生成所述第三圖像。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一圖像和所述第二圖像,生成包括區域亮斑的第三圖像,包括:
從所述第一圖像中獲取第一區域圖像;
基于所述第一區域圖像中的像素值的均值,生成第二背景圖像;
從所述第二圖像中獲取對應于所述第一區域圖像的第二區域圖像;
根據所述第二區域圖像和所述第二背景圖像,生成第二差異圖像;
基于預設二值化閾值對所述第二差異圖像進行二值化處理,生成所述第三圖像。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一區域圖像中的像素值的均值,生成所述第二背景圖像,包括:
將所述第一區域圖像分成多個第一區域塊;
分別對每個第一區域塊中的像素值進行均值計算,生成所述第二背景圖像,其中,所述第二背景圖像包括與所述多個第一區域塊對應的多個背景區域塊。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述根據所述第二區域圖像和所述第二背景圖像,生成所述第二差異圖像,包括:
基于所述背景區域塊將所述第二區域圖像分成多個對應所述背景區域塊的第二區域塊;
分別基于所述第二區域塊和對應的所述背景區域塊,生成所述第二差異圖像。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述采集補光燈補光前的第一圖像,以及啟動所述補光燈補光時的第二圖像,包括:
當啟動所述補光燈補光且補光參數值調整時,采集所述第二圖像。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:在旋轉或轉彎之后或在旋轉或轉彎的過程中,采集補光燈補光前的第一圖像,以及啟動所述補光燈補光時的第二圖像。
8.一種檢測近場物體的裝置,其特征在于,包括:
采集單元,用于采集補光燈補光前的第一圖像,以及啟動所述補光燈補光時的第二圖像;
處理單元,用于基于所述第一圖像和所述第二圖像,生成包括區域亮斑的第三圖像,所述區域亮斑通過啟動所述補光燈且補光燈處于過曝狀態產生;
分析單元,用于基于預設像素閾值獲取所述第三圖像中區域亮斑連通域的區域大小值;
當所述區域大小值大于或等于預設區域大小閾值時,確定存在所述近場物體。
9.根據權利要求8所述的裝置,其特征在于,所述處理單元,用于:
基于所述第一圖像中的像素值的均值,生成第一背景圖像;
根據所述第二圖像和所述第一背景圖像,生成第一差異圖像;
基于預設二值化閾值對所述第一差異圖像進行二值化處理,生成所述第三圖像。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京石頭創新科技有限公司,未經北京石頭創新科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011619047.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





