[發明專利]立式光伏電池鈍化沉積裝置

在審

• 申請號: 202011574823.7
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN112663030A
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發明（設計）人: 陳慶敏;李丙科;孫志宇;張海洋;景程
• 申請（專利權）人: 無錫松煜科技有限公司
• 主分類號: C23C16/54
• 分類號: C23C16/54;C23C16/458;C23C16/455;H01L31/18
• 代理公司: 江蘇漫修律師事務所 32291
• 代理人: 熊啟奎;周曉東

本發明公開了一種立式光伏電池鈍化沉積裝置，具有一個豎向設置的主機室，主機室內至少具有一個豎向設置的工藝腔室，工藝腔室頂端通過上法蘭密封組與腔室上蓋緊密連接，底端與外部的氣體處理裝置連通，在工藝腔室內配套使用多個石墨盤，每個石墨盤上承載若干個硅片后逐層疊放在工藝腔室內。本發明具有一個豎向設置的主機室，主機室內至少具有一個豎向設置的工藝腔室，通過立式的工藝腔室實現光伏電池鈍化工藝。該裝置占地面積小，布局更加合理，集約程度高，提高生產效率，降低生產成本。

技術領域

本發明涉及光伏電池鈍化技術領域，尤其是一種立式光伏電池鈍化沉積裝置。

背景技術

目前，光伏電池鈍化沉積工藝普遍采用臥式設備，比如臥式PECVD設備，臥式PECVD設備由凈化臺、廢氣室、爐體柜、氣源真空柜等部分組成。凈化臺裝有推舟系統、自動上下料系統等機構，推舟系統與反應管相對應，將石墨舟送入反應管，自動上下料系統實現石墨舟在緩存架和推舟系統之間的搬運。爐體柜中從下至上裝有多個反應室，反應室是由加熱爐體、一個石英管及一組密封法蘭構成的真空熱反應容器，用來在硅片上沉積鍍膜。氣源真空柜則裝有工藝氣體系統、真空系統以及射頻電源柜等，每根反應管配置獨立的氣體輸送系統和真空系統，氣體從工藝管的前端送入，真空系統由干式真空泵、抽氣管道、調節管內壓力的真空蝶閥等組成，射頻電源是為反應管中形成等離子體提供電能的部件。臥式PECVD設備存在占地面積大，布局不合理，集約程度低等缺點，造成生產效率低，生產成本高。

發明內容

本申請人針對上述現有臥式光伏電池鈍化沉積設備存在的占地面積大，布局不合理，集約程度低，造成生產效率低，生產成本高等缺點，提供了一種結構合理的立式光伏電池鈍化沉積裝置，具有立式的工藝腔室，能夠借助豎向疊放的石墨盤結構，實現光伏電池鈍化工藝，該裝置占地面積小，布局更加合理，集約程度高，提高生產效率，降低生產成本。

本發明所采用的技術方案如下：

一種立式光伏電池鈍化沉積裝置，具有一個豎向設置的主機室，主機室內至少具有一個豎向設置的工藝腔室，工藝腔室頂端通過上法蘭密封組與腔室上蓋緊密連接，底端與外部的氣體處理裝置連通，在工藝腔室內配套使用多個石墨盤，每個石墨盤上承載若干個硅片后逐層疊放在工藝腔室內。

作為上述技術方案的進一步改進：

在石墨盤上表面開設有若干個載片槽，載片槽由上部淺槽和淺槽下方的槽底開孔共同構成，載片槽的上部淺槽的尺寸大于下部的槽底開孔尺寸，兩者的尺寸差形成一個臺階。

在載片槽的上方放置有壓板，壓板中部開有與載片槽的槽底開孔對應的上開孔，上開孔的尺寸和形狀與載片槽的槽底開孔一致。

載片槽的上部淺槽的深度等于或大于兩個硅片的厚度，當上部淺槽的深度等于兩個硅片的厚度時，壓板的外周形狀大于上部淺槽的尺寸，覆蓋在上部淺槽上方；當上部淺槽的深度大于兩個硅片的厚度時，壓板的外周形狀與上部淺槽一致，容納并限位在上部淺槽內。

在石墨盤上開設有用于串接電極桿的電極槽。

多個石墨盤豎向疊放時，石墨盤交替錯位放置，相鄰的前后兩個石墨盤的電極槽錯位分布，而第N個石墨盤和間隔一個石墨盤的第N+2個石墨盤在豎直方向上相互重疊，且兩者的電極槽相對，分布在同一條直線上。

多個石墨盤豎向疊放時，會形成不同位置上沿直線分布的兩組電極槽，其中一組電極槽與上電極桿對應，由上電極桿串聯；另外一組電極槽與下電極桿對應，由下電極桿串聯。

工藝腔室的內壁為石英襯管，石英襯管的外周沿軸向套設保護套管，保護套管外部為加熱爐體。

工藝腔室底端通過下法蘭密封組與腔室下蓋緊密連接，氣體處理裝置通過氣管連通到工藝腔室內，氣管連接在工藝腔室的底端或兩端上，貫通到工藝腔室的內部。