[發(fā)明專利]清潔機(jī)系統(tǒng)的控制方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011570350.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114098550B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高新忠;高令宇;方恩光;王超;甘嵩;鄧杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 曲阜信多達(dá)智能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | A47L11/282 | 分類號(hào): | A47L11/282;A47L11/40 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 273100 山東省*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清潔 系統(tǒng) 控制 方法 | ||
1.清潔機(jī)系統(tǒng)的控制方法,清潔機(jī)系統(tǒng)包括清潔機(jī),清潔機(jī)上設(shè)置有運(yùn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)來(lái)對(duì)工作面進(jìn)行清潔的旋拖組件,其特征在于:旋拖組件設(shè)置為相對(duì)工作面水平旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu),且旋拖組件的數(shù)量為兩個(gè)及以上,當(dāng)旋拖組件的數(shù)量為兩個(gè)時(shí)兩個(gè)旋拖組件并列分布且水平旋轉(zhuǎn)方向設(shè)置為相反,且當(dāng)旋拖組件位于工作面上且水平旋轉(zhuǎn)時(shí)旋拖組件的底部表面相對(duì)工作面具有不均衡的摩擦力使得通過(guò)旋拖組件帶動(dòng)清潔機(jī)在工作面上進(jìn)行位移行走;
清潔機(jī)上設(shè)置有壓接組件,壓接組件至少壓接兩個(gè)旋拖組件的一部分并使得兩個(gè)旋拖組件相對(duì)工作面具有不均衡的摩擦力或兩個(gè)旋拖組件上分別設(shè)置有壓接組件且兩個(gè)壓接組件分別壓接兩個(gè)旋拖組件的一部分使得兩個(gè)旋拖組件相對(duì)工作面具有不均衡的摩擦力;
當(dāng)壓接組件壓接旋拖組件時(shí)旋拖組件上形成壓接區(qū)和清潔區(qū),清潔區(qū)和壓接區(qū)主要形成在旋拖組件的底部表面上,使得旋拖組件的底部表面形成該兩個(gè)區(qū)域;
清潔區(qū)設(shè)置為接觸工作面的結(jié)構(gòu)來(lái)用于對(duì)工作面進(jìn)行清潔,壓接區(qū)設(shè)置為接觸工作面的結(jié)構(gòu)來(lái)用于對(duì)工作面進(jìn)行清潔,且壓接區(qū)在接觸工作面進(jìn)行清潔的同時(shí)還具備相對(duì)清潔區(qū)對(duì)工作面有更大的壓力;
壓接組件包括壓接件,壓接件設(shè)置為至少部分向下延伸壓接接觸旋拖組件來(lái)進(jìn)行施加壓力使得旋拖組件的底部表面與工作面接觸的區(qū)域內(nèi)具有不同的壓力;
設(shè)置壓接區(qū)相對(duì)工作面的最大壓強(qiáng)大于清潔區(qū)內(nèi)相對(duì)工作面的最小壓強(qiáng),且設(shè)置清潔區(qū)的面積大于壓接區(qū)的面積;
壓接件設(shè)置為可活動(dòng)的結(jié)構(gòu)并在壓接件上連接有彈性件來(lái)構(gòu)成為壓接件對(duì)旋拖組件施加壓力時(shí)可隨旋拖組件的波動(dòng)而調(diào)整位置高度的結(jié)構(gòu);
清潔機(jī)系統(tǒng)還包括清洗裝置,清洗裝置至少用于放置清潔機(jī)并對(duì)旋拖組件進(jìn)行清洗;還包括以下步驟:
步驟S02:清潔機(jī)位于清洗裝置上并至少部分嵌入到清洗裝置上的工作區(qū)內(nèi),工作區(qū)內(nèi)盛放有清洗液;
步驟S03:清潔機(jī)上的控制模塊接收到清洗指令,控制模塊控制旋拖組件運(yùn)動(dòng)旋轉(zhuǎn);
步驟S04:清洗裝置上的送液機(jī)構(gòu)工作來(lái)將工作區(qū)內(nèi)的部分清洗液帶動(dòng)朝向旋拖組件方向進(jìn)行移動(dòng)并使得部分清洗液接觸旋拖組件,旋拖組件接觸清洗機(jī)構(gòu)并接觸清洗液形成刮擦清洗結(jié)構(gòu);
步驟S05:旋拖組件上的清洗液在清洗機(jī)構(gòu)的刮擦下回落至工作區(qū)內(nèi)的清洗液中進(jìn)行混合;
步驟S06:從步驟S04至步驟S05進(jìn)行循環(huán),循環(huán)次數(shù)為N,N1;
步驟S07:當(dāng)旋拖組件運(yùn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)時(shí)長(zhǎng)達(dá)到第一預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)時(shí),旋拖組件接觸清洗機(jī)構(gòu)但不接觸清洗液形成刮擦甩干除水結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔機(jī)系統(tǒng)的控制方法,其特征在于:在步驟S03中,清洗指令來(lái)源于用戶啟動(dòng),或來(lái)源于清潔機(jī)上和/或清洗裝置上的感應(yīng)組件來(lái)檢測(cè)判斷清潔機(jī)是否位于清洗裝置上且若檢測(cè)到清潔機(jī)位于清洗裝置上則自動(dòng)啟動(dòng)控制模塊內(nèi)的清洗指令或提醒用戶啟動(dòng)清洗指令。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔機(jī)系統(tǒng)的控制方法,其特征在于:在步驟S04中,送液機(jī)構(gòu)設(shè)置為運(yùn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu),送液機(jī)構(gòu)啟動(dòng)工作時(shí)送液機(jī)構(gòu)水平旋轉(zhuǎn)或滾動(dòng)旋轉(zhuǎn)來(lái)對(duì)清洗液進(jìn)行移送至旋拖組件上;
送液機(jī)構(gòu)上設(shè)置有擋液部,當(dāng)送液機(jī)構(gòu)水平旋轉(zhuǎn)時(shí)且擋液部設(shè)置為與清洗液液面呈一角度A來(lái)推動(dòng)清洗液向旋拖組件方向進(jìn)行移動(dòng),或當(dāng)送液機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)滾動(dòng)時(shí)且擋液部設(shè)置為與清洗液液面呈一角度B來(lái)推動(dòng)清洗液向旋拖組件方向進(jìn)行移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔機(jī)系統(tǒng)的控制方法,其特征在于:在步驟S07中,當(dāng)送液機(jī)構(gòu)設(shè)置為可運(yùn)動(dòng)的結(jié)構(gòu)時(shí),送液機(jī)構(gòu)停止旋轉(zhuǎn)或者切換為反向旋轉(zhuǎn)使得工作區(qū)內(nèi)的清洗液不接觸旋拖組件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清潔機(jī)系統(tǒng)的控制方法,其特征在于:當(dāng)清潔機(jī)位于清洗裝置上時(shí),旋拖組件與送液機(jī)構(gòu)對(duì)接相連來(lái)帶動(dòng)送液機(jī)構(gòu)同步水平旋轉(zhuǎn),或者旋拖組件的一部分接觸送液機(jī)構(gòu)的一部分來(lái)帶動(dòng)送液機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)滾動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔機(jī)系統(tǒng)的控制方法,其特征在于:清洗機(jī)構(gòu)至少部分位于清洗液液面以上并至少部分與旋拖組件的底部表面接觸使得旋拖組件的底部表面形成壓接變形結(jié)構(gòu),送液機(jī)構(gòu)的至少部分位于清洗液液面以下或者至少部分與清洗液相連通。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于曲阜信多達(dá)智能科技有限公司,未經(jīng)曲阜信多達(dá)智能科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011570350.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





