[發(fā)明專(zhuān)利]微發(fā)光二極管轉(zhuǎn)移方法及顯示面板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011593311.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112582520B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韋冬;李慶;于波;趙柯 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州芯聚半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L33/48 | 分類(lèi)號(hào): | H01L33/48;H01L21/67;H01L27/15 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 常偉 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 轉(zhuǎn)移 方法 顯示 面板 | ||
1.一種微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法包括:
S1、提供第一基板,所述第一基板一側(cè)的表面上設(shè)有若干微發(fā)光二極管;
S2、提供第二基板,所述第二基板一側(cè)的表面上設(shè)置鍵合膠層;
S3、涂布密封層至所述第一基板或者所述第二基板的周邊;
S4、壓合所述第一基板和所述第二基板,所述密封層使得所述第一基板和所述第二基板之間形成密封腔,所述若干微發(fā)光二極管位于所述密封腔中,且所述若干微發(fā)光二極管與所述鍵合膠層鍵合;
S5、照射激光至所述第一基板,以使所述若干微發(fā)光二極管與所述第一基板分離;以及
S6、照射紫外線至所述第二基板以使所述鍵合膠層失去粘性,使得所述第一基板可自所述第二基板上移除,所述若干微發(fā)光二極管轉(zhuǎn)移至所述第二基板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述密封層設(shè)置于所述第一基板的周邊,且圍繞所述若干微發(fā)光二極管的外側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述密封層的膜層厚度小于所述若干微發(fā)光二極管中每一微發(fā)光二極管的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述第一基板一側(cè)的表面上設(shè)置犧牲層,所述若干微發(fā)光二極管設(shè)置于所述犧牲層遠(yuǎn)離所述第一基板一側(cè)的表面上;其中,所述S5中,照射激光至所述第一基板,所述犧牲層分解產(chǎn)生氣體,所述氣體填充于所述密封腔中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述密封層設(shè)置于所述第二基板的周邊,所述密封層層疊于所述鍵合膠層遠(yuǎn)離所述第二基板一側(cè)的表面上,所述密封層的膜層厚度小于所述若干微發(fā)光二極管中每一微發(fā)光二極管的厚度,其中,所述S4中,壓合所述第一基板和所述第二基板,所述密封層一側(cè)的表面粘附所述鍵合膠層,所述密封層相對(duì)的另一側(cè)的表面粘附所述第一基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述密封層設(shè)置于所述第二基板的周邊,所述密封層圍繞所述鍵合膠層的外圍設(shè)置,其中,所述密封層的膜層厚度大于所述鍵合膠層的膜層厚度,且所述密封層的膜層厚度小于所述鍵合膠層的膜層厚度和所述微發(fā)光二極管的厚度的和。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述S4中,壓合所述第一基板和所述第二基板,所述密封層一側(cè)的表面粘附所述第二基板,所述密封層相對(duì)的另一側(cè)的表面粘附所述第一基板,其中,所述密封層的材料和所述鍵合膠層的材料相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述S6中,所述若干微發(fā)光二極管中每一微發(fā)光二極管遠(yuǎn)離所述第二基板一側(cè)的表面突出于所述鍵合膠層遠(yuǎn)離所述第二基板一側(cè)的表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,還包括:
S7、提供包括多個(gè)轉(zhuǎn)印頭的轉(zhuǎn)印吸盤(pán),通過(guò)所述多個(gè)轉(zhuǎn)印頭拾取對(duì)應(yīng)的微發(fā)光二極管,以及轉(zhuǎn)移拾取的微發(fā)光二極管至驅(qū)動(dòng)陣列基板上。
10.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板為通過(guò)如權(quán)利要求1-9中任意一項(xiàng)所述的微發(fā)光二極管的轉(zhuǎn)移方法制得。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件
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