[發(fā)明專利]彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011591289.0
• 申請(qǐng)日: 2020-12-29
• 公開（公告）號(hào): CN112666744B
• 公開（公告）日: 2022-08-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊栩;劉博智;陳彬彬;陳國照
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廈門天馬微電子有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335
• 代理公司: 北京匯思誠業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444
• 代理人: 李曉霞

1.一種彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括第一像素區(qū)和至少半圍繞所述第一像素區(qū)的第二像素區(qū)，所述第二像素區(qū)包括多個(gè)彩色子像素，所述第一像素區(qū)包括多個(gè)彩色子像素和多個(gè)高透子像素；

所述彩膜基板包括依次堆疊的襯底層、濾光層和保護(hù)層，所述保護(hù)層包括遠(yuǎn)離所述濾光層一側(cè)的第一表面；所述第一像素區(qū)內(nèi)所述第一表面距所述襯底層的垂直距離為h1，所述第二像素區(qū)內(nèi)所述第一表面距所述襯底層的垂直距離為h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm；

所述濾光層包括黑矩陣和彩色色阻；所述黑矩陣包括在第一方向延伸的多個(gè)第一遮光條和在第二方向延伸的多個(gè)第二遮光條，所述第一方向和所述第二方向交叉，多個(gè)所述第一遮光條和多個(gè)所述第二遮光條交叉限定出多個(gè)開口，一個(gè)子像素包括一個(gè)所述開口；

所述彩色子像素包括的所述開口被所述彩色色阻填充，所述高透子像素包括的所述開口被所述保護(hù)層的材料填充；

在垂直于所述彩膜基板方向上，所述第一像素區(qū)內(nèi)的所述彩色色阻的厚度大于所述第二像素區(qū)內(nèi)的所述彩色色阻的厚度；

和/或，

在垂直于所述彩膜基板方向上，所述第一像素區(qū)內(nèi)的所述黑矩陣的厚度大于所述第二像素區(qū)內(nèi)的所述黑矩陣的厚度。

2.一種彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括第一像素區(qū)和至少半圍繞所述第一像素區(qū)的第二像素區(qū)，所述第二像素區(qū)包括多個(gè)彩色子像素，所述第一像素區(qū)包括多個(gè)彩色子像素和多個(gè)高透子像素；

所述彩膜基板包括依次堆疊的襯底層、濾光層和保護(hù)層，所述保護(hù)層包括遠(yuǎn)離所述濾光層一側(cè)的第一表面；所述第一像素區(qū)內(nèi)所述第一表面距所述襯底層的垂直距離為h1，所述第二像素區(qū)內(nèi)所述第一表面距所述襯底層的垂直距離為h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm；

所述濾光層包括黑矩陣和彩色色阻；所述黑矩陣包括在第一方向延伸的多個(gè)第一遮光條和在第二方向延伸的多個(gè)第二遮光條，所述第一方向和所述第二方向交叉，多個(gè)所述第一遮光條和多個(gè)所述第二遮光條交叉限定出多個(gè)開口，一個(gè)子像素包括一個(gè)所述開口；

所述彩色子像素包括的所述開口被所述彩色色阻填充，所述高透子像素包括的所述開口被所述保護(hù)層的材料填充；

在所述第一像素區(qū)內(nèi)：所述彩色子像素還包括量子點(diǎn)，所述量子點(diǎn)位于所述彩色色阻和所述保護(hù)層之間，其中，在單個(gè)所述彩色子像素中所述量子點(diǎn)的顏色和所述彩色色阻的顏色相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，

在所述第一像素區(qū)內(nèi)，所述高透子像素的面積大于所述彩色子像素的面積。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，

所述保護(hù)層的制作材料包括光感材料。

5.一種如1或2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板包括第一像素區(qū)和至少半圍繞所述第一像素區(qū)的第二像素區(qū)，所述第二像素區(qū)包括多個(gè)彩色子像素，所述第一像素區(qū)包括多個(gè)彩色子像素和多個(gè)高透子像素；所述制作方法包括：

提供襯底層；

在所述襯底層之上制作濾光層；

在所述濾光層之上整面涂布光感材料層；

采用半色調(diào)掩模對(duì)所述光感材料層進(jìn)行曝光處理，并經(jīng)顯影工藝后形成保護(hù)層，其中，所述第一像素區(qū)對(duì)應(yīng)的所述半色調(diào)掩模的透光率與所述第二像素區(qū)對(duì)應(yīng)的所述半色調(diào)掩模的透光率不同，所述保護(hù)層包括遠(yuǎn)離所述濾光層一側(cè)的第一表面；所述第一像素區(qū)內(nèi)所述第一表面距所述襯底層的垂直距離為h1，所述第二像素區(qū)內(nèi)所述第一表面距所述襯底層的垂直距離為h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。