[發明專利]一種硅基OLED微顯示屏及應用于該顯示屏的Micro Lens的制造方法

在審

• 申請號: 202011606601.9
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN112635513A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 王健波;吳遠武;王紹華;吳迪
• 申請（專利權）人: 湖畔光電科技（江蘇）有限公司
• 主分類號: H01L27/15
• 分類號: H01L27/15;H01L33/50;H01L33/58;G03F7/00
• 代理公司: 南京勤行知識產權代理事務所(普通合伙) 32397
• 代理人: 陳燁

1.一種硅基OLED微顯示屏，其特征在于：包括硅基OLED微顯示屏和具有Micro Lens結構的蓋板玻璃，顯示屏和蓋板玻璃之間通過貼合膠連接，所述硅基OLED微顯示屏包括從上到下依次層疊設置的彩色濾光膜、薄膜封裝層、OLED層和硅基CMOS驅動背板；

所述蓋板玻璃與硅基OLED微顯示屏的接觸面上有Micro Lens結構，所述Micro Lens結構包括若干微結構一，位于每個微結構一上的微結構二，以及位于每個微結構二上方的光刻膠微結構，每個光刻膠微結構包覆微結構一和微結構二設置，若干光刻膠微結構等間距設置。

2.一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1在玻璃基板上，先后經過光刻工藝、刻蝕工藝制作出微結構一；

S2繼續在具有微結構一的玻璃基板上，依次采用光刻工藝、刻蝕工藝制作出微結構二；

S3在具有微結構二的玻璃基板上旋涂光刻膠，通過曝光、顯影、烘烤固化后制作成光刻膠微結構；

S4在硅基OLED微顯示屏的彩色濾光膜上點膠，將步驟S3中玻璃基板上有光刻膠微結構的面與顯示屏貼合，從而完成Micro Lens的制作。

3.根據權利要求2所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述步驟S1具體包括在玻璃表面旋涂一層厚度均勻的光刻膠，經過光刻機曝光、顯影機顯影后，在玻璃表面制作出陣列排布的橫截面為矩形的光刻膠圖形，之后對有光刻膠圖形的表面進行玻璃刻蝕工序，完成后用去膠溶液浸泡或者等離子去膠機去除上表面光刻膠，從而制得微結構一。

4.根據權利要求3所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述光刻膠的旋涂厚度為0.8～1.2μm；所述光刻膠圖形的橫截面的寬度為0.4μm～0.8μm，長寬比例為1:1～1:3，相鄰光刻膠圖形之間的排列間距2～5μm；所述玻璃刻蝕厚度范圍為0.2μm～0.5μm。

5.根據權利要求2所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述步驟S2具體包括：旋涂一層厚度均勻的光刻膠，然后光刻曝光和顯影，光刻需要套刻對位，從而在微結構一的正上方形成橫截面為矩形的光刻膠圖形，光刻膠圖形中心位置與微結構一的中心相同；之后對有光刻膠圖形的表面進行玻璃刻蝕工序，完成后用去膠溶液浸泡或者等離子去膠機去除上表面光刻膠，從而制得微結構二。

6.根據權利要求5所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述光刻膠的旋涂厚度為0.8～1.2um，所述光刻膠圖形的橫截面的寬度為1～1.2um，長寬比例為1:1～1:3，相鄰光刻膠圖形之間的間距為2～5um；所述刻蝕厚度范圍為0.2um～0.5um。

7.根據權利要求2所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述步驟S3具體包括：旋涂一層厚度均勻的光刻膠，光刻膠材料的折射率n小于玻璃的折射率，然后進行光刻、顯影工序，光刻需要套刻對位，顯影后制作出陣列排布的橫截面為矩形的光刻膠圖形，光刻膠圖形的中心位置與玻璃微結構二的中心相同；最后放入熱板中進行烘烤，直至光刻膠被烘烤成半球形，從而形成光刻膠微結構。

8.根據權利要求7所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述光刻膠的厚度為1.2～3um，所述光刻膠材料的折射率n為1.4～1.75；所述光刻膠圖形的橫截面的寬度為1.5～3um，長寬比例為1:1～1:3，相鄰光刻膠圖形之間的間距為2～5um，所述半球形結構的高度為光刻膠的厚度為1.2～3um。

9.根據權利要求7所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述烘烤溫度為90℃～230℃，烘烤時間為1min～10min，球形與玻璃表面的接觸角度為45°～90°。

10.根據權利要求2所述的一種應用于硅基OLED微顯示屏的Micro Lens的制造方法，其特征在于：所述步驟S4中點膠的材料的折射率低于光刻膠微結構。