[發(fā)明專利]器件窗口檢驗方法、裝置、設備和存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011616455.8 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN112698185B | 公開(公告)日: | 2023-07-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 樊強 | 申請(專利權)人: | 海光信息技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/28 | 分類號: | G01R31/28 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 唐菲 |
| 地址: | 300450 天津市濱海新區(qū)天津華苑*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 器件 窗口 檢驗 方法 裝置 設備 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種器件窗口檢驗方法,其特征在于,包括:
獲取待測批次中每個晶圓上每個芯片的器件性能信息,其中所述芯片內(nèi)設置有性能監(jiān)控測試單元,所述器件性能信息由所述性能監(jiān)控測試單元測試得到,所述器件性能信息包括所述芯片的飽和電流;
根據(jù)每個所述芯片的所述器件性能信息,對所述晶圓中的芯片進行分類;
對分類后的芯片組做器件窗口檢驗,生成所述芯片產(chǎn)品的最終器件窗口,
其中,所述對分類后的芯片組做器件窗口檢驗,生成所述芯片產(chǎn)品的最終器件窗口,包括:
獲取每個所述芯片組的良率信息;
基于所述良率信息繪制所述芯片產(chǎn)品的良率等高線;
選取符合預設良率閾值的目標等高線,所述最終器件窗口為所述目標等高線所屬的目標區(qū)域范圍,實際目標值為所述目標區(qū)域范圍的中心點值。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)每個所述芯片的所述器件性能信息,對所述晶圓中的芯片進行分類,包括:
將多個所述芯片的器件性能信息與預設性能閾值進行比對,按照器件速率的大小,將多個所述芯片劃分成多個芯片組。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法,其特征在于,所述預設性能閾值為飽和電流閾值;所述將多個所述芯片的器件性能信息與預設性能閾值進行比對,按照器件速率的大小,將多個所述芯片劃分成多個芯片組,包括:
將所述飽和電流在所述飽和電流閾值限定的電流閾值范圍內(nèi)的芯片分入第一芯片組,將所述飽和電流大于所述電流閾值范圍的芯片分入第二芯片組,將所述飽和電流小于所述電流閾值范圍的芯片分入第三芯片組。
4.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述選取符合所述預設良率閾值的目標等高線,所述最終器件窗口為所述目標等高線所屬的目標區(qū)域范圍,實際目標值為所述目標區(qū)域范圍的中心點值之后,還包括:
將所述最終器件窗口和所述實際目標值輸出,并反饋給制程節(jié)點。
5.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述選取符合所述預設良率閾值的目標等高線,所述最終器件窗口為所述目標等高線所屬的目標區(qū)域范圍,實際目標值為所述目標區(qū)域范圍的中心點值之后,還包括:
基于所述最終器件窗口和所述實際目標值生成窗口修正指令,并發(fā)送所述窗口修正指令至制程節(jié)點。
6.一種器件窗口檢驗裝置,其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取待測批次中每個晶圓上每個芯片的器件性能信息,其中所述芯片內(nèi)設置有性能監(jiān)控測試單元,所述器件性能信息由所述性能監(jiān)控測試單元測試得到,所述器件性能信息包括所述芯片的飽和電流;
分類模塊,用于根據(jù)每個所述芯片的所述器件性能信息,對所述晶圓中的芯片進行分類;
檢驗模塊,用于對分類后的芯片組做器件窗口檢驗,生成所述芯片產(chǎn)品的最終器件窗口;
其中,所述檢驗模塊,用于:
獲取每個所述芯片組的良率信息;
基于所述良率信息繪制所述芯片產(chǎn)品的良率等高線;
選取符合預設良率閾值的目標等高線,所述最終器件窗口為所述目標等高線所屬的目標區(qū)域范圍,實際目標值為所述目標區(qū)域范圍的中心點值。
7.一種電子設備,其特征在于,包括:
存儲器,用以存儲計算機程序;
處理器,用以執(zhí)行如權利要求1至5中任一項所述的方法,以檢驗待測批次中每個晶圓上每個芯片的器件性能,并得出芯片產(chǎn)品的器件窗口。
8.一種非暫態(tài)電子設備可讀存儲介質(zhì),其特征在于,包括:程序,當其藉由電子設備運行時,使得所述電子設備執(zhí)行權利要求1至5中任一項所述的方法。
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