[發(fā)明專利]超滑片轉(zhuǎn)移方法以及超滑片轉(zhuǎn)移控制系統(tǒng)

有效

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• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN112629507B
• 公開（公告）日: 2022-10-14
• 發(fā)明（設計）人: 鄭泉水;胡恒謙;楊德智;白玉蝶
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳清華大學研究院;清華大學
• 主分類號: G01C15/00
• 分類號: G01C15/00
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產(chǎn)權(quán)代理事務所 44271
• 代理人: 滿群

本發(fā)明提供了一種超滑片轉(zhuǎn)移方法以及超滑片轉(zhuǎn)移控制系統(tǒng)，包括移動超滑片至目標基底上方，并朝向目標基底的目標區(qū)域向下移動超滑片；監(jiān)測超滑片的表面亮度；亮度開始變化則繼續(xù)下移超滑片；超滑片的亮度停止變化，則停止下移超滑片的步驟，利用超滑片在轉(zhuǎn)移過程中的亮度變化，對超滑片和目標基底的接觸度和接觸時間進行判斷，不需要借助額外的橫向顯微鏡或橫向攝像頭等設備，既可以實現(xiàn)超滑片和目標基底之間接觸度的判斷，極大的縮減了設備成本，且降低了控制的難度，更容易實現(xiàn)自動化的控制。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及結(jié)構(gòu)超滑的技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種超滑片轉(zhuǎn)移方法以及超滑片轉(zhuǎn)移控制系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著技術(shù)的發(fā)展和人類的需求，器件的小型化成為了一個發(fā)展趨勢。對于超滑滑塊等超滑片，其通常需要在源基底上進行大批量的生產(chǎn)，然后再轉(zhuǎn)移至目標基底上。目前，將超滑片從源基底轉(zhuǎn)移到目標基底的過程中，必須要判斷超滑片是否已經(jīng)接觸上目標基底，以便于及時停止轉(zhuǎn)移機構(gòu)的下降過程，防止過大的壓力使得超滑片受損。

對于超滑片和目標基底的接觸情況，現(xiàn)有技術(shù)中一般需要采用光學顯微鏡進行橫向的精確定位，然后利用側(cè)面的光學顯微鏡或高分辨率相機進行高度方向上的精確定位，或者，在目標基底上設置壓力傳感器，通過壓力的變化判斷超滑片是否與目標基底接觸。采用上述方式對超滑片和目標基底的位置進行確定，極大的增加了設備的成本，且控制難度較大，降低了轉(zhuǎn)移效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種超滑片轉(zhuǎn)移方法以及超滑片轉(zhuǎn)移控制系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中對于超滑片是否轉(zhuǎn)移到目標基底需要的設備較多，檢測難度較大的技術(shù)問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：提供一種超滑片轉(zhuǎn)移方法，包括如下步驟：

移動超滑片至目標基底上方，并朝向所述目標基底的目標區(qū)域向下移動所述超滑片；

監(jiān)測所述超滑片的表面亮度；

所述亮度開始變化則繼續(xù)下移所述超滑片；

所述超滑片的亮度停止變化，則停止下移所述超滑片。

進一步地，在所述超滑片下移至所述目標基底上時，所述超滑片的一側(cè)先接觸所述目標基底，另一側(cè)逐漸下移并置于所述目標基底上。

進一步地，在移動并放平所述超滑片時，所述超滑片的亮度逐漸增大，所述超滑片的亮度最亮且停止變化時，所述超滑片平放至所述目標基底上。

進一步地，在所述目標基底的上方設置縱向顯微鏡，所述目標基底位于所述縱向顯微鏡的視野內(nèi)。

進一步地，在移動所述超滑片前還包括如下步驟：

將所述目標基底移動至所述縱向顯微鏡下，檢測所述目標基底是否置于所述縱向顯微鏡的視野范圍內(nèi)，并測量所述目標基底和所述縱向顯微鏡之間的間距是否到達閾值。

進一步地，在所述目標基底的上設置用于檢測所述超滑片對所述目標基底的壓力的壓力傳感器。

本發(fā)明還公開了一種超滑片轉(zhuǎn)移控制系統(tǒng)，包括用于移動所述超滑片的轉(zhuǎn)移單元，設于所述目標基底上方監(jiān)測所述超滑片的亮度變化的監(jiān)測單元，以及連接所述轉(zhuǎn)移單元和所述監(jiān)測單元的控制單元；所述監(jiān)測單元監(jiān)測所述超滑片的表面亮度變化，且所述超滑片的亮度停止變化，所述控制單元控制所述轉(zhuǎn)移單元停止移動所述超滑片。

進一步地，所述監(jiān)測單元包括縱向顯微鏡、成像單元和比對單元，所述成像單元通過所述縱向顯微鏡拍攝所述超滑片，所述比對單元對所述成像單元拍攝的圖片進行比對，并對所述目標基底的亮度變化進行判斷。

進一步地，還包括驅(qū)動所述目標基底移動的載臺移動單元。

進一步地，還包括用于檢測所述超滑片對所述目標基底的壓力的壓力檢測單元。