[發明專利]一種氮化鎵半導體生產用的潔凈廠房

在審

• 申請號: 202011587330.7
• 申請日: 2020-12-29
• 公開（公告）號: CN112843918A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 魯煜;王祎;劉玉良;姜經理;譚大勝
• 申請（專利權）人: 浙江中電環境科技有限公司
• 主分類號: B01D46/12
• 分類號: B01D46/12;B01D46/00
• 代理公司: 嘉興啟帆專利代理事務所(普通合伙) 33253
• 代理人: 王家蕾

1.一種氮化鎵半導體生產用的潔凈廠房，包括廠房主體(1)、凈化空調系統(2)、更衣室(3)、凈化箱(7)、毛刷(16)和第二過濾網(26)，其特征在于：所述廠房主體(1)內部的底端安裝有凈化空調系統(2)，所述廠房主體(1)一端的側壁安裝有更衣室(3)，所述更衣室(3)的頂端安裝有底座(6)，且底座(6)的頂端安裝有凈化箱(7)，所述凈化箱(7)的一端側壁安裝有進氣管(8)，且進氣管(8)遠離凈化箱(7)的一端與更衣室(3)的頂端相連接，所述凈化箱(7)遠離進氣管(8)的一端側壁安裝有排氣管(9)，且排氣管(9)遠離進氣管(8)的一端與更衣室(3)的頂端相連接，所述排氣管(9)內部的頂端安裝有第一過濾網(12)，所述排氣管(9)內部的頂端安裝有第二進氣扇(11)，且第二進氣扇(11)位于第一過濾網(12)的下方，所述進氣管(8)內部遠離凈化箱(7)的一端安裝有第一進氣扇(10)，所述凈化箱(7)內部的四角處皆安裝有固定塊(17)，所述凈化箱(7)內部的頂端和底端皆安裝有固定板(18)，且固定板(18)一端的側壁皆開設有凹槽(19)，所述凹槽(19)內部一端的側壁安裝有滑軌(20)，且滑軌(20)的內部設置有滑塊(21)，所述滑塊(21)的頂端安裝有彈簧(22)，且彈簧(22)的頂端與凹槽(19)內部的頂端相連接；

所述滑塊(21)的一端側壁鉸接有鉸接桿(23)，且鉸接桿(23)遠離滑塊(21)的一端鉸接有擠壓板(24)，所述擠壓板(24)一端的側壁安裝有保護墊(25)，所述保護墊(25)一端的側壁設置有第二過濾網(26)，且第二過濾網(26)位于固定塊(17)和保護墊(25)之間。

2.根據權利要求1所述的一種氮化鎵半導體生產用的潔凈廠房，其特征在于：所述廠房主體(1)和更衣室(3)相互靠近的一端開設有過道(4)，且過道(4)的內部安裝有開關門(5)。

3.根據權利要求1所述的一種氮化鎵半導體生產用的潔凈廠房，其特征在于：所述更衣室(3)一側的側壁開設有門框(27)，且門框(27)一端的側壁鉸接有門板(29)，所述門板(29)一側的側壁安裝有密封塊(30)，所述門框(27)一側的側壁開設有密封槽(28)，且密封槽(28)與密封塊(30)相互卡和。

4.根據權利要求1所述的一種氮化鎵半導體生產用的潔凈廠房，其特征在于：所述凈化箱(7)一側的側壁鉸接有鉸接門(31)，且鉸接門(31)一側的側壁安裝有把手。

5.根據權利要求1所述的一種氮化鎵半導體生產用的潔凈廠房，其特征在于：所述第二進氣扇(11)的內部設置有貫穿第一過濾網(12)的轉桿(13)，且轉桿(13)的頂端安裝有套筒(14)，所述套筒(14)的外壁等間距安裝有刮板(15)，且刮板(15)的底端安裝有毛刷(16)，所述毛刷(16)的底端與第一過濾網(12)的頂端相貼合。