[發(fā)明專利]一種人臉對齊的方法、裝置、電子設(shè)備及存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011596006.1 | 申請日： | 2020-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN112613446B | 公開（公告）日： | 2023-03-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊帆;馬英楠 | 申請（專利權(quán)）人： | 貝殼技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G06V40/16 | 分類號： | G06V40/16;G06V10/774 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人： | 鄭紅娟;宋志強 |
| 地址： | 300280 天津市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)南*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 對齊 方法 裝置 電子設(shè)備 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種人臉對齊的方法，其特征在于，該方法包括：
利用人臉關(guān)鍵點定位模型從待處理的人臉圖像中檢測出人臉關(guān)鍵點；
根據(jù)檢測出的人臉關(guān)鍵點和事先確定的標(biāo)準(zhǔn)人臉關(guān)鍵點確定第一仿射變換矩陣，所述標(biāo)準(zhǔn)人臉關(guān)鍵點是事先設(shè)置的人臉對齊的標(biāo)準(zhǔn)位置；
根據(jù)多元高斯分布規(guī)律從計算出的所述第一仿射變換矩陣中選擇出第二仿射變換矩陣，所述第二仿射變換矩陣是符合多元高斯分布的概率密度最大的第一仿射變換矩陣；
利用選擇出的所述第二仿射變換矩陣對所述待處理的人臉圖像進行仿射變換計算，獲得人臉對齊的人臉圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)檢測出的人臉關(guān)鍵點和事先確定的標(biāo)準(zhǔn)人臉關(guān)鍵點確定第一仿射變換矩陣的步驟包括：
從所述檢測出的人臉關(guān)鍵點中確定N個關(guān)鍵點組合，其中每一組關(guān)鍵點組合中包含的人臉關(guān)鍵點是用于確定所述第一仿射變換矩陣的人臉關(guān)鍵點；
根據(jù)所述每一組關(guān)鍵點組合中的人臉關(guān)鍵點和對應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)人臉關(guān)鍵點計算第一仿射變換矩陣，獲得N個所述第一仿射變換矩陣；其中每個所述第一仿射變換矩陣對應(yīng)一組第一仿射變換矩陣參數(shù)，所述第一仿射變換矩陣參數(shù)包括旋轉(zhuǎn)縮放參數(shù)和平移參數(shù)，所述旋轉(zhuǎn)縮放參數(shù)表示對圖像進行旋轉(zhuǎn)和縮放處理的參數(shù)，所述平移參數(shù)表示對圖像進行平移處理的參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)多元高斯分布規(guī)律從計算出的所述第一仿射變換矩陣中選擇出第二仿射變換矩陣的步驟包括：
根據(jù)計算出的N個所述的第一仿射變換矩陣建立所述多元高斯分布，所述多元高斯分布的參數(shù)包括均值向量和協(xié)方差矩陣，所述均值向量為所述第一仿射變換矩陣參數(shù)的均值向量，所述協(xié)方差矩陣為所述第一仿射變換矩陣參數(shù)的協(xié)方差矩陣；
分別根據(jù)N組第一仿射變換矩陣參數(shù)、所述均值向量和所述協(xié)方差矩陣計算相應(yīng)的N個所述多元高斯分布的概率密度；
從N個所述多元高斯分布的概率密度中選擇最大的概率密度，將所述最大的概率密度對應(yīng)的所述第一仿射變換矩陣作為所述第二仿射變換矩陣。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述方法，其特征在于，
所述檢測出的人臉關(guān)鍵點為：左眼瞳孔、右眼瞳孔、鼻尖、左嘴角和右嘴角共5個人臉關(guān)鍵點；
所述從檢測出的人臉關(guān)鍵點中確定N個關(guān)鍵點組合的步驟包括：從所述5個人臉關(guān)鍵點中按照的方式進行組合，獲得10個關(guān)鍵點組合，所述N為10。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，
所述多元高斯分布的概率密度表示為：
所述x表示所述第一仿射變換矩陣參數(shù)，所述μ表示所述第一仿射變換矩陣參數(shù)的均值向量，所述Σ表示所述第一仿射變換矩陣參數(shù)的協(xié)方差矩陣，所述Ti表示第i個第一仿射變換矩陣，所述f(Ti)表示所述第一仿射變換矩陣Ti出現(xiàn)的概率，1≤i≤N。
6.一種人臉對齊的裝置，其特征在于，該裝置包括：關(guān)鍵點檢測單元、第一仿射變換確定單元、第二仿射變換確定單元、人臉對齊執(zhí)行單元；
所述關(guān)鍵點檢測單元，利用人臉關(guān)鍵點定位模型從待處理的人臉圖像中檢測出人臉關(guān)鍵點；
所述第一仿射變換確定單元，用于根據(jù)檢測出的人臉關(guān)鍵點和事先確定的標(biāo)準(zhǔn)人臉關(guān)鍵點確定第一仿射變換矩陣，所述標(biāo)準(zhǔn)人臉關(guān)鍵點是事先設(shè)置的人臉對齊的標(biāo)準(zhǔn)位置；
所述第二仿射變換確定單元，用于根據(jù)多元高斯分布規(guī)律從計算出的所述第一仿射變換矩陣中選擇出第二仿射變換矩陣，所述第二仿射變換矩陣是符合多元高斯分布的概率密度最大的第一仿射變換矩陣；
所述人臉對齊執(zhí)行單元，利用選擇出的所述第二仿射變換矩陣對所述待處理的人臉圖像進行仿射變換計算，獲得人臉對齊的人臉圖像。
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