[發(fā)明專利]半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011609119.0 | 申請日: | 2020-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN113072034A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡育軒;賴律名;方芊媁;黃敬涵 | 申請(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類號: | B81B7/02 | 分類號: | B81B7/02;B81B7/00;B81C1/00 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 蕭輔寬 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市楠梓*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)包含裸片座、多個(gè)引線、電子組件和封裝體。所述多個(gè)引線中的每一個(gè)與所述裸片座分離且具有面向所述裸片座的內(nèi)側(cè)表面。所述電子組件安置于所述裸片座上。所述封裝體覆蓋所述裸片座、所述多個(gè)引線和所述電子組件。所述封裝體與所述裸片座的底部表面和所述多個(gè)引線的所述內(nèi)側(cè)表面直接接觸。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)和其制造方法。
背景技術(shù)
MEMS裝置(如本文中所使用,術(shù)語“MEMS”可指代單個(gè)微機(jī)電系統(tǒng)或指代多個(gè)微機(jī)電系統(tǒng))是通過微型化整合于芯片中的半導(dǎo)體元件。隨著如智能電話和平板電腦的行動裝置逐漸變得普遍,MEMS裝置已收獲大量關(guān)注。
MEMS裝置大體上包含裸片、引線框和模制原料。由于模制原料的熱膨脹系數(shù)(coefficient of thermal expansion;CTE)顯著不同于引線框的熱膨脹系數(shù),故由于溫度改變可能產(chǎn)生熱應(yīng)力,尤其在回焊工藝中更是如此。期望減小MEMS裝置中的應(yīng)力以改進(jìn)其性能。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本公開的一些實(shí)施例,半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)包含裸片座、多個(gè)引線、電子組件和封裝體。多個(gè)引線中的每一個(gè)與裸片座分離且具有面向裸片座的內(nèi)側(cè)表面。電子組件安置于裸片座上。封裝體覆蓋裸片座、多個(gè)引線和電子組件。封裝體與裸片座的底部表面和多個(gè)引線的內(nèi)側(cè)表面直接接觸。
根據(jù)本公開的一些實(shí)施例,半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)包含第一介電層、多個(gè)引線、裸片座、電子組件、多個(gè)線接合和第二介電層。多個(gè)引線鄰接第一介電層的側(cè)面安置。裸片座安置于第一介電層上且與多個(gè)引線分離。電子組件安置于裸片座的上表面上。多個(gè)線接合電連接到電子組件和多個(gè)引線。第二介電層密封多個(gè)引線、裸片座、電子組件和線接合。
根據(jù)本公開的一些實(shí)施例,制造半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的方法包含:提供包含裸片座和與裸片座分離的多個(gè)引線的引線框;將電子組件安置于裸片座的上表面上且將電子組件電連接到多個(gè)引線;以及形成覆蓋裸片座、多個(gè)引線和電子組件的封裝體以產(chǎn)生半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)。裸片座的底部表面高于多個(gè)引線的底部表面。
附圖說明
當(dāng)結(jié)合附圖閱讀時(shí),從以下詳細(xì)描述容易理解本公開的各方面。應(yīng)注意,各種特征可能并不按比例繪制。實(shí)際上,為了論述清楚起見,可任意增大或減小各個(gè)特征的尺寸。
圖1A是根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的橫截面。
圖1B是根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的另一半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的橫截面。
圖2是根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的另一半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的橫截面。
圖3A是根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的另一半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖3B是如圖3A中所說明的根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的橫截面。
圖4A、圖4A(a)、圖4A(b)、圖4B、圖4C、圖4D和圖4E說明根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的用于制造半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的方法的各個(gè)階段。
圖5A、圖5B、圖5C、圖5D、圖5E和圖5F說明根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的用于制造半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的另一方法的各個(gè)階段。
貫穿圖式和詳細(xì)描述使用共同參考標(biāo)號來指示相同或類似組件。根據(jù)以下結(jié)合附圖作出的詳細(xì)描述,本公開將更顯而易見。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司,未經(jīng)日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011609119.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





