[發明專利]一種原位三維腐刻含硫特殊鋼中硫化物的方法

在審

• 申請號: 202011600960.3
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN112816281A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 付建勛
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28;G01N1/32;G01N33/2022
• 代理公司: 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205
• 代理人: 顧勇華

1.一種原位三維腐刻含硫特殊鋼中硫化物的方法，其特征在于：

a.所述方法所采用的按照體積百分比計算的電解液成分為：2％～15％氯化鋰、2～10％硫氰酸銨、5％～10％甘油、0.5％～2％二苯胍、余量丙酮或余量去離子水；

b.所述方法所采用的電解電流密度為510～880mA/cm²；電解腐刻時間為1～4.5min；腐刻初始溫度為：0℃～30℃。

2.根據權利要求1所述的三維腐刻含硫特殊鋼中硫化物的方法，其特征在于：Mn含量的范圍為：0.5～1.8％；S含量范圍為0.015～0.35％；錳硫比大于等于3.4。

3.根據權利要求1-2中任意一項所述的一種三維腐刻含硫特殊鋼中硫化物的方法，其特征在于：按照體積百分比計算的腐刻液配方為：10％氯化鋰、6％硫氰酸銨、8％甘油、0.5％二苯胍、余量丙酮和余量去離子水；溫度3℃；腐刻時間2.2min；電流密度應控制在600mA/cm²。

4.根據權利要求1-2中任意一項所述的一種三維腐刻含硫特殊鋼中硫化物的方法，其特征在于：按照體積百分比計算的腐刻液配方為：5％氯化鋰、8％硫氰酸銨、6％甘油、1％二苯胍、余量丙酮和余量去離子水，溫度為5℃；電流密度為600mA/cm²；腐刻時間2min。

5.根據權利要求1-2中任意一項所述的一種三維腐刻含硫特殊鋼中硫化物的方法，其特征在于：按照體積百分比計算的腐刻液配方為：15％氯化鋰、5％硫氰酸銨、10％甘油、1.5％二苯胍、余量丙酮和余量去離子水；電流密度650mA/cm²、腐刻時間為1.5min；腐刻溫度為：10℃。

6.根據權利要求1-2中任意一項所述的一種三維腐刻含硫特殊鋼中硫化物的方法，其特征在于：按照體積百分比計算的腐刻液具體配方為：2％～15％氯化鋰、2％～10％硫氰酸銨、5％～10％甘油、0.5％～2％二苯胍、余量丙酮或余量去離子水。