[發(fā)明專利]一種晶圓的清洗方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011613501.9 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112864051B | 公開(公告)日: | 2022-01-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 錢誠(chéng);童建;霍召軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇亞電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;B08B1/00;B08B1/02;B08B3/02;B08B13/00;F26B5/14;F26B5/16 |
| 代理公司: | 北京商專潤(rùn)文專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11317 | 代理人: | 陳平 |
| 地址: | 225300 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 清洗 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種晶圓的清洗方法,使用的裝置包括保護(hù)機(jī)構(gòu)、固定機(jī)構(gòu)、傳送機(jī)構(gòu)、清洗機(jī)構(gòu),所述保護(hù)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有所述傳送機(jī)構(gòu),所述傳送機(jī)構(gòu)上端連接有所述固定機(jī)構(gòu),所述固定機(jī)構(gòu)上側(cè)設(shè)置有所述清洗機(jī)構(gòu),所述清洗機(jī)構(gòu)之間通過(guò)聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接,所述清洗機(jī)構(gòu)、所述傳送機(jī)構(gòu)動(dòng)力端均連接動(dòng)力機(jī)構(gòu)。本發(fā)明所述齒條起配合配合齒輪作用,從而使得晶圓在清潔時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn),利用多級(jí)聯(lián)動(dòng)效果,提高了動(dòng)能利用率,同時(shí)能夠進(jìn)行配合運(yùn)動(dòng)清洗提高清洗效果,利用移動(dòng)的固定座配合按壓彈性閥進(jìn)行噴水清洗,同時(shí)避免清潔劑的空噴,從而提高清潔劑的使用效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及晶圓加工領(lǐng)域,特別是涉及一種晶圓的清洗方法。
背景技術(shù)
晶圓是指制作硅半導(dǎo)體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種,然后慢慢拉出,形成圓柱形的單晶硅。硅晶棒在經(jīng)過(guò)研磨,拋光,切片后,形成硅晶圓片,也就是晶圓。目前國(guó)內(nèi)晶圓生產(chǎn)線以8英寸和12英寸為主。
在目前的晶圓清洗中,大部分都采用清潔槽超聲波方式進(jìn)行清洗,雖然這種方式能夠使得晶圓清潔,并且清洗后需要撈出瀝水、擦拭、烘干,費(fèi)時(shí)費(fèi)力,同時(shí)清潔劑的使用效率也不高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就在于為了解決上述問(wèn)題而提供一種晶圓的清洗方法。
本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)上述目的:
一種晶圓的清洗方法,
使用的裝置包括保護(hù)機(jī)構(gòu)、固定機(jī)構(gòu)、傳送機(jī)構(gòu)、清洗機(jī)構(gòu),所述保護(hù)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有所述傳送機(jī)構(gòu),所述傳送機(jī)構(gòu)上端連接有所述固定機(jī)構(gòu),所述固定機(jī)構(gòu)上側(cè)設(shè)置有所述清洗機(jī)構(gòu),所述清洗機(jī)構(gòu)之間通過(guò)聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接,所述清洗機(jī)構(gòu)、所述傳送機(jī)構(gòu)動(dòng)力端均連接動(dòng)力機(jī)構(gòu);
所述保護(hù)機(jī)構(gòu)包括循環(huán)水箱、固定座、萬(wàn)向輪、清潔箱,所述循環(huán)水箱上端設(shè)置有所述清潔箱,所述循環(huán)水箱內(nèi)部設(shè)置有水槽和循環(huán)泵,所述循環(huán)水箱下端設(shè)置有所述固定座,所述固定座一側(cè)設(shè)置有所述萬(wàn)向輪;
所述固定機(jī)構(gòu)包括移動(dòng)臺(tái)、固定座、固定盤、配合齒輪,所述移動(dòng)臺(tái)上端安裝有所述固定座,所述固定座內(nèi)部設(shè)置有被動(dòng)齒輪,所述被動(dòng)齒輪一端和所述配合齒輪嚙合,所述被動(dòng)齒輪上連接有所述固定盤,所述固定盤上端安裝有五個(gè)吸盤,所述固定盤和所述清潔箱之間設(shè)置有齒條;
所述傳送機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)鏈輪、鏈輪軸、傳動(dòng)鏈條、卡扣連接塊,所述鏈輪軸通過(guò)軸承座連接所述循環(huán)水箱,所述鏈輪軸上安裝有所述傳動(dòng)鏈輪,所述傳動(dòng)鏈輪外部連接有所述傳動(dòng)鏈條,所述傳動(dòng)鏈條上安裝有所述卡扣連接塊;
所述清洗機(jī)構(gòu)包括第一清洗滾筒刷、第二清洗滾筒刷、除水刷、吸水滾筒,所述第一清洗滾筒刷、所述第二清洗滾筒刷、所述除水刷、所述吸水滾筒均安裝在中心軸上,所述中心軸通過(guò)軸承座連接所述清潔箱,三個(gè)噴水嘴安裝在所述清潔箱內(nèi)側(cè),所述噴水嘴進(jìn)水端安裝有進(jìn)水管,所述進(jìn)水管和所述鏈輪軸之間設(shè)置有按壓彈性閥,所述第二清洗滾筒刷和所述除水刷之間設(shè)置有高壓噴槍;
所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)包括伺服電機(jī)、第一鏈輪組、第二鏈輪組,所述第二鏈輪組安裝在所述循環(huán)水箱內(nèi)側(cè),所述伺服電機(jī)通過(guò)所述第一鏈輪組連接所述中心軸,所述伺服電機(jī)通過(guò)所述第二鏈輪組連接所述鏈輪軸;
所述方法,包括以下幾個(gè)步驟:
a、將晶圓放置在固定盤上端,然后利用吸盤對(duì)晶圓進(jìn)行固定,再將移動(dòng)臺(tái)放置在傳動(dòng)鏈條上端,利用卡扣連接塊的卡接力將移動(dòng)臺(tái)固定;
b、啟動(dòng)伺服電機(jī),使伺服電機(jī)帶動(dòng)鏈輪軸和中心軸轉(zhuǎn)動(dòng),在對(duì)晶圓進(jìn)行傳送的同時(shí),第一清洗滾筒刷、第二清洗滾筒刷、除水刷、吸水滾筒開始旋轉(zhuǎn);
c、經(jīng)過(guò)傳動(dòng)鏈條的傳送,移動(dòng)臺(tái)在清潔箱內(nèi)側(cè)移動(dòng),同時(shí)固定座接觸到按壓彈性閥,從而噴水嘴噴出高壓清潔劑進(jìn)行清潔,在兩個(gè)固定座間隙噴水嘴不噴水;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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