[發明專利]彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置有效
| 申請號: | 202011591289.0 | 申請日: | 2020-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN112666744B | 公開(公告)日: | 2022-08-12 |
| 發明(設計)人: | 楊栩;劉博智;陳彬彬;陳國照 | 申請(專利權)人: | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444 | 代理人: | 李曉霞 |
| 地址: | 361101 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 彩膜基板 及其 制作方法 顯示 面板 顯示裝置 | ||
本發明實施例提供一種彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置。彩膜基板包括第一像素區和至少半圍繞第一像素區的第二像素區,第二像素區包括多個彩色子像素,第一像素區包括多個彩色子像素和多個高透子像素;彩膜基板包括依次堆疊的襯底層、濾光層和保護層,保護層包括遠離濾光層一側的第一表面;第一像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h1,第二像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h2,∣h1?h2∣≤0.25μm。本發明能夠提升彩膜基板的保護層的表面的平坦程度,在彩膜基板組裝成顯示面板時,能夠使得第一像素區對應的液晶層的厚度與第二像素區對應的液晶層的厚度大致相同,改善應用時顯示面板顯示亮度不均的問題。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置。
背景技術
隨著顯示技術的不斷發展,液晶顯示器以及有機發光顯示器成為時下顯示行業的主流產品,并處于日新月異的發展變革中,與此同時,消費者對顯示器的要求也在日益提升,如超高分辨率顯示、觸控顯示以及全面屏顯示等,成為顯示領域研究的熱點和重要課題。
屏下光學組件的方案,由于其能夠實現高屏占比以及高美觀度而成為時下熱點。將攝像頭或者指紋識別組件設置在顯示面板下方,在應用時光線需要穿透顯示面板后才能夠被光學組件所接收。所以為了保證光學組件的應用時的光學性能,則需要其對應位置處的顯示面板具有足夠的透光率,這就需要對顯示面板的特定區域做結構上的改進。而在目前應用屏下光學元件方案的液晶顯示技術中,存在顯示亮度不均的問題。
發明內容
本發明實施例提供一種彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置,以解決應用在屏下光學組件方案中時,顯示區的顯示亮度不均的問題。
第一方面,本發明實施例提供一種彩膜基板,彩膜基板包括第一像素區和至少半圍繞第一像素區的第二像素區,第二像素區包括多個彩色子像素,第一像素區包括多個彩色子像素和多個高透子像素;
彩膜基板包括依次堆疊的襯底層、濾光層和保護層,保護層包括遠離濾光層一側的第一表面;第一像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h1,第二像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h2,其中,∣h1-h2∣≤0.25μm。
第二方面,本發明實施例提供一種彩膜基板的制作方法,彩膜基板包括第一像素區和至少半圍繞第一像素區的第二像素區,第二像素區包括多個彩色子像素,第一像素區包括多個彩色子像素和多個高透子像素;制作方法包括:
提供襯底層;
在襯底層之上制作濾光層;
在濾光層之上整面涂布光感材料層;
采用半色調掩模對光感材料層進行曝光處理,并經顯影工藝后形成保護層,其中,第一像素區對應的半色調掩模的透光率與第二像素區對應的半色調掩模的透光率不同,保護層包括遠離濾光層一側的第一表面;第一像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h1,第二像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h2,其中,∣h1-h2∣≤0.25μm。
第三方面,本發明實施例提供又一種彩膜基板的制作方法,彩膜基板包括第一像素區和至少半圍繞第一像素區的第二像素區,第二像素區包括多個彩色子像素,第一像素區包括多個彩色子像素和多個高透子像素;制作方法包括:
提供襯底層;
在襯底層之上制作濾光層;
在濾光層之上整面涂布第一有機層;
在第一有機層之上整面涂布至少一層第二有機層,第一有機層和第二有機層形成保護層,保護層包括遠離濾光層一側的第一表面;第一像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h1,第二像素區內第一表面距襯底層的垂直距離為h2,其中,∣h1-h2∣≤0.25μm。
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