[發明專利]一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法

在審

• 申請號: 202011581323.6
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN112552045A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 盧鵬薦;張威
• 申請（專利權）人: 海寧拓材科技股份有限公司
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;C04B35/622;C04B35/626
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 張仁杰

1.一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料，其特征在于，包括以下材料：

質量份為25-30的丙烯酸、質量份為5-8的甲基丙烯酸、質量份為10-15的納米二氧化鈦、質量份為35-43的氨水溶液、質量份為5-8的丙烯酸乙酯、質量份為5-10的烯烴衍生物、質量份為5-8的偶氮二異丁氰、質量份為3-5的十二烷基苯磺酸、質量份為5-10的乙醇、質量份為5-12的納米銀、質量份為15-20的雙氧水、質量份為30-40的異丙醇、質量份為3-5的濃度為28％的氨水、質量份為1-2的正硅酸乙酯、摩爾比為30-45的二氧化鋯、摩爾比為25-30的金屬鋯粉、質量份為25-30的五氧化二鈮粉末、質量份為20-25的去離子水。

2.一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：

S1、稱取預定質量份的丙烯酸、預定質量份的甲基丙烯酸和預定質量份的納米二氧化鈦放入混合設備中，進行均勻的混合，混合10-20min后加入預定質量份的氨水溶液，氨水溶液的溫度控制在6-20℃，再次混合10-20min后加入預定質量份的丙烯酸乙酯、預定質量份的烯烴衍生物、預定質量份的偶氮二異丁氰和預定質量份的十二烷基苯磺酸，在氮氣保護下充分攪拌20min-30min，攪拌溫度控制在65℃-70℃，再加入預定質量份的乙醇和預定質量份的納米銀，并攪拌35min-45min，得到混合溶液，再將得到的溶液轉移至冷水浴中進行冷卻，然后加入預定質量份的雙氧水，得到溶液A；

S2、稱取預定質量份的異丙醇、預定質量份的濃度為28％的氨水和預定質量份的正硅酸乙酯在室溫下攪拌24h，所得產物經離心、洗滌后，在550℃下煅燒2h，即獲得二氧化硅中空載銀微球，即為溶液B，然后將溶液A與溶液B進行均勻的混合，得到溶液C；

S3、稱取預定質量比的二氧化鋯和金屬鋯粉放入混合設備中，二氧化鋯與金屬鋯粉和五氧化二鈮粉末的粒度為D50為1-10μm，純度為99.9％-99.99％，在真空狀態下燒結，燒結溫度為在1350℃-2000℃之間，形成導電性能良好的低價氧化鋯；

S4、將得到的低價氧化鋯進行研磨，研磨成低價氧化鋯粉末并過150-200目篩，再將研磨完成的低價氧化鋯粉末與預定質量份的五氧化二鈮粉末進行均勻混合，并加入5％-8％的去離子水和得到的溶液C，再次均勻混合后再次進行造粒，形成顆粒狀材料，顆粒狀材料的相對密度控制在80％-90％，然后將造粒完成的顆粒狀材料置入馬弗爐中進行預燒結，預先去除顆粒狀材料內大量的水分，預燒結溫度為1150-1250℃，并保溫3-5h，并隨爐冷卻，冷卻完成后取出并放置到真空爐進行燒結，燒結溫度為1350-1550℃，并保溫3-5h后隨爐冷卻，最后得到具有殺菌防護功能的低價態氧化鋯光學鍍膜材料顆粒。

3.根據權利要求2所述的一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法，其特征在于：所述二氧化鋯和金屬鋯粉的反應如下：

ZrO2+Zr(Zr M)→ZrOx；

其中，ZrO2為二氧化鋯，Zr為鋯。

4.根據權利要求2所述的一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法，其特征在于：所述納米二氧化鈦的粒徑為2-8nm。

5.根據權利要求2所述的一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法，其特征在于：所述低價態氧化鋯光學鍍膜材料可用于光學透鏡表面。

6.根據權利要求3所述的一種低價態氧化鋯光學鍍膜材料及制備方法，其特征在于：所述ZrOx中，X的數值取決于Zr的摩爾含量。