[發明專利]一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法

在審

• 申請號: 202011581323.6
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN112552045A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 盧鵬薦;張威
• 申請（專利權）人: 海寧拓材科技股份有限公司
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;C04B35/622;C04B35/626
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 張仁杰

本發明公開了一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法，具體涉及光學材料技術領域，包括以下材料，質量份為25?30的丙烯酸、質量份為5?8的甲基丙烯酸、質量份為10?15的納米二氧化鈦、質量份為35?43的氨水溶液、質量份為5?8的丙烯酸乙酯、質量份為5?10的烯烴衍生物、質量份為5?8的偶氮二異丁氰、質量份為3?5的十二烷基苯磺酸、質量份為5?10的乙醇、質量份為5?12的納米銀、質量份為15?20的雙氧水、質量份為30?40的異丙醇。本發明很好的解決了現有光學鍍膜材料在使用時出現斑點及強度不足易產生劃痕的問題，并且納米銀具有較強的消毒殺菌作用，從而可以賦予光學器件良好的抗菌效果，而且本發明更為顯著的優點是具有一定的防霧效果，而且可以起到自動清潔的效果。

技術領域

本發明涉及光學材料技術領域，更具體地說，本發明涉及一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法。

背景技術

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層或多層金屬或介質薄膜的工藝過程，可以達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光和偏振等要求，而對光學零件進行光學鍍膜的過程中，往往需要使用到光學鍍膜材料。

現有技術中，用于制備光學鍍膜的材料通常采用氧化鈦，氧化鈦是一種高折射率的光學鍍膜材料，應用范圍十分廣泛，但是，氧化鈦在鍍膜過程中，會釋放氧氣，使真空度波動較大，膜層易形成斑點，另一方面氧化鈦強度相對較低，鍍制膜層在使用的過程中易形成劃痕，并且容易受到溫差作用引起霧化，需要多次使用除霧劑才能消除，操作不僅繁瑣、浪費時間和資源，而且成本高，而且不具有除菌和自清潔功能，有鑒于此，開發一種具有防霧防菌的低價態氧化鋯光學鍍膜材料，是本領域亟待解決的一項技術問題。

發明內容

為了克服現有技術的上述缺陷，本發明提供了一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法，本發明所要解決的技術問題是：現有技術中的光學鍍膜材料在制膜過程中容易形成斑點和劃痕，并且容易受到溫差作用引起霧化，而且不具有除菌和自清潔功能的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料，包括以下材料：

質量份為25-30的丙烯酸、質量份為5-8的甲基丙烯酸、質量份為10-15的納米二氧化鈦、質量份為35-43的氨水溶液、質量份為5-8的丙烯酸乙酯、質量份為5-10的烯烴衍生物、質量份為5-8的偶氮二異丁氰、質量份為3-5的十二烷基苯磺酸、質量份為5-10的乙醇、質量份為5-12的納米銀、質量份為15-20的雙氧水、質量份為30-40的異丙醇、質量份為3-5的濃度為28％的氨水、質量份為1-2的正硅酸乙酯、摩爾比為30-45的二氧化鋯、摩爾比為25-30的金屬鋯粉、質量份為25-30的五氧化二鈮粉末、質量份為20-25的去離子水。

一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料的制備方法，所述制備方法包括如下步驟：

S1、稱取預定質量份的丙烯酸、預定質量份的甲基丙烯酸和預定質量份的納米二氧化鈦放入混合設備中，進行均勻的混合，混合10-20min后加入預定質量份的氨水溶液，氨水溶液的溫度控制在6-20℃，再次混合10-20min后加入預定質量份的丙烯酸乙酯、預定質量份的烯烴衍生物、預定質量份的偶氮二異丁氰和預定質量份的十二烷基苯磺酸，在氮氣保護下充分攪拌20min-30min，攪拌溫度控制在65℃-70℃，再加入預定質量份的乙醇和預定質量份的納米銀，并攪拌35min-45min，得到混合溶液，再將得到的溶液轉移至冷水浴中進行冷卻，然后加入預定質量份的雙氧水，得到溶液A；

S2、稱取預定質量份的異丙醇、預定質量份的濃度為28％的氨水和預定質量份的正硅酸乙酯在室溫下攪拌24h，所得產物經離心、洗滌后，在550℃下煅燒2h，即獲得二氧化硅中空載銀微球，即為溶液B，然后將溶液A與溶液B進行均勻的混合，得到溶液C；