[發明專利]一種羧酸修飾的羥基磷灰石納米材料的制備方法及應用有效
| 申請號: | 202011586448.8 | 申請日: | 2020-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN112744799B | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發明(設計)人: | 王耀;朱巍;張毅晨;王佳斌;牛佳悅 | 申請(專利權)人: | 江蘇集萃智能液晶科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B25/32 | 分類號: | C01B25/32;C08J3/12;C08L87/00 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 楊林潔 |
| 地址: | 215500 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 羧酸 修飾 羥基 磷灰石 納米 材料 制備 方法 應用 | ||
1.一種核殼型復合材料,其特征在于,所述的核殼型復合材料由羧酸修飾的羥基磷灰石納米材料制備而成;
所述羧酸修飾的羥基磷灰石納米材料是由如下步驟制備而成的:
S1、將鈣鹽、有機羧酸以及磷鹽溶解于溶劑中,充分攪拌,混合均勻,得到混合溶液;
S2、將步驟S1中的所述混合溶液進行加熱反應;
S3、將步驟S2中的反應液冷卻后,離心洗滌,得到羧酸修飾的羥基磷灰石納米材料;
所述核殼型復合材料是羧酸類配位聚合物為外殼、羧酸修飾的羥基磷灰石納米棒為內核的核殼型復合材料,其制備方法如下:
S1、將金屬鹽溶解在溶劑中后,加入羧酸修飾的羥基磷灰石納米材料,超聲分散,充分混合均勻后,置于40℃~60℃下反應1h~3h,得到混合溶液A;
S2、向步驟S1所述的混合溶液A中加入有機羧酸和甲醇的混合溶液,在60℃~160℃下恒溫反應6h~24h,得到混合溶液B;
S3、待步驟S2中的所述混合溶液B冷卻后,離心洗滌,離心條件為2000r/min~12000r/min,最終得到以羧酸類配位聚合物為外殼、羧酸修飾的羥基磷灰石納米棒為內核的核殼型復合材料。
2.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S1中,所述鈣鹽為硝酸鈣、氯化鈣、硫酸鈣中的至少一種。
3.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S1中,所述的羧酸為脂肪族羧酸、芳香族羧酸、雜環族羧酸中的至少一種。
4.如權利要求3所述的核殼型復合材料,其特征在于,所述脂肪族羧酸為甲酸、乙酸、乙二酸中的至少一種。
5.如權利要求3所述的核殼型復合材料,其特征在于,所述芳香族羧酸為對苯二甲酸、苯甲酸、均苯三甲酸中的至少一種。
6.如權利要求3所述的核殼型復合材料,其特征在于,所述雜環族羧酸為5-甲基吡嗪-2-羧酸、2,5-吡嗪二羧酸、2,3-吡嗪二羧酸中的至少一種。
7.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S1中,所述磷鹽為磷酸鈉、磷酸氫二鈉、磷酸二氫鈉、磷酸鉀、磷酸氫二鉀中的至少一種。
8.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S1中,所述溶劑為N’N-二甲基甲酰胺、水、乙酸異戊酯、乙酸乙酯中的至少一種。
9.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S1中,還包括加入用于調節pH值的飽和NaOH溶液的步驟。
10.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S1中,所述混合溶液的pH值為2~11。
11.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S2中,所述加熱反應采用溶劑熱或水熱加熱,溫度在160℃~220℃。
12.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S2中,所述加熱反應時間為6h~24h。
13.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S3中,所述離心洗滌轉速為2000r/min~12000r/min。
14.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,所述羧酸修飾的羥基磷灰石納米材料在美容、催化、光電材料、智能敏感材料、環境工程中的應用。
15.如權利要求1所述的核殼型復合材料,其特征在于,步驟S1中,所述金屬鹽為氯化鎳、硝酸鈷、碘化鈣中的至少一種。
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